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금나노입자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2017004537
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 금나노입자의 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 염화금산(HAuCl4)을 증류수에 녹여 염화금산 용액을 제조하는 제 1단계; 제 1 파이토 화합물 용액에 제 2 파이토 화합물을 혼합하여 혼합용액을 제조하는 제 2단계; 상기 혼합용액을 상기 제1단계의 염화금산 용액에 첨가한 후 교반하여 금나노입자를 형성하는 제 3단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명은 상기 형성된 금나노입자를 고분자 용액에 첨가한 후 초음파 분해를 수행하여 고분자를 금나노입자에 코팅하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
Int. CL B82B 3/00 (2006.01) C01G 7/00 (2006.01) B22F 9/24 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020127014924 (2012.06.08)
출원인 부산대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1344051-0000 (2013.12.16)
공개번호/일자 10-2012-0091345 (2012.08.17) 문서열기
공고번호/일자 (20131224) 문서열기
국제출원번호/일자 PCT/KR2010/007516 (2010.10.29)
국제공개번호/일자 WO2011053037 (2011.05.05)
우선권정보 대한민국  |   1020090104313   |   2009.10.30
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국제출원
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.06.08)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이재범 대한민국 대전광역시 서구
2 이재욱 대한민국 경기 파주시 송화로 **,

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김순웅 대한민국 서울시 구로구 디지털로**길 **, ***호 (구로동,에이스테크노타워*차)(정진국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 부산광역시 금정구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허법 제203조에 따른 서면
[Patent Application] Document according to the Article 203 of Patent Act		 2012.06.08 수리 (Accepted) 1-1-2012-0458178-88
2 수리안내서
Notice of Acceptance		 2012.07.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0086719-02
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0603442-87
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.09.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0803391-35
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.09.03 수리 (Accepted) 1-1-2013-0803386-17
6 등록결정서
Decision to grant		 2013.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0802372-46
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000027-56
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.01.13 수리 (Accepted) 4-1-2016-5004891-78
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004005-98
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004797-18
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번호 청구항
1 1
염화금산(HAuCl4)을 증류수에 녹여 염화금산 용액을 제조하는 제 1단계; 제1 파이토 화합물 용액에 제 2 파이토 화합물을 혼합하여 혼합용액을 제조하는 제 2단계; 상기 혼합용액을 상기 제1단계의 염화금산 용액에 첨가한 후 교반하여 금나노입자를 형성하는 제 3단계;를 포함하는 금나노입자의 제조방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 형성된 금나노입자를 고분자 용액에 첨가한 후 초음파 처리를 수행하여 고분자를 금나노입자에 코팅하는 단계를 추가로 포함하는 금나노입자의 제조방법
3 3
제 1항에 있어서,상기 제 1 파이토 화합물은 갈산 또는 프로토카테킨산인 것을 특징으로 하는 금나노입자의 제조방법
4 4
제 1항에 있어서,상기 제 2 파이토 화합물은 이소플라본인 것을 특징으로 하는 금나노입자의 제조방법
5 5
제 1항에 있어서,상기 제 1단계는 0
6 6
제 1항에 있어서,상기 제 2단계는 0
7 7
제 1항에 있어서,상기 제 3단계는 혼합용액을 제1단계의 염화금산 용액에 0
8 8
제 2항에 있어서,상기 고분자는 폴리에틸렌그리콜(PEG)인 것을 특징으로 하는 금나노입자의 제조방법
9 9
제 2항에 있어서,상기 고분자 용액은 1 내지 4%(w/v)의 고분자 용액인 것을 특징으로 하는 금나노입자의 제조방법
10 10
제 2항에 있어서,상기 금나노 입자를 고분자 용액에 첨가하는 부피비는 금나노입자 : 고분자 용액 = 1 : 2 내지 4 인 것을 특징으로 하는 금나노입자의 제조방법
11 11
제 1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 의하여 제조 된 pH 안정성을 가지는 금나노입자
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2 WO2011053037 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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