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소재의 표면에 형성된 금속 또는 금속반응 생성물을 포함하는 오염물질을 제거하기 위한 소재 표면 세정 장치로,오염물질이 묻은 소재의 표면에 국부적으로 피코초 이하의 초단 펄스를 가지는 레이저를 조사하여 소재 표면에 초단 펄스의 피크 에너지를 가해 오염물질을 세정하고 소재 표면에 조도를 부여하는 레이저조사부, 소재 표면을 따라 레이저조사부를 이동시켜 소재 표면에 일정 패턴으로 레이저를 스캐닝하기 위한 구동부, 상기 소재 표면의 조도를 검출하는 조도센서, 및 상기 조도센서의 검출값을 연산하여 소재 표면 조도에 따라 상기 레이저조사부 또는 상기 구동부를 제어작동하여 소재 표면 조도를 제어하는 제어부를 포함하는 소재 표면 세정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 레이저조사부는 고체레이저, 액체레이저, 기체레이저 또는 반도체레이저를 모드잠금(mode-locking)하고 큐스위칭(Q-switching)하여 펄스 폭을 줄이고 출력을 높여 피코초 이하의 초단 펄스를 갖는 레이저를 생성하는 구조의 소재 표면 세정 장치
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제 2 항에 있어서,상기 레이저는 팸토초 또는 아토초 펄스의 레이저인 소재 표면 세정 장치
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제 3 항에 있어서,상기 레이저의 피크 에너지는 0
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제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 조도센서는 레이저조사부 일측에 배치되어 레이저가 조사된 후 소재 표면의 조도를 검출하는 구조의 소재 표면 세정 장치
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제 5 항에 있어서,상기 레이저조사부는 제어부의 신호에 따라 소재 표면에 홈 형태의 스크라이빙 라인을 형성하여 소재 표면에 조도를 부여하는 구조의 소재 표면 세정 장치
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제 6 항에 있어서,상기 제어부는 상기 구동부를 제어하여 일정 패턴으로 스캐닝되는 레이저의 라인 간 간격을 조절하여 조도를 제어하는 구조의 소재 표면 세정 장치
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소재의 표면에 형성된 금속 또는 금속반응 생성물을 포함하는 오염물질을 제거하기 위한 소재 표면 세정 방법으로,피코초 이하의 초단 펄스를 가지는 레이저를 생성하는 단계와, 오염물질이 묻은 소재의 표면에 국부적으로 상기 레이저를 조사하여 초단 펄스의 피크 에너지를 가하여 오염물질을 제거하는 단계, 및 소재 표면에 조도를 부여하는 단계를 포함하는 소재 표면 세정 방법
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제 8 항에 있어서,상기 조도 부여 단계는 소재 표면에 레이저를 가해 홈 형태의 스크라이빙 라인을 형성하는 단계를 포함하는 소재 표면 세정 방법
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제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,상기 소재 표면의 조도를 조절하는 단계를 더 포함하는 소재 표면 세정 방법
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제 10 항에 있어서,상기 조도 조절단계는 소재 표면의 조도를 검출하는 단계, 및 검출된 소재 표면 조도에 따라 레이저에 의한 스크라이빙 라인 간격을 조절하는 단계를 포함하는 소재 표면 세정 방법
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제 11 항에 있어서,상기 조도 부여 단계는 오염물질 제거 단계와 동시에 이루어지는 소재 표면 세정 방법
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