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서로 다른 구조를 가지는 제1 폴리머 블록 및 제2 폴리머 블록을 포함하고, 상기 제1 폴리머 블록 및 상기 제2 폴리머 블록 중에서 선택되는 어느 하나의 폴리머 블록은 할로겐 원자로 치환된 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 블록 코폴리머
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제1항에 있어서, 상기 제1 폴리머 블록 및 상기 제2 폴리머 블록은 서로 다른 용해도 파라미터(solubility parameter)를 가지고, 상기 제1 폴리머 블록 및 상기 제2 폴리머 블록 중 용해도 파라미터가 더 작은 폴리머 블록은 상기 할로겐 원자로 치환된 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 블록 코폴리머
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제1항에 있어서, 다음 식 (1)의 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 블록 코폴리머
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제1항에 있어서, 상기 제1 폴리머 블록과 상기 제2 폴리머 블록과의 사이에 연결되어 있고 적어도 2 개의 반복 단위가 랜덤하게 공중합되어 있는 랜덤 블록 코폴리머를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 블록 코폴리머
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제4항에 있어서, 상기 랜덤 블록 코폴리머는 다음 식 (2)로 표시되는 것을 특징으로 하는 블록 코폴리머
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제1항에 있어서, 상기 제1 폴리머 블록에 연결된 제1 말단기(end group)와, 상기 제2 폴리머 블록에 연결된 제2 말단기를 더 포함하고, 상기 제1 말단기 및 제2 말단기 중 어느 하나의 말단기는 디티오에스테르 (dithioester) 또는 트리티오카보네이트 (trithiocarbonate end group)를 포함하는 것을 특징으로 하는 블록 코폴리머
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제1 용해도 파라미터(solubility parameter)를 가지는 제1 폴리머 블록과, 상기 제1 용해도 파라미터보다 더 작은 제2 용해도 파라미터를 가지고, 할로겐 원자로 치환된 구조를 가지는 제2 폴리머 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 블록 코폴리머
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제7항에 있어서, 다음 식 (1)의 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 블록 코폴리머
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제7항에 있어서, 다음 식 (3)의 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 블록 코폴리머
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제7항에 있어서, 상기 제1 폴리머 블록과 상기 제2 폴리머 블록과의 사이에 연결되어 있고 적어도 2 개의 반복 단위가 랜덤하게 공중합되어 있는 랜덤 블록 코폴리머를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 블록 코폴리머
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제7항에 있어서, 다음 식 (5)의 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 블록 코폴리머
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제7항에 있어서, 80 ∼ 100 kg/mol의 분자량 및 적어도 1
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제1 용해도 파라미터(solubility parameter)를 가지는 제1 폴리머 블록과, 상기 제1 용해도 파라미터보다 더 작은 제2 용해도 파라미터를 가지고 할로겐 원자로 치환된 구조를 가지는 제2 폴리머 블록을 포함하는 블록 코폴리머를 포함하는 블록 코폴리머층을 피쳐층(feature layer) 위에 형성하는 단계와, 상기 블록 코폴리머층을 상분리하여, 상기 제1 폴리머 블록을 포함하고 규칙적인 배열을 이루는 복수의 제1 도메인(domain)과, 상기 제2 폴리머 블록을 포함하고 상기 복수의 제1 도메인을 각각 포위하는 제2 도메인을 형성하는 단계와, 상기 복수의 제1 도메인을 제거하는 단계와, 상기 제2 도메인을 식각 마스크로 이용하여 상기 피쳐층을 식각하여 상기 피쳐층에 복수의 홀을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자의 제조 방법
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제13항에 있어서, 상기 블록 코폴리머는 다음 식 (3)의 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자의 제조 방법
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제13항에 있어서, 상기 블록 코폴리머는 상기 제1 폴리머 블록에 연결된 제1 말단기와, 상기 제2 폴리머 블록에 연결된 제2 말단기를 더 포함하고, 상기 제1 말단기 및 제2 말단기는 각각 -S-(C=S)-R'로 표시되는 황 함유 작용기 (sulfur-containing functional group) (여기서 R'은 치환 또는 비치환된 C1 - C25 알킬, 치환 또는 비치환된 C2 - C25 알케닐, 치환 또는 비치환된 C2 - C25 알키닐, 치환 또는 비치환된 페닐, 치환 또는 비치환된 나프틸(naphthyl), 치환 또는 비치환된 벤질(benzyl), 치환 또는 비치환된 C1 - C25 알킬티오(alkylthio), 치환 또는 비치환된 C1 - C25 알콕시, 치환 또는 비치환된 C1 - C25 알킬아미노, 또는 치환 또는 비치환된 C6 - C10 아릴(aryl)기), 수소 원자, 할로겐, 치환 또는 비치환된 C1 - C25 알킬, 치환 또는 비치환된 C1 - C25 알킬티오, 치환 또는 비치환된 C6 - C10 아릴, 치환 또는 비치환된 C6 - C25 아릴옥시카르보닐(aryloxycarbonyl), 카르복시(carboxy), 치환 또는 비치환된 C1 - C25 아실옥시(acyloxy), 치환 또는 비치환된 C1 - C25 카르바모일(carbamoyl), 또는 시아노(cyano)기를 포함하는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자의 제조 방법
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제13항에 있어서, 상기 블록 코폴리머는 상기 제1 폴리머 블록과 상기 제2 폴리머 블록과의 사이에 연결되어 있고 적어도 2 개의 반복 단위가 랜덤하게 공중합되어 있는 랜덤 블록 코폴리머를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자의 제조 방법
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제13항에 있어서, 상기 블록 코폴리머는 다음 식 (5)의 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자의 제조 방법
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제13항에 있어서, 상기 블록 코폴리머는 80 ∼ 100 kg/mol의 분자량 및 적어도 1
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제13항에 있어서, 상기 제1 폴리머 블록은 PMMA (poly(methyl methacrylate)), PEO (poly(ethylene oxide)), PLA (poly(lactic acid)), 및 PI (polyisoprene) 중에서 선택되는 어느 하나로 이루어지고, 상기 제2 폴리머 블록은 PFS (poly(fluorinated styrene))로 이루어지는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자의 제조 방법
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제13항에 있어서, 상기 복수의 제1 도메인은 적어도 50 nm의 피치로 규칙적으로 배열되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자의 제조 방법
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