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내부 공간을 가지는 하우징;상기 하우징 내부에 배치되는 액체;적어도 일부가 상기 액체 내부에 배치되며, 상기 액체와 혼합되지 아니하는 자성유체; 및상기 하우징 외부에 배치되며, 상기 자성유체에 전자기력을 인가하는 자석부를 포함하며,상기 자석부의 상기 전자기력의 변화에 따라 상기 자성유체의 형상이 변화하되,상기 자석부는 서로 이격되어 배치되는 제1자석부와 제2자석부를 포함하며,상기 제1자석부 및 상기 제2자석부는 각각 영구자석 및 외부전원에 의하여 자기력을 생성하는 전자석을 포함하되,상기 전자기력은 상기 외부전원의 인가여부에 따라 상기 영구자석에 의하여 제공되거나, 상기 영구자석 및 상기 전자석에 의하여 제공되며,상기 외부전원이 상기 전자석에 인가될 때 상기 영구자석 및 상기 전자석에 의하여 제공되는 상기 전자기력은 상기 자성유체에 작용하는 중력 방향에 실질적으로 수직한 방향으로 작용하는 제1전자기력을 포함하며,상기 제1전자기력은 상기 외부전원의 상기 인가여부에 따라 세기가 변화함으로써 상기 외부전원의 상기 인가여부에 따라 상기 자성유체의 형상을 속이 찬 형상에서 속이 빈 환형의 형상으로 변화시키거나, 속이 빈 환형의 형상에서 속이 찬 형상으로 변화시키는 자성유체 장치
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내부 공간을 가지는 하우징;상기 하우징 내부에 배치되는 액체;적어도 일부가 상기 액체 내부에 배치되며, 상기 액체와 혼합되지 아니하는 자성유체;상기 하우징 외부에 배치되며, 상기 자성유체에 전자기력을 인가하는 자석부; 및상기 액체에 주입되는 양친매성(amphiphilic)을 갖는 첨가제를 포함하며,상기 자석부의 상기 전자기력의 변화에 따라 상기 자성유체의 형상이 변화하되,상기 첨가제는 상기 자성유체와 결합하여 상기 자성유체가 상기 하우징의 내면과 접하는 접촉부에서 발생하는 정지마찰력(stiction force)을 감소시켜 상기 전자기력의 변화에 따른 상기 자성유체의 상기 형상의 변화 과정에서 상기 정지마찰력에 의하여 상기 접촉부에 잔류하는 상기 자성유체의 양을 감소시키는 자성유체 장치
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제2항에 있어서,상기 자석부는 서로 이격되어 배치되는 제1자석부와 제2자석부를 포함하며,상기 제1자석부 및 상기 제2자석부는 각각 영구자석 및 외부전원에 의하여 자기력을 생성하는 전자석을 포함하되,상기 전자기력은 상기 외부전원의 인가여부에 따라 상기 영구자석에 의하여 제공되거나, 상기 영구자석 및 상기 전자석에 의하여 제공되며,상기 외부전원이 상기 전자석에 인가될 때 상기 영구자석 및 상기 전자석에 의하여 제공되는 상기 전자기력은 상기 자성유체에 작용하는 중력 방향에 실질적으로 수직한 방향으로 작용하는 제1전자기력을 포함하며,상기 제1전자기력은 상기 외부전원의 상기 인가여부에 따라 세기가 변화함으로써 상기 외부전원의 상기 인가여부에 따라 상기 자성유체의 형상을 속이 찬 형상에서 속이 빈 환형의 형상으로 변화시키거나, 속이 빈 환형의 형상에서 속이 찬 형상으로 변화시키는 자성유체 장치
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제1항 또는 제3항에 있어서,상기 제1자석부는 환형의 형상을 가지는 영구자석을 포함하며,상기 제2자석부는 상기 제1자석부 내부에 배치되는 전자석을 포함하되,상기 제1자석부 및 상기 제2자석부는 상기 영구자석의 자극 및 상기 외부전원이 인가될 때 상기 전자석이 생성하는 자극이 상기 자성유체를 대향하도록 상기 하우징 외부에 배치되며,상기 자성유체에 대향하는 상기 영구자석의 자극과 상기 외부전원이 인가될 때 상기 전자석이 생성하는 상기 자극은 서로 다른 극성을 가지는 자성유체 장치
