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다층무기봉지박막 및 이의 제조방법(multi-layer inorganic thin film for encapsulation and method for manufacturing the same)

  • 기술번호 : KST2017009896
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다층무기봉지박막 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 무기박막의 인접 계면 사이에 페이스 인터믹싱(phase intermixing) 현상이 발생하여 비정질의 단층 특성을 보이는 다층무기봉지박막 및 이의 제조방법에 관한 것이다.본 발명의 다층무기봉지박막에 의하면 무기박막의 인접 계면 사이에 페이스 인터믹싱(phase intermixing) 현상이 발생하여 비정질의 단층 특성을 보임으로써 수분 및 산소의 침투 경로가 늘어나 소자의 투습률 및 수명이 우수하다는 효과가 있다. 또한, 본 발명의 다층무기봉지박막의 제조방법에 의하면 페이스 인터믹싱(phase intermixing) 현상을 이용하여 제조함으로써 무기박막의 인접 계면 사이를 비정질의 단층 특성을 보이도록 하여 수분 및 산소의 침투 경로를 늘릴 수 있는 장점이 있다.
Int. CL H01L 51/52 (2016.01.17) H01L 51/50 (2016.01.17) H01L 21/471 (2016.01.17) H01L 21/02 (2016.01.17) H01L 51/56 (2016.01.17)
CPC H01L 51/5237(2013.01) H01L 51/5237(2013.01) H01L 51/5237(2013.01) H01L 51/5237(2013.01) H01L 51/5237(2013.01) H01L 51/5237(2013.01) H01L 51/5237(2013.01)
출원번호/일자 1020150174093 (2015.12.08)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0067427 (2017.06.16) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.12.08)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최범호 대한민국 충청남도 천안시 서북구
2 이종호 대한민국 광주광역시 동구
3 김은미 대한민국 광주광역시 북구
4 김영훈 대한민국 광주광역시 광산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인아이엠 대한민국 서울특별시 강남구 봉은사로 ***, ***호 (역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2015-1200899-98
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.12.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.02.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0082224-60
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.06.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0422795-15
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.08.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0824721-29
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2018-0824736-14
8 등록결정서
Decision to grant
2018.12.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0894701-37
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번호 청구항
1 1
다층무기봉지박막에 있어서,전처리된 제1무기박막층;상기 제1무기박막층 상에 형성된 전처리된 제2무기박막층; 및상기 제2무기박막층 상에 형성된 제3무기박막층;을 포함하며,상기 다층무기봉지박막은 상기 제1무기박막층과 상기 제2무기박막층 사이의 계면 그리고, 상기 제2무기박막층과 상기 제3무기박막층 사이의 계면에서 혼합층으로 존재하여 비정질 상태인 것을 특징으로 하는 다층무기봉지박막
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제1무기박막층은 SiN박막층이고, 상기 제2무기박막층은 SiCN박막층이며, 상기 제3무기박막층은 SiN박막층인 것을 특징으로 하는 다층무기봉지박막
3 3
제 2 항에 있어서,상기 다층무기봉지박막의 밀도는 2
4 4
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 다층무기봉지박막은 OLED용 다층무기봉지박막인 것을 특징으로 하는 다층무기봉지박막
5 5
다층무기봉지박막의 제조방법에 있어서,제1무기박막층을 형성하는 제1단계;상기 제1무기박막층을 전처리하는 제2단계;상기 제1무기박막층 상에 제2무기박막층을 형성하는 제3단계;상기 제2무기박막층을 전처리하는 제4단계; 및상기 제2무기박막층 상에 제3무기박막층을 형성하는 제5단계;를 포함하며,상기 제1무기박막층과 상기 제2무기박막층 사이의 계면 그리고, 상기 제2무기박막층과 상기 제3무기박막층 사이의 계면은 혼합층으로 존재하여 비정질 상태인 것을 특징으로 하는 다층무기봉지박막의 제조방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 제1단계는 PECVD법을 이용하여 SiN박막층을 증착하는 것을 특징으로 하는 다층무기봉지박막의 제조방법
7 7
제 6 항에 있어서,상기 제2단계는 상기 SiN박막층을 질소 플라즈마처리공정을 수행함과 함께, 200 내지 300℃ 범위의 일정 온도에서 열처리공정을 수행하여 상기 SiN박막층 표면에 기공을 형성하는 것을 특징으로 하는 다층무기봉지박막의 제조방법
8 8
제 7 항에 있어서,상기 제3단계는 PECVD법을 이용하여 SiCN박막층을 증착하는 것을 특징으로 하는 다층무기봉지박막의 제조방법
9 9
제 8 항에 있어서,상기 제4단계는 상기 SiCN박막층을 질소 및 산소 플라즈마처리공정을 수행함과 함께, 150 내지 250℃ 범위의 일정 온도에서 열처리공정을 수행하여 상기 SiCN박막층 표면에 기공을 형성하는 것을 특징으로 하는 다층무기봉지박막의 제조방법
10 10
제 9 항에 있어서,상기 제5단계는 PECVD법을 이용하여 SiN박막층을 증착하는 것을 특징으로 하는 다층무기봉지박막의 제조방법
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제 10 항에 있어서,상기 제5단계의 상기 SiN박막층의 밀도는 상기 제1단계의 상기 SiN박막층과 상기 제3단계의 상기 SiCN박막층의 밀도보다 높은 것을 특징으로 하는 다층무기봉지박막의 제조방법
12 12
제 5 항 내지 제 11 항 중 어느 한 한에 있어서,상기 다층무기봉지박막은 OLED용 다층무기봉지박막인 것을 특징으로 하는 다층무기봉지박막의 제조방법
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국가 R&D 정보가 없습니다.