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소재의 표면에 형성된 금속 또는 금속반응 생성물을 포함하는 오염물질을 제거하기 위한 소재 표면 세정 장치로,오염물질이 묻은 소재의 표면에 국부적으로 피코초 이하의 초단 펄스를 가지는 레이저를 조사하여 소재 표면에 초단 펄스의 피크 에너지를 가해 오염물질을 세정하는 레이저조사부, 내부에 용액이 채워지고 용액 내에 소재가 놓여지도록 된 세정조, 및 상기 세정조에 연결되어 세정조 내에 놓여진 소재에 오염물질 제거를 위한 보조 에너지를 가하는 보조세정부를 포함하는 소재 표면 세정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 보조세정부는 상기 소재에 초음파를 가하여 소재에 묻은 오염물질을 제거하는 초음파발생부를 포함하는 소재 표면 세정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 보조세정부는 상기 세정조에 설치되고 세정조 내의 용액을 가열하는 가열부를 포함하는 소재 표면 세정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 세정조 내에 수용되는 용액은 물 또는 세정액인 소재 표면 세정 장치
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제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 세정조 내에 유체 흐름을 형성하여 레이저 세정시 소재 표면에 형성된 파티클을 제거하는 제거부를 더 포함하는 소재 표면 세정 장치
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제 5 항에 있어서,상기 제거부는 세정조 일측으로 연결되어 세정조 내부로 용액을 공급하는 공급관과, 상기 공급관에 연결되어 용액을 공급하는 용액공급부를 포함하는 소재 표면 세정 장치
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제 6 항에 있어서,상기 제거부는 세정조에 연결되어 세정조 내부의 용액을 배출하는 배출관과, 상기 배출관에 연결되어 용액을 배출시키는 흡입펌프를 더 포함하는 소재 표면 세정 장치
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제 5 항에 있어서,상기 레이저조사부는 고체레이저, 액체레이저, 기체레이저 또는 반도체레이저를 모드잠금(mode-locking)하고 큐스위칭(Q-switching)하여 펄스 폭을 줄이고 출력을 높여 피코초 이하의 초단 펄스를 갖는 레이저를 생성하는 구조의 소재 표면 세정 장치
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제 8 항에 있어서,상기 레이저는 팸토초 또는 아토초 펄스의 레이저인 소재 표면 세정 장치
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제 9 항에 있어서,상기 레이저의 피크 에너지는 0
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소재의 표면에 형성된 금속 또는 금속반응 생성물을 포함하는 오염물질을 제거하기 위한 소재 표면 세정 방법으로,용액이 채워진 세정조 내에 소재를 담궈 준비하는 단계, 피코초 이하의 초단 펄스를 가지는 레이저를 생성하는 단계, 용액을 통해 오염물질이 묻은 소재의 표면에 국부적으로 레이저를 조사하여 초단 펄스의 피크 에너지를 가하여 오염물질을 제거하는 단계, 및 소재에 오염물질 세정을 위한 보조 에너지를 가하는 단계를 포함하는 소재 표면 세정 방법
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제 11 항에 있어서,상기 보조 에너지를 가하는 단계는 상기 소재에 초음파를 가하는 단계를 포함하는 소재 표면 세정 방법
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제 11 항에 있어서,상기 보조 에너지를 가하는 단계는 상기 세정조 내의 용액을 가열하는 단계를 포함하는 소재 표면 세정 방법
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제 11 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 세정 방법은 오염물질 제거시 발생된 파티클을 제거하는 단계를 더 포함하는 소재 표면 세정 방법
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제 14 항에 있어서,상기 파티클 제거 단계는 세정조 내부로 용액을 공급하는 단계, 및 세정조에서 용액을 배출하는 단계를 포함하여, 세정조 내에 유체 흐름을 형성하여 파티클을 제거하는 구조의 소재 표면 세정 방법
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