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대상금속에 전처리를 수행하는 (a)단계;상기 대상금속을 반응챔버에 투입하고, 설정온도로 승온시키는 (b)단계;상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하고, 400 내지 500℃의 분위기 내에서 반응가스를 주입하여 침탄을 가속시키는 (c)단계;반응가스의 주입을 중단하고, 상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하여 진공을 확산시키는 (d)단계; 및상기 (c)단계 및 상기 (d)단계를 기 설정된 시간 간격으로 반복 수행하되, 반복되는 상기 (d)단계의 총 공정 시간을 점차 증가시키는 (e)단계;를 포함하며,상기 (a)단계는,상기 대상금속에 산세 공정을 수행하여 자연산화막을 제거하는 것으로 하고,상기 산세 공정에 사용되는 산세용액은,플루오린화 수소 암모늄((NH4)(HF2)), 질산 및 물을 포함하는 제1용액과, 과산화수소 및 물을 포함하는 제2용액이 7:3의 비율로 혼합된 성분을 가지는 저온 진공침탄방법
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제1항에 있어서,상기 (b)단계는,상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하는 (b-1)단계;상기 반응챔버 내를 목표온도로 승온시키는 (b-2)단계; 및상기 반응챔버 내에 처리가스를 주입하여 상기 대상금속의 표면을 처리하고, 자연산화막을 제거하는 (b-3)단계;를 포함하는 저온 진공침탄방법
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제3항에 있어서,상기 (b-2)단계에서, 상기 목표온도는 1000℃ 내지 1100℃인 것으로 하며,상기 (b-3)단계에서, 상기 처리가스는 수소가스인 것으로 하는 저온 진공침탄방법
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제1항에 있어서,상기 (c)단계에서,상기 반응가스는 20 내지 70%의 수소가스 및 30 내지 80%의 아세틸렌가스의 혼합가스인 것으로 하는 저온 진공침탄방법
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제5항에 있어서,상기 (d)단계에서는,상기 반응가스 중 수소가스의 공급을 유지하는 것으로 하는 저온 진공침탄방법
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제1항에 있어서,상기 (e)단계는,반복되는 상기 (c)단계의 총 공정 시간을 점차 단축시키는 것으로 하는 저온 진공침탄방법
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제1항에 있어서,상기 (e)단계 이후에는,상기 대상금속을 냉각하는 (f)단계가 더 포함되는 저온 진공침탄방법
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