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(i) 다공성 지지체; 및 (ii) 상기 다공성 지지체 상에 증착되며, 2 내지 10nm 크기의 활성층 기공에 의해 3차원으로 상호 연결된 구조를 가지는 모노리스(monolith)형 활성층을 포함하는 복합분리막으로서,상기 활성층은 나노 입자를 포함하는 유기 졸을 상기 다공성 지지체를 투과시킴으로써 형성되고,상기 다공성 지지체는 상기 나노 입자가 통과할 수 있을 정도의 크기의 지지체 기공을 포함하며,상기 활성층은 각각 2 내지 4개의 관능기를 가지는 제1 단량체와 제2 단량체의 중합에 의해 3차원으로 상호 연결된 네트워크 형태를 포함하고,상기 제1 단량체의 관능기는 아미노기이며,상기 제2 단량체의 관능기는 이소시아네이트기, 아실할라이드기 또는 에스터기이고,상기 제1 단량체 또는 제2 단량체 중 적어도 하나는 4개의 관능기를 가지며,상기 활성층의 두께는 4 μm 이하이고,상기 다공성 지지체는 폴리이미드, 폴리아마이드, 폴리아마이드하이드라자이드, 폴리벤즈옥사졸, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리아릴렌에테르술폰 및 폴리에테르에테르케톤 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 복합분리막
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(A) 나노 입자가 분산된 유기 졸을 포함하는 용액을 수득하는 단계, 및(B) 다공성 지지체에, 상기 나노 입자가 분산된 유기 졸을 포함하는 용액을 투과시키는 단계를 포함하는 복합분리막의 제조방법으로서,상기 (A) 단계는 (a-1) 각각 2 내지 4개의 관능기를 가지는 제1 단량체와 제2 단량체를 중합하여 나노 입자가 분산된 유기 졸을 형성하는 단계, 및 (a-2) 상기 나노 입자가 분산된 유기 졸을 유기용매에 희석하여 상기 나노 입자가 분산된 유기 졸을 포함하는 용액을 수득하는 단계를 포함하며,상기 제1 단량체의 관능기는 아미노기이고, 상기 제2 단량체의 관능기는 이소시아네이트기, 아실할라이드기 또는 에스터기이며, 상기 제1 단량체 또는 제2 단량체 중 적어도 하나는 4개의 관능기를 가지는 것을 특징으로 하는 복합분리막의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 투과는 전유량(dead-end flow) 방식, 십자흐름(cross flow filtration) 방식, 또는 이들의 복합 방식 중에서 선택된 방식에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 복합분리막의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 나노 입자가 분산된 유기 졸을 포함하는 용액이 겔화 농도(Cg) 미만이 되도록 유기 용매에 희석하는 것을 특징으로 하는 복합분리막의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 다공성 지지체의 표면에서 상기 나노 입자가 분산된 유기 졸의 농도 분극화(concentration polarization)에 의해 상기 다공성 지지체의 표면에 상기 나노 입자가 분산된 유기 졸의 겔층이 형성될 때까지 상기 나노 입자가 분산된 유기 졸을 투과시키는 것을 특징으로 하는 복합분리막의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 복합분리막의 제조방법은 상기 (B) 단계 후에 (C) 건조시키는 단계를 포함하는 복합분리막의 제조방법
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