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제1 세라믹 하이브리드 코팅막; 및 상기 제1 세라믹 하이브리드 코팅막의 적어도 일면에 위치하는 제2 세라믹 하이브리드 코팅막을 포함하고,상기 제1 세라믹 하이브리드 코팅막은, 분산 처리된 그래핀(RGO: reduced graphene oxide) 0
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제1항에 있어서,상기 제1 세라믹 하이브리드 코팅막은, 분산 처리된 그래핀(RGO: reduced graphene oxide) 0
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제1항에 있어서,상기 제1 세라믹 하이브리드 코팅막은, 분산 처리된 그래핀(RGO: reduced graphene oxide) 0
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제1항에 있어서,상기 실리카 나노 입자의 평균 직경은 5 nm 내지 30 nm인 세라믹 하이브리드 다층 코팅막
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제1항에 있어서,상기 화학식 1은 하기 화학식 1-1 내지 1-3 중 어느 하나로 표시되고,상기 화학식 2는 하기 화학식 2-1 내지 2-3 중 어느 하나로 표시되는 세라믹 하이브리드 다층 코팅막:[화학식 1-1]X1-M-(OH)3[화학식 1-2]X1X2-M-(OH)2[화학식 1-3]X1X2X3-M-(OH)[화학식 2-1]X4-M-(OH)3[화학식 2-2]X5X6-M-(OH)2[화학식 2-3]X7X8X9-M-(OH)상기 화학식 1-1 내지 1-3, 및 2-1 내지 2-3에서,M은 Si, Ti, Ag, Sn, In, Zn, 및 이들의 조합에서 선택되고,X1 내지 X3은 각각 독립적으로, 에폭시기, 글리시독시기, 카르복실기, 아미노기, 아진기, 아졸기, 우레이도기, 이소시아네이트기, 옥시이미노기, 모르폴리닐기, 피페라지닐기, 플루오로기, 클로로기, 브로모기, 요오드기, 히드록시기, C1 내지 C10 알콕시기, C1 내지 C10 케톤기, C1 내지 C10 아민기, 및 C1 내지 C10 에스테르기로부터 선택되는 적어도 1종의 관능기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬기;에폭시기, 글리시독시기, 카르복실기, 아미노기, 아진기, 아졸기, 우레이도기, 이소시아네이트기, 옥시이미노기, 모르폴리닐기, 피페라지닐기, 플루오로기, 클로로기, 브로모기, 요오드기, 히드록시기, C1 내지 C10 알콕시기, C1 내지 C10 케톤기, C1 내지 C10 아민기, 및 C1 내지 C10 에스테르기로부터 선택되는 적어도 1종의 관능기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알케닐기;에폭시기, 글리시독시기, 카르복실기, 아미노기, 아진기, 아졸기, 우레이도기, 이소시아네이트기, 옥시이미노기, 모르폴리닐기, 피페라지닐기, 플루오로기, 클로로기, 브로모기, 요오드기, 히드록시기, C1 내지 C10 알콕시기, C1 내지 C10 케톤기, C1 내지 C10 아민기, 및 C1 내지 C10 에스테르기로부터 선택되는 적어도 1종의 관능기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알키닐기; 또는에폭시기, 글리시독시기, 카르복실기, 아미노기, 아진기, 아졸기, 우레이도기, 이소시아네이트기, 옥시이미노기, 모르폴리닐기, 피페라지닐기, 플루오로기, 클로로기, 브로모기, 요오드기, 히드록시기, C1 내지 C10 알콕시기, C1 내지 C10 케톤기, C1 내지 C10 아민기, 및 C1 내지 C10 에스테르기로부터 선택되는 적어도 1종의 관능기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C10 시클로알킬기이고,X4 내지 X6은 각각 독립적으로, 비닐기, 아크릴기, 메타크릴기, 티올기, 메르캅토기, C1 내지 C10 설퍼기, 및 C6 내지 C20 아릴기로부터 선택되는 적어도 1종의 관능기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알킬기;비닐기, 아크릴기, 메타크릴기, 티올기, 메르캅토기, C1 내지 C10 설퍼기, 및 C6 내지 C20 아릴기로부터 선택되는 적어도 1종의 관능기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알케닐기;비닐기, 아크릴기, 메타크릴기, 티올기, 메르캅토기, C1 내지 C10 설퍼기, 및 C6 내지 C20 아릴기로부터 선택되는 적어도 1종의 관능기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C30 알키닐기; 또는비닐기, 아크릴기, 메타크릴기, 티올기, 메르캅토기, C1 내지 C10 설퍼기, 및 C6 내지 C20 아릴기로부터 선택되는 적어도 1종의 관능기로 치환 또는 비치환된 C3 내지 C10 시클로알킬기이다
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제1항에 있어서,상기 M은 Si, Ti, 또는 이들의 조합인 세라믹 하이브리드 다층 코팅막
