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광 빔을 전달하는 광 딜리버리 모듈;상기 광 딜리버리 모듈로부터 전달되는 광 빔의 각도를 변경하여 반사시키는 스캐너;쉴드 가스를 공급하는 가스 통로, 상기 가스 통로의 내측에 배치되어 조형 파우더를 공급하는 파우더 통로, 및 상기 파우더 통로의 내측에 배치되어 상기 스캐너로부터 반사되는 광 빔을 기판의 복수의 위치에 통과시키고 상기 기판에 공급되는 상기 조형 파우더를 멜팅하여 상기 기판에 3차원 구조물을 조형하도록 일 방향으로 더 길게 설정된 길이를 가지는 광 통로를 포함하는 선형 노즐; 및상기 선형 노즐의 상기 길이에 대응하여 상기 기판에 라인 스캔 방식에 의하여 비트맵으로 1차 조형한 외곽을 벡터 스캔 방식에 의하여 매끄러운 표면으로 2차 조형하는 원형 노즐을 포함하며,상기 파우더 통로는 상기 광 통로의 양측에서 상기 길이를 따라 형성되고,상기 가스 통로는 상기 파우더 통로의 양측에서 상기 길이를 따라 형성되고 상기 광 통로의 양단을 따라 더 형성되는라인 스캔 조형이 가능한 선형 노즐을 구비한 3차원 구조물 조형 장치
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제1항에 있어서,상기 스캐너는각도 변경된 상기 광 빔을 상기 선형 노즐에서 상기 광 통로의 대응하는 위치에 반사하는 라인 스캔 조형이 가능한 선형 노즐을 구비한 3차원 구조물 조형 장치
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제1항에 있어서,상기 가스 통로는상기 쉴드 가스를 공급하는 가스 딜리버리 모듈에 연결되는 라인 스캔 조형이 가능한 선형 노즐을 구비한 3차원 구조물 조형 장치
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제1항에 있어서,상기 파우더 통로는상기 조형 파우더를 공급하는 파우더 딜리버리 모듈에 연결되는 라인 스캔 조형이 가능한 선형 노즐을 구비한 3차원 구조물 조형 장치
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제1항에 있어서,상기 원형 노즐은쉴드 가스를 공급하는 가스 통로, 조형 파우더를 공급하는 파우더 통로 및 광 빔을 통과시키는 광 통로를 외곽에서 내측으로 순차적으로 배치한 동심원 구조로 배치하는 라인 스캔 조형이 가능한 선형 노즐을 구비한 3차원 구조물 조형 장치
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제1항에 있어서,상기 스캐너와 상기 선형 노즐 사이에 배치되어 광 빔의 발산각을 조절하는 렌즈를 더 포함하는 라인 스캔 조형이 가능한 선형 노즐을 구비한 3차원 구조물 조형 장치
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제7항에 있어서,상기 조형 파우더는메탈 파우더로 형성되는 라인 스캔 조형이 가능한 선형 노즐을 구비한 3차원 구조물 조형 장치
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제1항에 있어서,상기 스캐너는폴리곤 스캐너 또는 갈바노 스캐노로 형성되는 라인 스캔 조형이 가능한 선형 노즐을 구비한 3차원 구조물 조형 장치
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광 딜리버리 모듈로부터 조사되는 광 빔의 각도를 스캐너로 변경하여 반사시키는 단계;설정된 길이의 광 통로, 상기 광 통로의 양측에서 상기 길이를 따라 형성되는 파우더 통로, 및 상기 파우더 통로의 양측에서 상기 길이를 따라 형성되고 상기 광 통로의 양단을 따라 더 형성되는 가스 통로를 포함하는 선형 노즐에서 상기 광 통로를 통과한 광 빔을 기판의 복수 위치에서 조형 파우더를 멜팅하여 상기 기판에 일 방향으로 설정된 길이의 라인 스캔 방식에 의하여 비트맵으로 3차원 구조물을 1차로 조형하는 단계; 및상기 1차 조형 단계에 이어서, 원형 노즐을 이용하여 조형 파우더를 광 빔으로 멜팅하여, 1차 조형된 3차원 구조물의 외곽을 벡터 스캔 방식에 의하여 매끄러운 표면으로 2차 조형하는 단계를 포함하는 3차원 구조물 조형 방법
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제10항에 있어서,상기 1차 조형 단계는상기 선형 노즐을 라인 스캔의 직각 방향을 따라 단계적으로 이동시키면서 라인 스캔으로 3차원 구조물을 조형하는 3차원 구조물 조형 방법
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제10항에 있어서, 상기 2차 조형 단계는상기 1차 조형 단계의 라인 스캔으로 1차 조형을 완료한 후, 상기 원형 노즐로 2차 조형을 진행하는 3차원 구조물 조형 방법
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제10항에 있어서,상기 2차 조형 단계는상기 1차 조형 단계의 라인 스캔으로 1차 조형을 부분적으로 완료한 후, 상기 원형 노즐로 2차 조형을 1차 조형과 동시에 진행하는 3차원 구조물 조형 방법
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