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고주파 대전력 환경에 강인하고, 저가로 제조 가능한 후막 저항체를 제공하기 위해 사용되는 후막 저항체용 페이스트 조성물로서, 유기용매 내에서 분산되는 상기 후막 저항체용 페이스트 조성물에 있어서,ITO(Indium tin oxide) 분말, 유리 첨가제 및 분산제를 포함하되, 상기 ITO 분말은 35 내지 85 중량%로, 상기 유리 첨가제는 15 내지 60 중량%로 혼합됨을 특징으로 하는 후막 저항체용 페이스트 조성물
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제1항에 있어서, 1MΩ 저항값을 갖는 상기 후막 저항체를 제공하기 위해, 44wt%의 상기 ITO 분말과 56wt%의 상기 유리 첨가제가 혼합됨을 특징으로 하는 후막 저항체용 페이스트 조성물
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제1항에 있어서, 100MΩ 저항값을 갖는 상기 후막 저항체를 제공하기 위해,80wt%의 상기 ITO 분말과 20wt%의 상기 유리 첨가제가 혼합됨을 특징으로 하는 후막 저항체용 페이스트 조성물
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제1항에 있어서, 저항값을 조정하기 위하여, 카본계 물질 및 전도성 분말이 더 혼합됨을 특징으로 하는 후막 저항체용 페이스트 조성물
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제1항에 있어서, 상기 후막 저항체의 온도에 따른 저항값 변화(Temperature Coefficient of Resistance: TCR)를 조정하기 위하여, TCR이 음 또는 0에 가까운 값을 갖는 무기물 소재가 더 혼합되고,상기 무기물 소재는,니크롬(Nichrome)임을 특징으로 하는 후막 저항체용 페이스트 조성물
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고주파 대전력 환경에 강인하고, 저가로 제조 가능한 후막 저항체를 제공하기 위해 사용되는 후막 저항체용 페이스트 조성물로서, 유기용매 내에서 분산되는 상기 후막 저항체용 페이스트 조성물의 제조 방법에 있어서,유기 조성물 및 무기물계 가교제를 유기용매 내에 분산시켜서 유기물 레진을 준비하는 단계; 35 내지 85 중량%의 ITO(Indium tin oxide) 분말, 15 내지 60 중량%의 유리 첨가제 및 0
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