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산화막 제거 및 활성산소 처리를 통한 고품질의 흑린 박막 제조방법(Method of fabricating high quality black phosphorous thin film by the treatment of oxide-layer removal and reactive oxygen reaction)

  • 기술번호 : KST2017009779
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 흑린 박막의 제조방법 및 그로부터 제조된 흑린 박막에 관한 것으로, 상세하게는 챔버 내에서 활성산소에 의하여 흑린 초박막을 형성하고, 수반되는 흑린 산화막을 물 세척단계를 통해 제거하여 흑린 초박막을 제조하는 것이다. 더 상세하게는, 본 발명의 흑린 초박막은 대면적에서 실질적으로 결함이 없고 평탄한 표면을 가져 1 nm 이하의 표면조도 특성을 가짐으로써 광전자소자 및 전계 효과 트랜지스터에 높은 응용성을 가질 수 있다.
Int. CL H01L 21/02 (2016.01.06) H01L 21/205 (2016.01.06) H01L 21/70 (2016.01.06)
CPC H01L 21/02543(2013.01)
출원번호/일자 1020150172253 (2015.12.04)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0065900 (2017.06.14) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.12.04)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 권혁상 대한민국 대전광역시 유성구
2 김정원 대한민국 대전광역시 유성구
3 서성원 대한민국 대전광역시 유성구
4 이은성 대한민국 대전광역시 유성구
5 박재성 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.12.04 수리 (Accepted) 1-1-2015-1188871-37
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.12.07 수리 (Accepted) 1-1-2015-1192431-12
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0378501-19
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.07.31 수리 (Accepted) 1-1-2017-0734794-73
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.07.31 수리 (Accepted) 1-1-2017-0734797-10
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.07.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0734862-80
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.12.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0863402-30
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.01.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0091541-14
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.01.26 수리 (Accepted) 1-1-2018-0091553-62
10 등록결정서
Decision to grant
2018.04.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0256655-37
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
챔버 내에서 흑린 박막을 활성산소로 식각하여 형성된 흑린 초박막을 1℃ 내지 70℃에서 10초 내지 10시간 동안 물과 접촉시켜 처리하여, 흑린 산화막을 제거하는 것을 특징으로 하는 흑린 초박막의 제조방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 흑린 박막은 순수한 흑린(pristine)으로부터 기계적으로 박리하는 방법 또는 화학적 기상증착 방법에 의해 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 흑린 초박막의 제조방법
3 3
삭제
4 4
제 1항에 있어서,상기 활성산소는 챔버 내에서 자외선과 산소의 반응을 통해 생성되는 것을 특징으로 하는 흑린 초박막의 제조방법
5 5
삭제
6 6
제 1항, 제 2항 및 제 4항 중 어느 한 항의 방법으로 제조되며,두께가 3nm 이하이고, 파장 700 내지 1000 nm에서 2개의 PL 피크를 갖는 것인 흑린 초박막
7 7
제 6항에 있어서,상기 흑린 초박막은 파장 750 내지 810 nm에서 흑린 단일 원자층에 의한 단일 PL 피크 및 파장 870 내지 930 nm에서 흑린 2 원자층에 의한 단일 PL 피크를 가지는 것을 특징으로 하는 흑린 초박막
8 8
제 6항의 흑린 초박막을 포함하는 광전자소자
9 9
삭제
10 10
삭제
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101576573 KR 대한민국 FAMILY
2 US10121658 US 미국 FAMILY
3 US20180138039 US 미국 FAMILY
4 WO2016190531 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국표준과학연구원 국가연구개발사업 차세대 태양전지의 초고속 전하운반 동력학연구
2 교육과학기술부 한국표준과학연구원 기관고유사업 4-2-1 나노바이오 융합 측정기술 개발