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박형 실리콘 기판의 제조장치(Apparatus of fabricating thin film silicon substrate)

  • 기술번호 : KST2017006324
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 양질의 박형 실리콘 기판을 안정적으로 구현하기 위한 박형 실리콘 기판의 제조장치로서, 실리콘 모재가 실장되는 서셉터를 구비하되, 상기 실리콘 모재의 상면에 니켈층을 형성하는 도금 공정을 수행할 수 있도록 도금 용액을 수용하며, 니켈과 실리콘의 응력 차이로 인하여 크랙이 전파되면서 상기 니켈층과 상기 실리콘 모재의 일부인 박형 실리콘이 상기 실리콘 모재의 나머지로부터 박리 분리됨으로써 상기 니켈층과 상기 박형 실리콘의 복합 구조체를 제공할 수 있는, 제 1 반응조; 상기 복합 구조체로부터 니켈층을 제거하여 박형 실리콘 기판을 형성하기 위한 니켈 에칭 용액을 수용한 제 2 반응조; 상기 제 1 반응조로부터 상기 제 2 반응조로 상기 복합 구조체를 리프트(lift)하여 이송할 수 있도록 구성된 이송장치;를 구비한다.
Int. CL H01L 31/18 (2006.01.01) H01L 31/0392 (2006.01.01) H01L 31/0236 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01)
CPC H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01) H01L 31/18(2013.01)
출원번호/일자 1020150132035 (2015.09.18)
출원인 영남대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0033996 (2017.03.28) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.08.21)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 영남대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 경산시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정재학 대한민국 대구광역시 수성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.09.18 수리 (Accepted) 1-1-2015-0908622-41
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2017-5175631-14
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5220555-67
4 [심사청구]심사청구서·우선심사신청서
 2020.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2020-0878063-42
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
실리콘 모재가 실장되는 서셉터를 구비하되, 상기 실리콘 모재의 상면에 니켈층을 형성하는 도금 공정을 수행할 수 있도록 도금 용액을 수용하며, 니켈과 실리콘의 응력 차이로 인하여 크랙이 전파되면서 상기 니켈층과 상기 실리콘 모재의 일부인 박형 실리콘이 상기 실리콘 모재의 나머지로부터 박리 분리됨으로써 상기 니켈층과 상기 박형 실리콘의 복합 구조체를 제공할 수 있는, 제 1 반응조; 상기 복합 구조체로부터 니켈층을 제거하여 박형 실리콘 기판을 형성하기 위한 니켈 에칭 용액을 수용한 제 2 반응조;상기 제 1 반응조로부터 상기 제 2 반응조로 상기 복합 구조체를 리프트(lift)하여 이송할 수 있도록 구성된 이송장치;를 구비하는, 박형 실리콘 기판의 제조장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 실리콘 모재 측면의 적어도 일부에 레이저 스크라이빙 공정으로 크랙 전파의 시작 영역인 그루브(groove)를 형성할 수 있는 레이저 장치를 더 구비하는, 박형 실리콘 기판의 제조장치
3 3
제 1 항에 있어서,상기 서셉터의 하부에 연결되어 높낮이를 조절할 수 있는 샤프트를 더 구비하되, 상기 샤프트는 축방향을 중심으로 회전이 가능하도록 구성된, 박형 실리콘 기판의 제조장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 이송장치는, 상기 제 1 반응조로부터 상기 제 2 반응조 방향으로 신장되는 가이드 레일; 및 상기 가이드 레일로부터 연결되되 롤 모양 형태의 복합 구조체의 중심을 관통하여 상기 복합 구조체를 리프트할 수 있는 지지 가로대;를 포함하는, 박형 실리콘 기판의 제조장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 이송장치는, 상기 제 1 반응조로부터 상기 제 2 반응조 방향으로 신장되는 가이드 레일; 및 상기 가이드 레일로부터 연결되되 상기 복합 구조체 전체를 담아 리프트할 수 있는 지지 받침대;를 포함하는, 박형 실리콘 기판의 제조장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한양대학교 에너지기술개발사업 변환효율 20% 달성을 위한 두께 20μm급 플라즈모닉 초박형 실리콘-금속 변환효율 20% 달성을 위한 두께 20μm급 플라즈모닉 초박형 실리콘-금속 이종접합 태양전지 개발