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비결맞음 광학적 되먹임을 통해 광원으로부터 레이저 빔을 생성하는 외부 공진기형 다이오드 레이저;상기 레이저 빔을 한쪽 방향으로 만 진행하도록 레이저 편향 빔으로 변환하는 광학 고립기;상기 레이저 편향 빔을 외부로 출력함과 동시에 상기 외부 공진기형 다이오드 레이저측에 출력하는 광 스플리터; 및상기 레이저 편향 빔을 반사시켜 상기 외부 공진기형 다이오드 레이저에 되먹임으로 입사시키는 한 쌍의 반사판;을 포함하며,상기 외부 공진기형 반도체 레이저는, 상기 한 쌍의 반사판으로부터 입사된 레이저 편향 빔이 상기 레이저 빔과 수직하게 되먹임하는 편광 파워 분배기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 비결맞음 광학적 되먹임을 이용한 외부 공진기형 반도체 레이저 주파수 안정화 장치
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제 1 항에 있어서,상기 한 쌍의 반사판 중 어느 하나의 반사판과 상기 편광 파워 분배기 사이에 놓이는 반파장판;를 포함하는 것을 특징으로 하는 비결맞음 광학적 되먹임을 이용한 외부 공진기형 반도체 레이저 주파수 안정화 장치
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포화 흡수 분광 신호의 비결맞음 광학적 되먹임을 통해 광원으로부터 레이저 빔을 생성하는 외부 공진기형 다이오드 레이저;상기 레이저 빔을 한쪽 방향으로 만 진행하도록 레이저 편향 빔으로 변환하는 광학 고립기;상기 레이저 편향 빔을 외부로 출력함과 동시에 상기 외부 공진기형 다이오드 레이저측에 출력하는 제 1 광 스플리터; 상기 레이저 편향 빔을 내부에 설치되는 포화 흡수 분광 셋업에 통과시켜 상기 포화 흡수 분광 신호를 생성하는 증기셀; 및상기 증기셀의 양측에 설치되며, 상기 포화 흡수 분광 신호를 반사시켜 상기 외부 공진기형 다이오드 레이저에 되먹임으로 입사시키는 한 쌍의 반사판;을 포함하며,상기 외부 공진기형 반도체 레이저는, 상기 한 쌍의 반사판으로부터 입사된 포화 흡수 분광 신호가 상기 레이저 빔과 수직하게 되먹임하는 제 1 편광 파워 분배기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 비결맞음 광학적 되먹임을 이용한 외부 공진기형 반도체 레이저 주파수 안정화 장치
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제 4 항에 있어서,상기 외부 공진기형 반도체 레이저는, 상기 증기셀로부터 입사된 포화 흡수 분광 신호를 다시 상기 증기셀로 입사하는 제 2 편광 파워 분배기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 비결맞음 광학적 되먹임을 이용한 외부 공진기형 반도체 레이저 주파수 안정화 장치
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제 4 항에 있어서,상기 한 쌍의 반사판 중 어느 하나의 반사판과 상기 편광 파워 분배기 사이에 놓이는 제 1 반파장판;를 포함하는 것을 특징으로 하는 비결맞음 광학적 되먹임을 이용한 외부 공진기형 반도체 레이저 주파수 안정화 장치
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제 6 항에 있어서,상기 한 쌍의 반사판 사이에 놓이며 상기 제 2 편광 파워 분배기로부터 상기 포화 흡수 분광 신호를 반사하는 제 3 반사판;상기 제 2 편광 파워 분배기와 제 3 상기 반사판 사이에 놓이며, 반사된 포화 흡수 분광 신호에 반파장을 변화시키는 제 1 반파장판; 및 반파장 변환된 포화 흡수 분광 신호를 상기 한 쌍의 반사판 중 다른 하나의 반사판에 입사하는 제 2 광 스플리터;를 포함하는 것을 특징으로 하는 비결맞음 광학적 되먹임을 이용한 외부 공진기형 반도체 레이저 주파수 안정화 장치
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제 4 항에 있어서,상기 광원의 주파수와 상기 포화 흡수 분광 신호의 주파수에 대한 변화값이 서로 상쇄되도록 상기 증기셀의 온도 및 되먹임되는 레이저 빔의 세기를 미리 설정된 값으로 변경하여 상기 레이저 빔의 안정화를 수행하는 것을 특징으로 하는 비결맞음 광학적 되먹임을 이용한 외부 공진기형 반도체 레이저 주파수 안정화 장치
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제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,상기 광원은, 반도체 레이저, VECSEL(Vertical External Cavity Surface-Emitting Laser), DFB(Distributed FeedBack), DBR(Distributed Bragg-Reflector) 레이저 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 비결맞음 광학적 되먹임을 이용한 외부 공진기형 반도체 레이저 주파수 안정화 장치
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