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반도체 생산현장의 공기정화장치에 관한 것으로,실내에서 실외로 연장 설치되는 배기관로(110); 상기 배기관로(110)의 배출단 어느 한 부위에 설치되는 배기팬(120); 상기 배기관로(110)의 어느 한 부위에 내장 설치되어 공기 흐름 방향을 제어하기 위해 개폐 동작하는 메인댐퍼(130); 상기 배기관로(110)의 어느 한 부위에 설치되어 유해가스 발생 여부를 감지하는 가스감지센서(140);를 포함하는 배기덕트부(100);상기 배기관로(110)로부터 공기 유통이 가능하도록 연결 설치되는 것으로, 유해성분이 함유된 공기를 공급받는 흡기부(211) 및 유해성분이 제거된 공기를 배출하는 배기부(212)가 일체로 형성된 '⊃'자형의 분기관로(210); 상기 흡기부(211)에 설치되어 개폐 동작하는 흡기댐퍼(220); 상기 배기부(212)에 설치되어 개폐 동작하는 배기댐퍼(230); 상기 분기관로(210) 내부에서 촉매필터부(250)의 양측 단부에 설치되는 미세금속필터(240); 상기 한 쌍의 미세금속필터(240) 사이에 배치되고 흡착제 및 촉매류가 충진되어 열촉매반응을 통해 흡착제에 포집된 유해성분을 제거하는 촉매필터부(250); 상기 촉매필터부(250)에 열을 전달하는 히팅수단(260); 상기 촉매필터부(250) 둘레를 감싸도록 형성된 단열수단(270); 상기 분기관로(210) 어느 한 위치에서 스프레이 방식으로 살균수를 분사하여 살균 처리하는 살균수공급부(280); 상기 분기관로(210) 어느 한 위치에서 자외선 광을 조사함으로 살균 처리하는 자외선살균부(290);를 포함하는 공기정화부(200);유해가스 자동 제거장치의 전체적인 동작을 제어하는 제어부(300);를 포함하여 구성되며,상기 히팅수단(260)은 120~200℃ 온도 조건을 유지할 수 있는 최소 하나 이상의 히팅봉(261)과, 다수개의 열전도핀(262a)이 돌출 형성된 열분산수단(262)이 결합 형성되고, 상기 촉매필터부(250)는 단일벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브, 활성탄, 그래핀, 제올라이트 중 어느 하나에 해당하는 흡착제와, 백금, 파라듐, 금속산화물 중 어느 하나에 해당하는 촉매류가 충진되어 촉매반응을 통해 흡착제에 포집된 유해성분을 제거하는 것이며,상기 살균수공급부(280)는 살균수분사노즐(281)과, 살균수저수조(282)와, 순환펌프(283)를 포함하여 구성되고,상기 자외선살균부(290)는 내부공간을 길이 방향으로 다수 분할하는 공간분할격벽(291)과, 상기 공간분할격벽(291)에 설치되는 다수의 자외선LED(292)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 생산현장의 VOC 가스 제거 기능을 갖는 공기 정화장치
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