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베이스 입자 및 발수성을 가지며 상기 베이스 입자의 표면에 형성되는 발수층을 포함하는 초발수 입자 및 조성물 원료가 전체적으로 혼합되어 형성되는 조성물이며,상기 조성물은 합성 섬유 원료 조성물이며,상기 발수층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(1)로 표시되는 실란계 화합물을 포함하며, 구조식(1) 또는 (여기서, n은 4 ~ 25이다
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베이스 입자 및 발수성을 가지며 상기 베이스 입자의 표면에 형성되는 발수층을 포함하는 초발수 입자 및 조성물 원료가 전체적으로 혼합되어 형성되는 조성물이며,상기 조성물은 합성 섬유 원료 조성물이며,상기 발수층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(2)로 표시되는 인산계 화합물을 포함하며,구조식(2)혹은 (여기서, n은 4 ~ 25이다
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제 3 항에 있어서,상기 발수층은 (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) trichlorosilane (HDF-S)로 형성되는 것을 특징으로 하는 조성물
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제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 베이스 입자는 플라즈마 처리되어 형성되는 것을 특징으로 하는 조성물
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제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 초발수 입자는 상기 조성물 전체 중량에 대하여 1중량% 내지 10중량%로 혼합되는 것을 특징으로 하는 조성물
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제 5 항에 있어서,상기 발수층은 Octadecylphosphonic acid(OD-PA) 또는 (1H,1H,2H,2H-heptadecafluorodec-1-yl) phosphonic acid(HDF-PA)로 형성되는 것을 특징으로 하는 조성물
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