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고체 상태의 붕소 소스, 및 고체 상태의 질소 소스를 준비하는 단계; 상기 붕소 소스 및 상기 질소 소스를 혼합하는 단계; 및혼합된 상기 붕소 소스 및 상기 질소 소스를 불활성 기체가 투입된 반응기 내에 넣고, 상기 붕소 소스의 녹는점 초과 및 상기 붕소 소스의 끓는점 미만의 온도에서 열처리하되, 열처리된 상기 붕소 소스는 용융되어 액체상태가 되고, 열처리된 상기 질소 소스는 기화(evaporation)되어 기체상태가 되고, 액체 상태의 상기 붕소 소스 및 기체 상태의 상기 질소 소스가 기-액상 계면(vapor-liquid phases) 반응을 하여 질화 붕소 구조체를 제조하는 단계를 포함하는 질화 붕소 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 붕소 소스 및 상기 질소 소스의 몰 비(mole fraction)에 따라, 상기 질화 붕소 구조체의 결정화도, 크기, 및 넓이가 조절되는 것을 포함하는 질화 붕소 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 질화 붕소 구조체는, 혼합된 상기 붕소 소스 및 상기 질소 소스를 열처리하는 단계의 온도, 승온 속도(heating rate), 및 온도 유지 시간에 따라 상기 질화 붕소 구조체의 결정화도, 크기, 및 넓이가 조절되는 것을 포함하는 질화 붕소 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 질화 붕소 구조체는, 육방정계(hexagonal) 결정 구조를 갖는 것을 포함하는 질화 붕소 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 질화 붕소 구조체를 용매에 분산시키는 단계; 및분산된 상기 질화 붕소 구조체를 박리하여 질화 붕소 나노시트, 나노로드(nanorod), 나노와이어 또는 나노파티클을 제조하는 단계를 더 포함하는 질화 붕소 구조체의 제조 방법
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제5 항에 있어서, 상기 용매는, 헥산(Hexane), 아세톤(Acetone), 메틸에틸케톤(Methyl ethyl ketone), 메틸이소부틸케톤(Methyl isobutyl ketone), 벤젠(benzene), 톨루엔(toluene), 테트라하이드로퓨란(Tetrahydrofuran), N메틸2피롤리돈(N-Methyl-2-pyrrolidone), 디메틸포름아미드(Dimethyl formamide), 클로로포름(Chloroform), 증류수(water), 이소프로판올(Isopropanol), 이소부탄올(Isobutanol), 에탄올(Ethanol), 메탄올(Methanol), 에틸렌글리콜(Ethylene glycol), 및 글리세롤(Glycerol) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 질화 붕소 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 붕소 소스는, 산화붕소(B2O3), 붕산(HBO3), 및 테트라보릭에시드(H2B4O7) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 질화 붕소 구조체의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 질소 소스는, 멜라닌(melanin), 피라진(pyrazine), 및 요소(urea) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 질화 붕소 구조체의 제조 방법
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