맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

ＮｉＯ 나노시트의 제조방법 및 그 방법에 의하여 제조된 ＮｉＯ 나노시트

  • 기술번호 : KST2017004521
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기판을 니켈 아세테이트 하이드레이트를 포함한 알코올 용액으로 스핀코팅하는 제1단계; 상기 기판을 가열 및 건조하고 300 내지 400℃의 관상로에 위치시켜 NiO 시드를 형성하는 제2단계; 상기 니켈 나이트레이트 하이드레이트 및 알킬렌아민 수용액 내에 상기 시드 형성된 기판을 위치시켜 NiO 시트를 성장시키는 제3단계; 및 상기 3단계를 거친 기판을 70 내지 100℃의 온도로 가열하여 건조한 다음 산소 하에 400 내지 500℃의 온도로 가열하여 NiO 나노시트를 형성하는 제4단계를 포함하는 NiO 나노시트의 제조방법을 개시한다. 본 발명의 제조방법에 따르면, 표면이 규칙적이면서 균일한 다공성 NiO 나노시트를 얻을 수 있고, 다공성 NiO 나노시트는 전기저항이 낮아져 전기적 성능이 개선되고, 높은 전류밀도를 나타내고 전기적 안정성을 얻을 수 있고, 리튬이 도핑된 NiO 나노시트는 NiO 나노시트보다 더 높은 전류밀도를 나타낼 수 있어서 이러한 나노시트는 전자 소자 어셈블리로 유용하게 응용될 수 있다.
Int. CL B82B 3/00 (2006.01) C01G 53/04 (2006.01) H01B 1/08 (2006.01)
CPC C01G 53/04(2013.01) C01G 53/04(2013.01) C01G 53/04(2013.01) C01G 53/04(2013.01)
출원번호/일자 1020120023149 (2012.03.07)
출원인 부산대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1338215-0000 (2013.11.27)
공개번호/일자 10-2013-0102158 (2013.09.17) 문서열기
공고번호/일자 (20131205) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.03.07)
심사청구항수 7

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 후이 홍콩 부산 금정구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김성현 대한민국 부산광역시 연제구 중앙대로 ****, *층 (거제동)(아너스특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 부산광역시 금정구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.03.07 수리 (Accepted) 1-1-2012-0184188-30
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2013.06.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2013.07.09 수리 (Accepted) 9-1-2013-0054543-74
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0575502-26
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2013-0950250-10
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.10.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0950267-96
7 등록결정서
Decision to grant		 2013.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0802363-35
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000027-56
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.01.13 수리 (Accepted) 4-1-2016-5004891-78
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004005-98
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004797-18
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
삭제
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
기판을 니켈 아세테이트 하이드레이트를 포함한 알코올 용액으로 스핀코팅하는 제1단계;상기 기판을 가열 및 건조하고 300 내지 400℃의 관상로에 위치시켜 NiO 시드를 형성하는 제2단계;니켈 나이트레이트 하이드레이트과 알킬렌아민 수용액, 및 리튬 할로겐 하이드레이트를 포함한 용액 내에 상기 시드 형성된 기판을 위치시켜 NiO 시트를 성장시키는 제3단계;상기 NiO 시트가 성장된 기판을 70 내지 100℃의 온도로 가열하여 건조하는 제4단계; 및 상기 건조된 기판을 산소 하에 400 내지 500℃의 온도로 가열하여 NiO 나노시트를 형성하는 제5단계를 포함하는 NiO 나노시트의 제조방법
6 6
제5항에 있어서,상기 리튬 할로겐 하이드레이트는 리튬 클로라이드 모노하이드레이트인 것을 특징으로 하는 NiO 나노시트의 제조방법
7 7
제5항에 있어서,상기 리튬 할로겐 하이드레이트의 농도는 0
8 8
제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조된 NiO 나노시트
9 9
제8항에 있어서,상기 NiO 나노시트의 두께는 200 내지 400 nm이고, 높이가 6 내지 8㎛인 것을 특징으로 하는 NiO 나노시트
10 10
제8항에 있어서,상기 Ni의 농도가 50 내지 100 mM에서 전기저항이 300 내지 500Ωcm인 것을 특징으로 하는 NiO 나노시트
11 11
제8항에 따른 NiO 나노시트를 채용한 나노 소자 어셈블리
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.