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상대 습도 0 % 내지 50 %로 조절된 분위기에서 금속 할라이드(metal halide) 분말을 포함하는 혼합 용액을 도포하여 금속 할라이드 박막을 제조하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 제조된 금속 할라이드 박막을 하기 화학식 1의 화합물을 포함하는 용액에 침지시키는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 침지시킨 금속 할라이드 박막을 하기 화학식 1의 화합물을 포함하는 용액에 침지시켜 페로브스카이트 나노와이어를 형성하는 단계(단계 3);를 포함하는 페로브스카이트 나노구조체의 제조방법:003c#화학식 1003e#AnXm(상기 화학식 1에서,A는 아민기가 치환된 C1-20의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고,X는 할로겐 이온이고,상기 n은 1 또는 2이고,상기 m은 1 내지 4이다
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제1항에 있어서,상기 단계 1의 금속 할라이드 분말은 요오드화납(PbI2), 브롬화납(PbBr, PbBr2), 염화납(PbCl, PbCl2), 요오드화주석(SnI2), 브롬화주석(SnBr, SnBr2), 염화주석(SnCl, SnCl2), 요오드화구리(CuI, CuI2), 브롬화구리(CuBr, CuBr2), 염화구리(CuCl2, CuCl), 요오드화망간(MnI, MnI2), 브롬화망간(MnBr, MnBr2) 및 염화망간(MnCl, MnCl2)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 나노구조체의 제조방법
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3
제1항에 있어서,상기 단계 1 이후, 금속 할라이드 박막을 저온 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 나노구조체의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 저온 열처리는 50 ℃ 내지 150 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1의 혼합 용액은 유기 용매를 더 포함하고,상기 유기 용매는 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸설폭사이드(DMSO), g-부틸로 락톤(GBL) 및 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1의 도포는 스핀 코팅(spin coating), 딥 코팅(dip coating) 및 스프레이 코팅(spray coating)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 나노구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2의 화학식 1의 화합물을 포함하는 용액의 농도는 0
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제1항에 있어서,상기 단계 2의 침지는 10 분 내지 24 시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 나노구조체의 제조방법
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상대 습도 0 % 내지 50 %로 조절된 분위기에서 금속 할라이드(metal halide) 분말을 포함하는 혼합 용액을 도포하여 금속 할라이드 박막을 제조하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 제조된 금속 할라이드 박막을 하기 화학식 1의 화합물을 포함하는 0
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제1항 또는 제9항의 제조방법으로 제조되는 페로브스카이트 나노구조체를 포함하는 전자 소자
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