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방전액이 포함된 방전액 흡수체가 부분적으로 설치된 대상물을 이송하는 이송장치;상기 이송장치에 의해 이송되는 상기 방전액 흡수체와 구름 접촉될 수 있는 제1롤전극; 및상기 제1롤전극이 상기 방전액 흡수체와 접촉되어 상기 대상물에 방전가공으로 패턴이 형성될 수 있도록 상기 대상물과 상기 제1롤전극에 전원을 인가하는 전원인가 장치;를 포함하는, 방전가공 장치
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제1항에 있어서,상기 대상물에 패턴이 형성될 수 있도록 이송되는 상기 대상물의 표면에 상기 방전액 흡수체를 공급하는 방전액 공급장치; 및상기 대상물의 표면에 공급되었던 상기 방전액 흡수체를 회수하는 방전액 흡수체 회수장치;를 더 포함하는, 방전가공 장치
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제2항에 있어서,상기 방전액 공급장치는,상기 방전액 흡수체에 상기 방전액을 함침시키는 방전액 함침장치; 및상기 방전액 함침장치에 의하여 상기 방전액이 함침된 상기 방전액 흡수체를 상기 대상물의 표면에 설치하는 설치장치;를 포함하는, 방전가공 장치
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제1항에 있어서,상기 이송장치는,상기 대상물이 일측에 설치된 제1롤러에서 타측에 설치된 제2롤러로 이송되어 연속 제조 공정이 이루어 질 수 있도록 설치되는 롤투롤 장치인, 방전가공 장치
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제1항에 있어서,상기 대상물은, 세라믹, 유리 및 수지 중 적어도 하나를 포함하는 리지드(Rigid) 기판이고,상기 이송장치는,상기 대상물이 일측부터 타측까지 설치된 컨베이어 장치에 의하여 이송되어 연속 제조 공정이 이루어 질 수 있도록 설치되는 연속 이동 장치인, 방전가공 장치
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제1항에 있어서,상기 제1롤전극은,상기 대상물의 상방에 설치되고, 상기 대상물의 이송방향과 같은 방향으로 회전되고, 그 외부 표면이 상기 대상물의 표면에 설치되는 상기 방전액 흡수체와 접촉될 수 있도록 설치되는 것인, 방전가공 장치
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제1항에 있어서,상기 대상물은,상면에 배선층이 형성되는 유연성 기판이고,상기 전원인가 장치는,상기 배선층에 전기적으로 접촉되는 제2롤전극 또는 브러쉬전극인, 방전가공 장치
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대상물을 이송하는 이송장치;상기 이송장치에 의해 이송되는 상기 대상물과 구름 접촉될 수 있으며, 그 표면에 패터닝 된 방전액 흡수체가 설치되는 제1롤전극; 및상기 제1롤전극에 설치된 상기 방전액 흡수체가 상기 대상물과 접촉되어 상기 대상물에 방전가공으로 패턴이 형성될 수 있도록 상기 대상물과 상기 제1롤전극에 전원을 인가하는 전원인가 장치;를 포함하는, 방전가공 장치
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대상물을 이송하는 이송단계;제1롤전극을 이용하여 상기 이송단계에서 이송되는 상기 대상물과 상기 제1롤전극 사이에 설치되는 방전액 흡수체가 구름 접촉되는 접촉단계; 및상기 제1롤전극이 상기 방전액 흡수체와 접촉되어 상기 대상물에 방전가공으로 패턴이 형성되는 패턴형성단계;를 포함하는, 방전가공 방법
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제9항에 있어서,상기 이송단계는,방전액이 포함된 상기 방전액 흡수체가 부분적으로 설치된 상기 대상물을 이송하는 단계인, 방전가공 방법
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제10항에 있어서,상기 이송단계 이전에,상기 대상물에 패턴이 형성될 수 있도록 이송되는 상기 대상물의 표면에 상기 방전액 흡수체를 공급하는 공급단계;를 더 포함하고,상기 패턴형성단계 이후에,상기 대상물의 표면에 공급되었던 상기 방전액 흡수체를 회수하는 회수단계;를 더 포함하는, 방전가공 방법
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제9항에 있어서,상기 접촉단계는,그 표면에 패터닝된 방전액 흡수체가 설치되는 상기 제1롤전극과 상기 이송단계에서 이송되는 상기 대상물이 구름 접촉되는 단계인, 방전가공 방법
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