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투명기판의 제조방법 및 이를 이용한 표면증강 라만산란 기판의 제조방법(Fabrication Method of Transparent Substrate and Fabrication Method of Surface Enhanced Raman Scattering Substrates using Thereof)

  • 기술번호 : KST2017006614
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 투명 기판의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게, 본 발명에 따른 제조방법은 a) 기판 상 D=m*(λ/2n) (D= 포토레지스트 막의 두께, n=포토레지스트의 굴절률, λ=노광시 조사되는 광의 파장, m= 1 이상의 자연수)을 만족하는 포토레지스트 막을 형성하는 단계; b) 투명 기재 및 투명 기재의 광의 출사면에 접하여 형성된 평판형 금속 닷(plate-type metal dot)을 포함하는 광 마스크를 이용하여, 포토레지스트 막을 노광하고, 노광된 포토레지스트 막을 현상하여, 고리 형상의 패턴을 제조하는 단계; c) 상기 고리 형상의 패턴이 형성된 기판을 제1몰드로 하여 상기 고리 형상의 패턴이 역전사된 제2몰드를 제조하는 단계; 및 d) 상기 제2몰드에 액상의 투명 수지를 충진 및 경화한 후 상기 제2몰드를 제거하여, 상기 고리 형상의 패턴이 전사되어 고리 형상의 투명 돌출부가 투명 기재와 일체로 형성된 투명 기판을 제조하는 단계;를 포함한다.
Int. CL H01L 21/027 (2015.10.29) H01L 21/56 (2015.10.29) H01L 21/033 (2015.10.29) H01L 21/02 (2015.10.29)
CPC G03F 7/2002(2013.01) G03F 7/2002(2013.01) G03F 7/2002(2013.01) G03F 7/2002(2013.01) G03F 7/2002(2013.01)
출원번호/일자 1020150135434 (2015.09.24)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0036363 (2017.04.03) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020170104491;
심사청구여부/일자 Y (2015.09.24)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유은아 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.09.24 수리 (Accepted) 1-1-2015-0932938-71
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2015.11.03 수리 (Accepted) 1-1-2015-1067302-21
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0918446-72
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2017.02.15 수리 (Accepted) 1-1-2017-0154298-90
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.03.20 수리 (Accepted) 1-1-2017-0270986-82
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.03.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0270943-29
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2017.07.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0498189-36
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2017-0796064-04
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2017.08.18 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2017-0796043-45
10 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2017.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2017-0795953-00
11 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2017.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0603006-32
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
