| 1 |
1
평판에서 일정 간격으로 이격되어 돌출 형성되는 복수 개의 3차원 구조체와, 각각의 3차원 구조체 상에 제 1 전극층 및 유전체, 제 2 전극층을 갖고 형성되는 개별 패턴들을 갖는 3차원 패턴 배열 DBD;3차원 패턴 배열 DBD와 마주보는 평판형 구조체에 규칙적인 배열로 3차원 구조체에 대응하여 구멍을 뚫어 형성되어 플라즈마와 반응하여 발생하는 래디컬을 방출하는 방출 홀과, 방출 홀의 둘레에 플라즈마와 반응을 일으키는 물질이 도포되어 형성되는 반응 물질층을 갖는 평판형 구조체;를 포함하는 것을 특징으로 하는 ３차원 구조 유전격벽방전 배열을 이용한 플라즈마 발생장치
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서, 방출 홀의 형태와 크기에 의해 반응 물질층의 물질이 플라즈마와 반응하여 발생하는 래디컬의 방출이 제어되는 것을 특징으로 하는 ３차원 구조 유전격벽방전 배열을 이용한 플라즈마 발생장치
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서, 플라즈마와 반응하여 발생하는 래디컬을 방출하는 방출 홀을 갖는 평판형 구조체를 3차원 패턴 배열 DBD와 결합하여, 플라즈마 발생을 위한 기체를 주입하여 여기종의 충돌로 인한 페닝(penning) 효과를 이용해 반응을 선택하는 것을 특징으로 하는 ３차원 구조 유전격벽방전 배열을 이용한 플라즈마 발생장치
|
| 4 |
4
제 1 항에 있어서, 평판형 구조체는 반응을 요하는 물질의 방출을 제어하기 위하여 가열되는 것을 특징으로 하는 ３차원 구조 유전격벽방전 배열을 이용한 플라즈마 발생장치
|
| 5 |
5
제 1 항에 있어서, 반응 물질층을 형성하는 물질은 겔(gel) 또는 고체 또는 액체 상태일 수 있고,액체 상태인 경우에는 방출되는 방출 홀을 아래로 향하게 하거나,기체 분자는 투과하지만 액체를 투과시키지 않는 반투막에 반응물질을 가둔 상태로 사용하는 것을 특징으로 하는 ３차원 구조 유전격벽방전 배열을 이용한 플라즈마 발생장치
|
| 6 |
6
제 1 항에 있어서, 평판형 구조체의 방출 홀의 둘레에 전극을 형성하여 3차원 패턴 배열 DBD의 전극 패턴과 마주보는 대향 방전을 일으키는 구조로 제작하고,구동 파형을 조절하여 유전체 표면으로 퍼져나가는 방전의 양상을 제어하는 것을 특징으로 하는 ３차원 구조 유전격벽방전 배열을 이용한 플라즈마 발생장치
|
| 7 |
7
제 6 항에 있어서, 평판형 구조체의 방출 홀의 둘레에 형성되는 전극은 방전 세기 및 방전 양상 제어를 위하여 형성 너비가 달라질 수 있고, 각각의 이웃하는 전극들을 서로 연결하여 접지시키거나 플로팅 전극으로 두는 것을 특징으로 하는 ３차원 구조 유전격벽방전 배열을 이용한 플라즈마 발생장치
|
| 8 |
8
제 1 항에 있어서, 3차원 패턴 배열 DBD의 전극층을 반응 물질층을 갖는 평판형 구조체의 반대면에 형성하는 것을 특징으로 하는 ３차원 구조 유전격벽방전 배열을 이용한 플라즈마 발생장치
|
| 9 |
9
삭제
|
