| 1 |
1
베이스 기판 상에 형성된 패턴으로 광을 인가하여 상기 패턴을 소결하는 광원유닛; 및상기 베이스 기판이 상면에 위치하여 상기 베이스 기판을 고정하는 스테이지 유닛을 포함하며, 상기 광의 인가에 따라 상기 패턴을 통해 상기 베이스 기판으로 전달되는 열은 상기 스테이지 유닛에 의해 열전달이 차단되어 상기 패턴 및 상기 베이스 기판이 열을 보유하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 스테이지 유닛은, 상기 베이스 기판이 상부에 고정되는 스테이지; 및상기 베이스 기판의 하면이 접촉하는 상기 스테이지의 상면에 형성되어, 열전달을 차단하는 단열부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
|
| 3 |
3
제2항에 있어서, 상기 단열부는, 단열층으로 상기 스테이지의 상면에 별도로 형성되는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
|
| 4 |
4
제3항에 있어서, 상기 단열부 또는 상기 단열층은, 테프론(teflon) 또는 알루미나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
|
| 5 |
5
제1항에 있어서, 상기 스테이지 유닛은, 상기 베이스 기판이 상면에 고정되는 스테이지; 및상기 스테이지에 열을 인가하여 상기 스테이지를 가열하는 열인가부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 베이스 기판은, 열전도성을 갖는 실리콘 웨이퍼 기판 또는 유리기판인 것을 특징으로 하는 광소결 장치
|
| 7 |
7
제1항에 있어서, 상기 광원유닛은, IPL(intense pulse light)을 상기 패턴으로 인가하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
|
| 8 |
8
제1항에 있어서, 상기 패턴은 롤투롤(roll to roll) 인쇄 공정에 의해 형성되고, 상기 베이스 기판은 연속적으로 이송되는 유연 기판이며, 상기 베이스 기판은 연속 이송 중, 상기 스테이지 유닛 상에 고정되어 광을 인가받는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
|
