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하기 화학식 2로 표시되는 페놀 유도체와 할로겐 화합물을 반응하여 하기 화학식 3으로 표시되는 디-할로치환 페놀 유도체를 제조하는 1단계; 및 팔라듐 촉매 및 염기 조건 하에서 하기 화학식 3으로 표시되는 디-할로치환 페놀 유도체와 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 반응하여 하기 화학식 1로 표시되는 디-스티레네이티드 페놀 유도체를 제조하는 2단계;를 포함하고, 상기 2단계에서 상기 염기는 상기 디-할로치환 페놀 유도체 1몰을 기준으로 1 내지 5몰 범위로 사용되는 것인 디-스티레네이티드 페놀 유도체의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 팔라듐 촉매는 Pd(Ph3)4, Pd(dppf)Cl2, Pd(dppf)Cl2·CH2Cl2 및 Pd(dba)2에서 선택되는 하나 이상인 디-스티레네이티드 페놀 유도체의 제조방법
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3
제 2항에 있어서,상기 할로겐 화합물은 N-클로로석신이미드, N-브로모석신이미드, F2, Cl2, Br2 및 I2에서 선택되는 하나 이상인 디-스티레네이티드 페놀 유도체의 제조방법
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4
제 3항에 있어서,상기 할로겐 화합물은 페놀 유도체 1 몰을 기준으로 2
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제 1항에 있어서, 상기 1단계는 염기 조건하에서 수행되는 것인 디-스티레네이티드 페놀 유도체의 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 1단계는 피리딘, 피리미딘, 트리에틸아민, 디에틸아민, 아이소프로필아민, N,N-디아이소프로필아민 및 N,N-디메틸아미노피리딘에서 선택되는 하나 이상의 염기를 포함하는 것인 디-스티레네이티드 페놀 유도체의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 2단계는 탄산세슘(Cs2CO3), 탄산나트륨(Na2CO3), 탄산칼륨(K2CO3), 탄산바륨(Ba2CO3), 수산화나트륨(NaOH), 수산화칼륨(KOH) 및 암모니아수(NH4OH)에서 선택되는 하나 이상의 염기 조건 하에서 수행되는 것인 디-스티레네이티드 페놀 유도체의 제조방법
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8
제 1항에 있어서,상기 2단계는 불활성 기체에 의한 불활성 조건에서 수행되는 것인 디-스티레네이티드 페놀 유도체의 제조방법
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제 8항에 있어서,상기 2단계는 60 내지 120 ℃ 범위의 온도에서 수행되는 것인 디-스티레네이티드 페놀 유도체의 제조방법
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10
제 2항에 있어서,상기 팔라듐 촉매는 디-할로치환 페놀 유도체 1몰을 기준으로, 0
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