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유기막; 및상기 유기막 상에 배치되고, 각각이 마이크로홀 또는 나노홀의 형태의 균일한 크기를 갖는 개구들이 형성된 패턴층을 포함하되,상기 패턴층의 개구들을 통해 상기 유기막의 표면이 노출되는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크
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제1항에 있어서,상기 패턴층은표면에 금속 또는 금속 산화물이 코팅되거나,금속 또는 금속 산화물로 형성된 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크
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제1항에 있어서,상기 개구들 각각은 상기 유기막에 의해 부분적으로 채워지는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크
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유기막을 준비하는 단계; 및상기 유기막 상에, 각각이 마이크로홀 또는 나노홀의 형태를 갖는 다수의 개구들이 형성된 패턴층을 형성하는 단계를 포함하되,상기 패턴층은 표면에 금속 및 금속 산화물 중 어느 하나가 코팅되거나, 금속 및 금속 산화물 중 어느 하나로 형성되고,상기 패턴층의 개구들을 통해서 상기 유기막의 표면이 노출된 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 패턴층을 형성하는 단계는상기 유기막 상에 상기 패턴층을 배치시키는 단계;진공 또는 감압 조건에서 상기 유기막의 유리전이온도 이상으로 상기 패턴층이 배치된 상기 유기막을 열처리하는 단계; 및열처리된 패턴층 및 상기 유기막을 냉각시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 패턴층은,금속막을 준비하는 단계;상기 금속막을 양극 산화시켜 금속 산화물층을 형성하는 단계; 및상기 금속 산화물층의 일부를 상기 금속막으로부터 분리하는 단계를 거쳐 형성되고,상기 금속막으로부터 분리된 상기 금속 산화물층의 일부인 상기 패턴층을 상기 유기막 상에 배치시키는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 패턴층은임프린트 패턴에 금속 또는 금속 산화물을 코팅하거나, 금속막 또는 금속 산화물막을 식각하여 형성하는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 패턴층을 형성하는 단계 이후에, 상기 개구들을 통해 노출된 유기막을 제거하여 상기 유기막에 홀들을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,플라즈마를 이용한 고분자막 식각용 마스크의 제조 방법
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고분자막 상에, 상기 고분자막과 접촉하는 유기막 및 상기 유기막 상에 배치되고 각각이 마이크로홀 또는 나노홀의 형태를 갖는 다수의 개구들이 형성된 패턴층을 포함하는 식각용 마스크를 배치시키는 단계; 및상기 식각용 마스크가 배치된 상태에서, 상기 고분자막을 플라즈마 식각하여 상기 고분자막에 다수의 관통홀들을 형성하는 단계를 포함하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 패턴층의 개구들은 균일한 크기를 갖는 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 관통홀들을 형성한 후, 상기 식각용 마스크의 유기막과 상기 고분자막의 손상 없이, 상기 고분자막으로부터 상기 식각용 마스크가 제거되는 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 고분자막은 엘라스토머로 형성된 탄성 고분자막인 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 고분자막은천연고무(Natural Rubber), 폴리이소프렌(polyisoprene), 폴리클로로프렌(polychloroprene), 폴리부타디엔(polybutadiene), 스티렌부타디엔 고무(Styrene Butadiene Rubber, SBR), 아크릴로니트릴부타디엔 고무(acrylonitrile butadiene rubber), 에틸렌프로필렌디엔모노머(ethylene Propylene Diene Monomer, EPDM), 클로로술포네이티드 폴리에틸렌(chlorosulfonated polyethylene, CSM), 디부톡시에톡시에틸 아디페이트(Dibutoxyethoxyethyl Adipate, DBEA), 폴리에피클로로히드린 (Polyepichlorohydrin, PECH), 폴리우레탄(Polyurethane, PU), 에틸렌 아크릴산 공중합체(Ethylene acrylic acid copolymer, EAA), 테트라플루오르 에틸렌/프로필렌 고무(tetrafluoro ethylene/propylene rubbers, FEPM), 퍼플루오르-엘라스토머(perfluoro-elastomers, FFKM) 및 폴리노보넨(Polynorbornene)로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나로 형성되고,상기 유기막은폴리에틸렌 (Polyethylene, PE), 폴리프로필렌 (Polypropylene, PP), 폴리스티렌 (Polystyrene, PS), 폴리염화비닐 (Poly(vinyl chloride), PVC), 폴리메틸메타크릴레이트 (Poly(methyl methacrylate), PMMA), 폴리비닐아세테이트(Poly(vinyl acetate), PVA), 폴리아크릴로니트릴 (Polyacrylonitrile, PAN), 테트라플루오르에틸렌 (Polytetrafluoroethylene, teflon), 폴리디시클로펜타디엔 (Polydicyclopentadiene), 폴리페닐렌설파이드 (Poly(phenylene sulfide)), 카본섬유 (Carbon Fiber), 에폭시 수지(Epoxy resin), 폴리에스테르(Polyester), 폴리아미드(Polyamide), 폴리클로로프렌(Polychloroprene), 폴리카보네이트 (Polycarbonate), 폴리글리콜라이드 (Polyglycolide, PGA) 및 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS)을 포함하는 합성 폴리머; 및 셀룰로오스(Cellulose), 녹말(Starch), 키틴(Chitin), 키토산(chitosan), 케라톤(Keratin), 콜라겐(Collagen), 젤라틴(Gelatin), 알지네이트(alginate), 히알루로난(hyaluronan), 콘드로이틴황산(chondroitin sulfate), 실크(silk), 핵산(DNA)을 포함하는 천연 폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 관통홀들을 형성하는 단계는상기 유기막 및 상기 고분자막을 모두 식각하는 산소 플라즈마를 이용하는 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 유기막은상기 패턴층의 개구들 각각과 대응하는 홀들을 포함하는 것을 특징으로 하는,다공성 멤브레인의 제조 방법
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