| 1 |
1
탄소 전구체 및 에칭제에 용해가능한 희생 고분자가 혼합된 혼합물을 전기 방사하여, 1차 나노섬유를 형성하는 단계; 상기 1차 나노섬유를 상기 에칭제가 저장된 용기에 투입하여, 상기 1차 나노섬유 표면의 희생 고분자가 용해에 의해 제거된 2차 나노섬유를 형성하는 단계; 상기 2차 나노섬유를 탄화시켜 최종 탄소나노섬유를 형성하는 단계;를 포함하되, 상기 2차 나노섬유 제조 단계에서 상기 용기에 주파수가 30~200kHz인 초음파를 인가하여 상기 1차 나노섬유 내부의 희생 고분자들이 서로 응집되도록 하여, 상기 탄화시 상기 응집된 희생 고분자들이 제거되면서 직경이 2~10nm인 메조 기공을 형성하는 것을 특징으로 하는 메조기공 탄소계 물질 제조 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 에칭제는 물, 에탄올, 메탄올, 이소프로판올 및 아세톤 중에서 1종 이상을 포함하고, 상기 탄소 전구체는 폴리아크릴로니트릴(PAN)을 포함하고,상기 희생 고분자는 폴리비닐피롤리돈(PVP), 셀룰로스(cellulose), 폴리아미드(polyimide), 폴리벤즈이미다졸(polybenzimidazole), poly(p-xylenetetrahydrothiophenium chloride) 및 폴리비닐알콜(poly(vinyl alcohol)) 중에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 메조기공 탄소계 물질 제조 방법
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 탄소 전구체와 희생 고분자가 중량비로 8:2 ~ 6:4로 포함되는 것을 특징으로 하는 메조기공 탄소계 물질 제조 방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 2차 나노섬유를 150~300℃에서 안정화시킨 후, 상기 탄화를 수행하는 것을 특징으로 하는 메조기공 탄소계 물질 제조 방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 최종 탄소나노섬유를 산 처리하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 메조기공 탄소계 물질 제조 방법
|
| 6 |
6
기판에, 탄소 전구체 및 에칭제에 용해가능한 희생 고분자가 혼합된 혼합물을 코팅하여, 1차 코팅층을 형성하는 단계; 상기 1차 코팅층을 상기 에칭제가 저장된 용기에 투입하여, 상기 1차 코팅층 표면의 희생 고분자가 용해에 의해 제거된 2차 코팅층을 형성하는 단계; 상기 2차 코팅층을 탄화시켜 최종 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하되, 상기 2차 코팅층 형성 단계에서 상기 용기에 주파수가 30~200kHz인 초음파를 인가하여, 상기 1차 코팅층 내부의 희생 고분자들이 서로 응집되도록 하여, 상기 탄화시 상기 응집된 희생 고분자들이 제거되면서 직경이 2~10nm인 메조 기공을 형성하는 것을 특징으로 하는 메조기공 탄소계 물질 제조 방법
|
| 7 |
7
제6항에 있어서,상기 에칭제는 물, 에탄올, 메탄올, 이소프로판올 및 아세톤 중에서 1종 이상을 포함하고,상기 탄소 전구체는 폴리아크릴로니트릴(PAN)을 포함하고,상기 희생 고분자는 폴리비닐피롤리돈(PVP), 셀룰로스(cellulose), 폴리아미드(polyimide), 폴리벤즈이미다졸(polybenzimidazole), poly(p-xylenetetrahydrothiophenium chloride) 및 폴리비닐알콜(poly(vinyl alcohol)) 중에서 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 메조기공 탄소계 물질 제조 방법
|
| 8 |
8
제7항에 있어서,상기 탄소 전구체와 희생 고분자가 중량비로 8:2 ~ 6:4로 포함되는 것을 특징으로 하는 메조기공 탄소계 물질 제조 방법
|
| 9 |
9
제6항에 있어서,상기 최종 코팅층을 산 처리하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 메조기공 탄소계 물질 제조 방법
|
