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방사선 치료 장치의 선량을 검증하기 위한 방법에 있어서,방사선 검출기와 소스가 거리 L1이 되도록 설정하여 L1에서 선량 프로파일을 측정하는 제1단계;상기 방사선 검출기와 소스가 거리 L2가 되도록 설정하여 L2에서 선량 프로파일을 측정하는 제2단계(ρ=L1/L2003c#1); 및상기 제1단계 및 제2단계에서 측정된 선량 프로파일을 이용하여 방사선 검출기의 커넬 K(x)를 도출해내는 제3단계;를 포함하여 이루어지되,상기 커넬이 K(x)인 방사선 검출기보다 스케일이 ρ배 만큼 작아진 방사선 검출기의 커넬을 먼저 도출해내어, 상기 방사선 검출기의 커넬 K(x)를 도출해내는 것을 특징으로 하는 방사선 검출기의 커넬 도출 방법
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제 1항에 있어서, 상기 방사선 검출기의 커넬이 K(x)이면,L1에서 측정된 방사선의 선량 프로파일은 로 주어지고,L2에서 측정된 방사선의 선량 프로파일은 로 주어지며,여기서 , 는 L1, L2에서의 실제 선량 프로파일이고,, 를 측정함으로써 방사선 검출기의 커넬을 도출해내는 것을 특징으로 하는 방사선 검출기의 커넬 도출 방법
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제 2항에 있어서, 상기 실제 선량 프로파일 , 는,의 관계식을 만족하며,여기에서 이고 것을 특징으로 하는 방사선 검출기의 커넬 도출 방법
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제 3항에 있어서, 상기 의 관계식으로부터를 정의하고,여기서 이며,상기 를 대입하여 를 얻고,여기서 이며, 커넬이 K(x)인 방사선 검출기보다 스케일이 ρ배 만큼 작아진 방사선 검출기의 커넬을 도출해내는 것을 특징으로 하는 방사선 검출기의 커넬 도출 방법
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제 1항에 있어서, 상기 방사선 검출기는,이온 전리함 검출기 또는 이온 전리함 배열 검출기인 것을 특징으로 하는 방사선 검출기의 커넬 도출 방법
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제 6항에 있어서, 상기 소스와 방사선 검출기 사이에는,물 팬텀(phantom)이 배치되며,상기 방사선 검출기는 상기 물 팬텀을 통과한 방사선을 검출하는 것을 특징으로 하는 방사선 검출기의 커넬 도출 방법
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