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소재 표면에 형성된 금속 또는 금속반응 생성물을 포함하는 오염물질을 제거하기 위한 소재 표면 세정장치로,오염물질이 묻은 소재 표면에 국부적으로 피코초 이하의 초단 펄스를 가지는 레이저를 조사하여 소재 표면에 초단 펄스의 피크 에너지를 가해 오염물질을 세정하는 레이저조사부와, 소재 표면을 따라 상기 레이저조사부를 이동시키기 위한 이동부를 포함하고,상기 레이저조사부는 복수개가 구비되어 간격을 두고 배치되고, 각 레이저조사부는 소재 표면을 분할하여 각 분할된 영역에 대해 동시에 세정을 실시하는 구조의 소재 표면 세정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 레이저조사부는 고체레이저, 액체레이저, 기체레이저 또는 반도체레이저를 모드잠금(mode-locking)하고 큐스위칭(Q-switching)하여 펄스 폭을 줄이고 출력을 높여 피코초 이하의 초단 펄스를 갖는 레이저를 생성하는 구조의 소재 표면 세정 장치
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제 2 항에 있어서,상기 레이저는 팸토초 또는 아토초 펄스의 레이저인 소재 표면 세정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 레이저의 피크 에너지는 0
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제 1 항에 있어서,상기 소재에 대한 레이저 조사 각도는 30 ~ 90도 인 소재 표면 세정 장치
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 이동부는 복수개의 레이저조사부가 설치되어 복수개의 레이저조사부를 동시에 이동시키는 이동부재와, 상기 이동부재를 소재의 수평면을 따라 이동시키기 위한 평면이동부, 및 상기 이동부재를 소재 표면에 대해 상하로 이동시키기 위한 수직이동부를 포함하는 소재 표면 세정 장치
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제 6 항에 있어서,상기 세정장치는 소재 표면의 요철 형태에 따라 레이저조사부를 회동시켜 소재 표면에 대한 레이조 조사 방향을 변환시키는 회동부를 더 포함하는 소재 표면 세정 장치
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제 7 항에 있어서,상기 회동부는 이동부재에 설치되고 하단에는 레이저조사부가 결합되어 레이저조사부를 회동시키는 회동구동부, 및 소재 표면의 요철 형태에 따라 상기 회동구동부를 제어작동시켜 레이저조사부의 조사 방향을 변환하는 제어부를 포함하는 소재 표면 세정 장치
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소재의 표면에 형성된 금속 또는 금속반응 생성물을 포함하는 오염물질을 제거하기 위한 소재 표면 세정 방법으로,피코초 이하의 초단 펄스를 가지는 레이저를 생성하는 단계와, 오염물질이 묻은 소재의 표면에 국부적으로 상기 레이저를 조사하여 초단 펄스의 피크 에너지를 가하여 오염물질을 제거하는 단계, 소재 표면을 복수개의 분할된 영역으로 나눠 각 영역에 동시에 레이저를 조사하는 단계, 및 소재의 표면을 따라 레이저 조사 위치를 이동시키는 단계를 포함하여, 소재 표면의 각 분할된 영역에 각각 레이저를 조사하여 동시에 세정하는 소재 표면 세정 방법
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제 9 항에 있어서,상기 소재 표면의 요철 형태에 따라 레이저 조사 방향을 변환시키는 단계를 더 포함하는 소재 표면 세정 방법
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