a) 기판 상 하기 관계식 1을 만족하는 포토레지스트 막을 형성하는 단계;b) 투명 기재 및 투명 기재의 광의 출사면에 접하여 형성된 평판형 금속 닷(plate-type metal dot)을 포함하며 하기 관계식 2를 만족하는 광 마스크를 이용하되, 포토레지스트 막과 광 마스크 사이에 에어 갭(air gap)이 형성된 상태에서, 10nm 내지 500nm 파장 대역의 자외선을 이용하여 포토레지스트 막을 노광하고, 노광된 포토레지스트 막을 현상하여, 고리 형상의 패턴을 제조하는 단계;c) 상기 고리 형상의 패턴이 형성된 기판을 제1몰드로 하여 상기 고리 형상의 패턴이 역전사된 제2몰드를 제조하는 단계;d) 상기 제2몰드에 액상의 투명 수지를 충진 및 경화한 후 상기 제2몰드를 제거하여, 상기 고리 형상의 패턴이 전사되어 고리 형상의 투명 돌출부가 투명 기재와 일체로 형성된 투명 기판을 제조하는 단계; 를 포함하는 고리 형상의 패턴이 구비된 투명 기판의 제조방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 b) 단계에서, 상기 에어 갭의 크기는 하기 관계식 3을 만족하는 투명 기판의 제조방법
3 3
제 1항에 있어서,상기 b) 단계에서, 고리의 외경이 금속 닷 지름 기준 70% 내지 200%이고, 내경이 금속 닷 지름 기준 5 내지 80%이며, 고리의 폭이 금속 닷 지름 기준 2 내지 48%인 고리 형상의 패턴이 제조되는 투명 기판의 제조방법
4 4
제 1항에 있어서,상기 제2몰드는 실록산계 탄성중합체인 투명 기판의 제조방법
5 5
제 4항에 있어서,상기 투명 기판은 폴리우레탄인 투명 기판의 제조방법
6 6
제 5항에 있어서,상기 d) 단계에서, 투명 돌출부의 고리의 안쪽 바닥면이 오목(concave)하게 곡률진 고리 형상의 패턴이 제조되는 투명 기판의 제조방법
7 7
제 1항에 있어서,상기 b) 단계에서, 상기 고리 형상의 패턴은 단층 고리 형상 또는 둘 이상의 고리가 적층된 다층 고리 형상이며, 상기 다층 고리 형상의 각 고리는 동심구조를 가지며, 광 조사 방향으로의 투사(projection) 이미지 상, 상부 고리가 하부 고리 내부에 위치하는 투명 기판의 제조방법
8 8
제 1항에 있어서,상기 b) 단계에서, 상기 평판형 금속 닷의 금속은 Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, La, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt 및 Au를 포함하는 전이금속; Al, Ga, In, Tl, Sn, Pb 및 Bi를 포함하는 전이후 금속; 및 Li, Be, Na, Mg, K, Ca, Rb, Sr, Cs 및 Ba을 포함하는 금속;에서 하나 이상 선택되는 투명 기판의 제조방법
9 9
제 1항에 있어서,상기 b) 단계에서, 상기 노광시 광량은 90 내지 110 mJ/cm2인 투명 기판의 제조방법
10 10
제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 따른 투명 기판의 제조방법으로 제조된 투명 기판의 고리 형상의 투명 돌출부의 고리 내부에 표면 플라즈몬이 발생하는 금속 나노입자를 위치시키는 단계;를 포함하는 표면증강 라만산란용 기판의 제조방법
11 11
제 10항에 있어서,상기 고리 형상의 투명 돌출부는 고리의 안쪽 바닥면이 오목(concave)하게 곡률진 형상을 가지며, 상기 바닥면의 곡률진 형상에 의해 물리적으로 접촉하는 금속 나노입자에 의해 핫스팟이 형성되는 표면증강 라만산란용 기판의 제조방법
12 12
제 10항에 있어서,상기 금속 나노입자의 표면에는 검출대상물질과 특이적으로 결합하는 수용체가 형성된 표면증강 라만산란용 기판의 제조방법
13 13
제 10항에 있어서,상기 금속 나노입자를 위치시키는 단계, 상기 투명 기판을 상기 금속 나노입자가 분산된 분산액에 디핑하는 단계를 포함하는 표면증강 라만산란용 기판의 제조방법
14 14
제 13항에 있어서,상기 디핑시, 상기 투명 기판과 상기 분산액의 표면간의 각도가 0 내지 60°로 유지되는 표면증강 라만산란용 기판의 제조방법
15 15
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16 16
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17 17
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18 18
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19 19
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101888080 KR 대한민국 FAMILY
2 US10222695 US 미국 FAMILY
3 US20180188646 US 미국 FAMILY
4 WO2017051957 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US10222695 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US2018188646 US 미국 DOCDBFAMILY
3 WO2017051957 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국표준과학연구원 한국표준과학연구원 연구운영비 지원 나노바이오융합 측정기술개발
2 미래창조과학부 한국표준과학연구원 바이오의료기술개발사업 항암제 불응암 동반진단용 일체형 3D 나노/마이크로 구조체 기술개발
3 미래창조과학부 연세대학교 글로벌프론티어연구개발사업 Top-down 나노패터닝 기반 3D 나노플라즈모닉 센서 개발