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제1항에 있어서,상기 그래핀 함유 세라믹 하이브리드 졸 용액은 무기계 파우더, 유기 첨가제, 또는 이들의 조합에서 선택된 제1 첨가제를 더 포함하는 세라믹 하이브리드 다층 코팅막
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제7항에 있어서,상기 유기 첨가제는 상기 그래핀 함유 세라믹 하이브리드 졸 용액 100 중량부에 대하여 0
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9
제7항에 있어서,상기 유기 첨가제는 경화제, 수지 바인더, 모노머, 분산제, 분산 안정제, 계면활성제, 폴리이미드 전구체, 유기 용매, 양쪽성 용매, 친수성 용매, 오일류, 산, 염기, 염, 이온류, 레벨링제, 점착제, 실란 커플링제, 열가소성 수지, 전도성 고분자, 또는 이들의 조합인 세라믹 하이브리드 다층 코팅막
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 제2 세라믹 하이브리드 코팅막 내 그래핀의 함량은 상기 제2 세라믹 하이브리드 코팅막의 총 중량에 대하여 0
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제1항에 있어서,상기 제2 세라믹 하이브리드 코팅막은 유기 첨가제, 나노 입자, 세라믹, 분산제, 나노 와이어, 탄소나노튜브, 양자점, 금속, 염, 반도체, 반도성 물질, 바인더, 모노머, 실란, 폴리머, 또는 이들의 조합에서 선택된 제2 첨가제를 더 포함하는 세라믹 하이브리드 다층 코팅막
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제12항에 있어서,상기 제2 첨가제는 상기 제2 세라믹 하이브리드 코팅막 100 중량부에 대하여 0
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제12항에 있어서,상기 나노 입자는 SiO2; 분산 실리카 졸; 분산 실리카 용액; 표면모디파이된 SiO2와 Al2O3, Li4Ti5O12, TiO2, SnO2, CeO2, ZrO2, V2O5, B2O3, BaTiO3, Y2O3, WO3, MgO, CuO, ZnO, AlPO4, AlF, Si3N4, AlN, TiN, WC, SiC, TiC, MoSi2, Fe2O3, GeO2, Li2O, MnO, NiO, 제올라이트, 중공성 세라믹, 및 이들의 혼합 분산 졸; 표면모디파이된 SiO2와 Al2O3, Li4Ti5O12, TiO2, SnO2, CeO2, ZrO2, V2O5, B2O3, BaTiO3, Y2O3, WO3, MgO, CuO, ZnO, AlPO4, AlF, Si3N4, AlN, TiN, WC, SiC, TiC, MoSi2, Fe2O3, GeO2, Li2O, MnO, NiO, 제올라이트, 중공성 세라믹, 및 이들의 혼합 분산액, 및 이들의 조합에서 선택되는 세라믹 하이브리드 다층 코팅막
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그래핀을 분산 처리하고, 상기 분산 처리된 그래핀 0
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제15항에 있어서,상기 제1 세라믹 하이브리드 코팅막을 형성하는 단계는,분산 처리된 그래핀(RGO: reduced graphene oxide)을 0
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제15항에 있어서,상기 제1 세라믹 하이브리드 코팅막을 형성하는 단계는,분산 처리된 그래핀(RGO: reduced graphene oxide)을 0
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제15항에 있어서,상기 그래핀의 분산 처리는, 기계적 분산 처리, 또는 용매 치환법에 의해 수행되는 세라믹 하이브리드 다층 코팅막의 제조 방법
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제18항에 있어서,상기 용매 치환법은,그래핀 분말, 제1 분산제 및 제1 비수계 용매를 혼합하여 그래핀-제1 분산제-제1비수계 용매를 포함하는 분산액을 제조하는 단계;상기 분산액에 제2 비수계 용매 및 수화물의 전구체를 첨가하여 혼합물을 제조하는 단계; 및 상기 혼합물에 제2 분산제 및 물을 혼합하여 그래핀 함유 유-무기 세라믹 하이브리드 졸 형성용 코팅 조성물을 제조하는 단계를 포함하는 세라믹 하이브리드 다층 코팅막의 제조 방법
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삭제
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제15항에 있어서,상기 제2 세라믹 하이브리드 코팅막 내 그래핀의 함량은 상기 제2 세라믹 하이브리드 코팅막의 총 중량에 대하여 0
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제1항 내지 제9항 및 제11항 내지 제14항 중 어느 한 항에 따른 세라믹 하이브리드 다층 코팅막을 포함하는 자동차 헤드 램프
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