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티타늄 기판; 및광촉매 분말 및 반지름이 50~400nm인 고분자 나노스피어로 형성된 나노-기공을 포함하는, 광촉매 다공성 필름층;으로 이루어지고, 상기 나노-기공은, 상기 광촉매 다공성 필름층의 부피 100%에 대해 20~40%로 포함되고,상기 나노-기공은, 반지름이 50~100nm인 매크로 기공과 반지름이 200~400nm인 매크로 기공을 포함하여 불규칙한 기공 배열을 가지며, 상기 반지름이 50~100nm인 매크로 기공은, 상기 반지름이 200~400nm인 매크로 기공에 대해 20~30%로 포함되고,상기 불규칙한 기공 배열을 통해 입사되는 빛을 산란시켜 빛의 이동거리 및 반사율을 증대시키는 것을 특징으로 하는, 불규칙하게 배열된 기공을 갖는 광촉매 복합체
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제 1 항에 있어서, 상기 광촉매 분말은 이산화티타늄으로, 아나타제(anatase) 또는 루타일(rutile)형태인 것을 특징으로 하는, 불규칙하게 배열된 기공을 갖는 광촉매 복합체
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제 1 항에 있어서,상기 고분자는 폴리스티렌(PS), 폴리염화비닐(PVC), 폴리카보네이트(PC) 및 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)로 이루어진 군으로 부터 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는, 불규칙하게 배열된 기공을 갖는 광촉매 복합체
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제 1 항에 있어서,상기 광촉매 다공성 필름층은 0
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(a) 광촉매 분말과 반지름의 크기가 50~400nm인 고분자 나노 스피어를 혼합하여, 고분자 나노 스피어를 포함하는 광촉매 혼합물을 제조하는 단계; 및(b) 기판 상에 상기 제조한 혼합물을 도포하여 소결함으로써, 나노-기공을 갖는 광촉매 다공성 필름층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 나노-기공은, 반지름이 50~100nm인 매크로 기공 및 반지름이 200~400nm인 매크로 기공이 혼합되어 불규칙하게 배열되며,상기 불규칙하게 배열된 나노-기공을 통해 입사되는 빛을 산란시켜 빛의 이동거리 및 반사율을 증대시키는 것을 특징으로 하는, 불규칙하게 배열된 기공을 갖는 광촉매 복합체의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 나노-기공은, 광촉매 다공성 필름층의 부피 100%에 대해 20~40%로 포함되고,상기 나노-기공에 있어서, 반지름이 50~100nm인 매크로 기공은 반지름이 200~400nm인 매크로 기공에 대해 20~30%로 포함되는 것을 특징으로 하는, 불규칙하게 배열된 기공을 갖는 광촉매 복합체의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 광촉매 분말은 이산화티타늄으로, 아나타제(anatase) 또는 루타일(rutile)형태인 것을 특징으로 하는, 불규칙하게 배열된 기공을 갖는 광촉매 복합체의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 고분자는 폴리스티렌(PS), 폴리염화비닐(PVC), 폴리카보네이트(PC) 및 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)로 이루어진 군으로 부터 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는, 불규칙하게 배열된 기공을 갖는 광촉매 복합체의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 기판은 티타늄, 탄탈늄, 지르코늄, 니오븀, 텅스텐 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는, 불규칙하게 배열된 기공을 갖는 광촉매 복합체의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 광촉매 다공성 필름층은 0
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제 1 항, 제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 광촉매 복합체를 이용하여 제조되는 것을 특징으로 하는, 공기정화장치
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