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소수성 고분자 매트릭스;상기 소수성 고분자 매트릭스 내에 구비된 다수의 나노입자들을 구비하는 나노입자 클러스터들을 포함하되,상기 나노입자는 그의 표면상에 하기 화학식 3로 표시되는 표면 개질기, 하기 화학식 4로 표시되는 표면 개질기, 및 수소결합 가능한 친수성 작용기를 구비하고,상기 클러스터 내에 투습 경로가 형성된 투습성 발수 필름:[화학식 3]상기 화학식 3에서, X1 및 X3는 서로에 관계없이 수소, 탄소수 1 내지 2의 알킬기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 2의 알콕시기, 또는 할로기이고, b는 0 또는 1의 정수이고, a+b+c는 3 내지 10 중 어느 하나의 정수이고,T1은 말단에 페닐기를 함유한 작용기이고, *는 상기 나노입자의 표면과의 결합이고,[화학식 4]상기 화학식 4에서, X4 및 X6는 서로에 관계없이 수소, 탄소수 1 내지 2의 알킬기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 2의 알콕시기, 또는 할로기이고, e는 0 또는 1의 정수이고, d+e+f는 3 내지 10 중 어느 하나의 정수이고,T2은 말단에 아민기를 함유한 작용기, 말단에 에폭시기를 함유한 작용기, 또는 탄소수 5 내지 15의 알킬기이고, *는 나노입자의 표면과의 결합을 의미한다
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제1항에 있어서,상기 친수성 작용기는 하이드록시기(-OH), 카르복시기(-COOH), 싸이올기(-SH), 또는 아민기(-NH2)인 투습성 발수 필름
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제1항에 있어서,T1은 아닐리닐기이고, T2은 탄소수 2 내지 3의 알킬렌 디아민기, 글리시딜옥시기, 또는 탄소수 5 내지 15의 알킬기인 투습성 발수 필름
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제3항에 있어서,T1은 아닐리닐기이고, T2은 글리시딜옥시기, 또는 탄소수 5 내지 15의 알킬기인 투습성 발수 필름
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제4항에 있어서,상기 화학식 3으로 표시되는 표면 개질기는 *-O-Si(OCH3)2-(CH2)3-T1(여기서, T2은 아닐리닐기임)이고, 상기 화학식 4로 표시되는 표면 개질기는 *-O-Si(OCH3)2-(CH2)3-T2(여기서, T2은 글리시딜옥시기임)인 투습성 발수 필름
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제4항에 있어서,상기 화학식 3으로 표시되는 표면 개질기는 *-O-Si(OCH3)2-(CH2)3-T1(여기서, T2은 아닐리닐기임)이고, 상기 화학식 4로 표시되는 표면 개질기는 *-O-Si(OCH3)2-(CH2)15-CH3인 투습성 발수 필름
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제1항에 있어서,상기 소수성 고분자 매트릭스 내의 소수성 고분자 100 중량부 대비 상기 표면 개질기들과 친수성 작용기를 함유하는 나노입자는 7 내지 15 중량부로 함유되는 투습성 발수 필름
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친수성 작용기를 표면상에 구비하는 나노입자들을 하기 화학식 1로 표시되는 실란과 하기 화학식 2로 표시되는 실란을 사용하여 표면 개질하여, 표면 개질된 나노입자들을 형성하는 단계;상기 표면 개질된 나노입자들, 소수성 고분자, 및 용매를 혼합하여 코팅액을 형성하는 단계;상기 코팅액을 사용하여 필름을 형성하는 단계를 포함하는 투습성 발수 필름 제조방법:[화학식 1]상기 화학식 1에서, X2은 하이드록시기, 탄소수 1 내지 2의 알콕시기, 또는 할로기이고,X1 및 X3는 서로에 관계없이 수소, 탄소수 1 내지 2의 알킬기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 2의 알콕시기, 또는 할로기이고, b는 0 또는 1의 정수이고, a+b+c는 3 내지 10 중 어느 하나의 정수이고,T1은 말단에 페닐기를 함유한 작용기이고, [화학식 2]상기 화학식 2에서, X5은 하이드록시기, 탄소수 1 내지 2의 알콕시기, 또는 할로기이고,X4 및 X6는 서로에 관계없이 수소, 탄소수 1 내지 2의 알킬기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 2의 알콕시기, 또는 할로기이고, e는 0 또는 1의 정수이고, d+e+f는 3 내지 10 중 어느 하나의 정수이고,T2은 말단에 아민기를 함유한 작용기, 말단에 에폭시기를 함유한 작용기, 또는 탄소수 5 내지 15의 알킬기이다
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제8항에 있어서,상기 친수성 작용기는 하이드록시기(-OH), 카르복시기(-COOH), 싸이올기(-SH), 또는 아민기(-NH2)인 투습성 발수 필름 제조방법
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제8항에 있어서,T1은 아닐리닐기이고, T2은 탄소수 2 내지 3의 알킬렌 디아민기, 글리시딜옥시기, 또는 탄소수 5 내지 15의 알킬기인 투습성 발수 필름 제조방법
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제10항에 있어서,T1은 아닐리닐기이고, T2은 글리시딜옥시기, 또는 탄소수 5 내지 15의 알킬기인 투습성 발수 필름 제조방법
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제11항에 있어서,상기 화학식 1로 표시되는 실란은 N-[3-트라이메톡시실릴)프로필]아닐린이고, 상기 화학식 2로 표시되는 실란은 (3-글리시딜옥시프로필)트라이메톡시실란인 투습성 발수 필름 제조방법
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제11항에 있어서,상기 화학식 1로 표시되는 실란은 N-[3-트라이메톡시실릴)프로필]아닐린이고, 상기 화학식 2로 표시되는 표면 개질기는 헥사데실트라이메톡시실란인 투습성 발수 필름 제조방법
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제8항에 있어서,상기 소수성 고분자 100 중량부 대비 상기 표면개질된 나노입자는 7 내지 15 중량부로 함유되는 투습성 발수 필름 제조방법
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제8항에 있어서,상기 용매는 톨루엔과 DMF(다이메틸포름아마이드)의 혼합용액인 투습성 발수 필름 제조방법
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제8항에 있어서,상기 나노입자를 표면개질하는 것은 톨루엔과 에탄올의 혼합용매 내에서 수행하는 투습성 발수 필름 제조방법
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제1항의 투습성 발수 필름을 구비하는 제습 장치
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