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제1항 또는 제3항에 있어서,상기 하우징 내면, 상기 액체 및 상기 자성유체는 각각 친수성, 친수성 및 소수성을 가지거나, 상기 하우징의 내면, 상기 액체 및 상기 자성유체는 각각 소수성, 소수성 및 친수성을 가져 상기 자성유체가 상기 액체와 혼합되지 아니하는 자성유체 장치
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내부 공간을 가지는 하우징;상기 하우징 내부에 배치되는 액체;적어도 일부가 상기 액체 내부에 배치되며, 상기 액체와 혼합되지 아니하는 자성유체;상기 하우징 외부에 배치되며, 상기 자성유체에 전자기력을 인가하는 자석부; 및상기 자성유체와 상기 자석부 사이에 위치하도록 상기 하우징에 배치되는 빛을 반사할 수 있는 반사층을 포함하되,상기 자석부의 상기 전자기력의 변화에 따라 상기 자성유체의 형상이 변화하여 상기 자성유체의 상부에서 하부 방향으로 바라볼 때 외부로 노출되는 상기 반사층의 표면적이 변화하는 자성유체를 이용한 반사 장치
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제6항에 있어서,상기 자석부는 서로 이격되어 배치되는 제1자석부와 제2자석부를 포함하며,상기 제1자석부 및 상기 제2자석부는 각각 영구자석 및 외부전원에 의하여 자기력을 생성하는 전자석을 포함하되,상기 전자기력은 상기 외부전원의 인가여부에 따라 상기 영구자석에 의하여 제공되거나, 상기 영구자석 및 상기 전자석에 의하여 제공되며,상기 외부전원이 상기 전자석에 인가될 때 상기 영구자석 및 상기 전자석에 의하여 제공되는 상기 전자기력은 상기 자성유체에 작용하는 중력 방향에 실질적으로 수직한 방향으로 작용하는 제1전자기력을 포함하며,상기 제1전자기력은 상기 외부전원의 상기 인가여부에 따라 세기가 변화함으로써 상기 외부전원의 상기 인가여부에 따라 상기 자성유체의 형상을 속이 찬 형상에서 속이 빈 환형의 형상으로 변화시키거나, 속이 빈 환형의 형상에서 속이 찬 형상으로 변화시킴으로써 상기 외부로 노출되는 상기 반사층의 상기 표면적이 변화하는 자성유체를 이용한 반사 장치
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8
제7항에 있어서,상기 제1자석부는 환형의 형상을 가지는 영구자석을 포함하며,상기 제2자석부는 상기 제1자석부 내부에 배치되는 전자석을 포함하되,상기 제1자석부 및 상기 제2자석부는 상기 영구자석의 자극 및 상기 외부전원이 인가될 때 상기 전자석이 생성하는 자극이 상기 자성유체를 대향하도록 상기 하우징 외부에 배치되며,상기 자성유체에 대향하는 상기 영구자석의 자극과 상기 외부전원이 인가될 때 상기 전자석이 생성하는 상기 자극은 서로 다른 극성을 가지는 자성유체를 이용한 반사 장치
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제6항에 있어서,상기 액체에 주입되는 양친매성(amphiphilic)을 갖는 첨가제를 더 포함하되,상기 반사층은 상기 하우징 외면 또는 경계벽 내부에 배치되어 상기 액체 및 상기 자성유체와 직접 접촉하지 아니하며,상기 첨가제는 상기 자성유체와 결합하여 상기 자성유체가 상기 하우징의 내면과 접하는 접촉부에서 발생하는 정지마찰력(stiction force)을 감소시켜 상기 전자기력의 변화에 따른 상기 자성유체의 상기 형상의 변화 과정에서 상기 정지마찰력에 의하여 상기 접촉부에 잔류하는 상기 자성유체의 양을 감소시키는 자성유체를 이용한 반사 장치
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제6항에 있어서,상기 하우징 내면, 상기 액체 및 상기 자성유체는 각각 친수성, 친수성 및 소수성을 가지거나, 상기 하우징의 내면, 상기 액체 및 상기 자성유체는 각각 소수성, 소수성 및 친수성을 가져 상기 자성유체가 상기 액체와 혼합되지 아니하는 자성유체를 이용한 반사 장치
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