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전기 에너지로 플라즈마 아크의 열 에너지를 생성하여 상기 열 에너지로 처리기체를 분해하면서 가열하도록 단위 플라즈마 반응부를 다중으로 구비하는 멀티 플라즈마 반응부; 및상기 열 에너지로 가열된 처리기체를 다중으로 유입하여 내장된 촉매의 촉매 반응으로 상기 처리기체에 포함된 오염물질을 분해하도록 상기 멀티 플라즈마 반응부에 다중으로 연결되는 촉매 반응부를 포함하며,상기 단위 플라즈마 반응부는일측에 기체 유입구를 구비하여 처리기체를 유입하고 좁아지는 목부를 형성하며 전기적으로 접지되는 하우징, 및상기 하우징 내에 절연 장착되고 방전갭을 형성하여 구동 전압이 인가되는 전극을 포함하고,상기 하우징은상기 목부를 중심으로 상기 전극 측에서 좁아지는 직경보다 유동 제어부에서 확장되는 직경을 같거나 더 크게 형성하는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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제1항에 있어서,상기 멀티 플라즈마 반응부는상기 촉매 반응부를 사이에 두고 서로 다른 측에 배치되는 제1단위 플라즈마 반응부와 제2단위 플라즈마 반응부를 포함하는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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제1항에 있어서,상기 촉매 반응부의 후단에 구비되어 상기 촉매 반응부에서 처리기체로부터 분해된 오염물질에 물을 분사하여 분해된 오염물질을 물로 고정 처리하는 수처리부를 더 포함하는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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제1항에 있어서,상기 촉매 반응부는 하우징에 내장되는 촉매를 포함하고,상기 촉매는펠릿형, 구형, 허니콤형 및 파우더형 중 하나로 형성되는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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제1항에 있어서,상기 처리기체는상기 단위 플라즈마 반응부의 전방과 상기 촉매 반응부의 전방 중 한 위치에 공급되는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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제1항에 있어서,상기 기체 유입구는상기 하우징의 일측에 형성되어 방전기체를 유입하는 제1유입구, 및상기 하우징의 다른 일측에 형성되어 처리기체를 유입하는 제2유입구를 포함하는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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제1항에 있어서,상기 유동 제어부는상기 목부에 연결되어 확장된 공간을 형성하고 전기적으로 접지되어 상기 전극에 연결되는 회전 아크를 길게 유도하도록 확장되어 유동 장을 제어하는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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삭제
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전기 에너지로 플라즈마 아크의 열 에너지를 생성하여 상기 열 에너지로 처리기체를 분해하면서 가열하도록 단위 플라즈마 반응부를 다중으로 구비하는 멀티 플라즈마 반응부; 및상기 열 에너지로 가열된 처리기체를 다중으로 유입하여 내장된 촉매의 촉매 반응으로 상기 처리기체에 포함된 오염물질을 분해하도록 상기 멀티 플라즈마 반응부에 다중으로 연결되는 촉매 반응부를 포함하며,상기 단위 플라즈마 반응부는일측에 기체 유입구를 구비하여 처리기체를 유입하고 좁아지는 목부를 형성하며 전기적으로 접지되는 하우징, 및상기 하우징 내에 절연 장착되고 방전갭을 형성하여 구동 전압이 인가되는 전극을 포함하고,상기 하우징은상기 목부에 연결되어 확장된 공간을 형성하고 전기적으로 접지되어 상기 전극에 연결되는 회전 아크를 길게 유도하도록 확장되어 유동 장을 제어하는 유동 제어부를 더 포함하며,상기 처리기체는상기 유동 제어부와 상기 촉매 반응부의 전방 중 한 위치에 공급되는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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제1항에 있어서,상기 유동 제어부는상기 목부에 연결되어 직선으로 연장된 공간을 형성하고 전기적으로 접지되어 상기 전극에 연결되는 회전 아크를 집중시키도록 수축되어 유동 장을 제어하는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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제1항에 있어서,상기 촉매 반응부에 연결되는 상기 단위 플라즈마 반응부의 외곽에 구비되어 상기 촉매 반응부로 유입되는 처리기체를 가열하는 히터를 더 포함하는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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전기 에너지로 플라즈마 아크의 열 에너지를 생성하여 상기 열 에너지로 처리기체를 분해하면서 가열하도록 단위 플라즈마 반응부를 다중으로 구비하는 멀티 플라즈마 반응부; 및상기 열 에너지로 가열된 처리기체를 다중으로 유입하여 내장된 촉매의 촉매 반응으로 상기 처리기체에 포함된 오염물질을 분해하도록 상기 멀티 플라즈마 반응부에 다중으로 연결되는 촉매 반응부를 포함하며,상기 단위 플라즈마 반응부는일측이 폐쇄된 원통으로 형성되고 구동 전압이 인가되는 전극, 및상기 전극에 연결되고 전기적으로 접지되어 방전갭을 형성하며 상기 방전갭 측에 제1유입구를 구비하여 방전기체를 유입하는 하우징을 포함하며,상기 하우징은상기 전극의 반대측에 구비되는 유동 제어부 측에 제2유입구를 더 구비하여 처리기체를 유입하는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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제14항에 있어서,상기 유동 제어부는,상기 전극의 반대측에서 확장된 공간으로 유동 장을 제어하는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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전기 에너지로 플라즈마 아크의 열 에너지를 생성하여 상기 열 에너지로 처리기체를 분해하면서 가열하도록 단위 플라즈마 반응부를 다중으로 구비하는 멀티 플라즈마 반응부; 및상기 열 에너지로 가열된 처리기체를 다중으로 유입하여 내장된 촉매의 촉매 반응으로 상기 처리기체에 포함된 오염물질을 분해하도록 상기 멀티 플라즈마 반응부에 다중으로 연결되는 촉매 반응부를 포함하며,상기 단위 플라즈마 반응부는중심에 길이 방향으로 배치되는 제1전극,상기 제1전극의 외주에 방전갭을 형성하여 길이 방향으로 배치되고 상기 제1전극과의 사이에 제1유입구를 구비하여 방전기체를 유입하는 제2전극, 및원통으로 형성되어 상기 제2전극을 수용하고, 상기 제2전극의 후방에 제2유입구를 구비하여 처리기체를 유입하는 하우징을 포함하는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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제16항에 있어서,상기 제1전극과 상기 제2전극은내부에 냉각수를 순환시키는 냉각수 통로를 구비하는 멀티 플라즈마 촉매 방식 스크러버
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