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알루미늄-스칸듐 합금을 전해 석출하는 전해조에 있어서,산화 스칸듐(Sc2O3) 및 전해질로 채워지며, 도체로 이루어진 전해조 본체;일부 또는 전부가 상기 전해조 본체 내에 배치된 양극;상기 전해조 본체의 바닥에 배치된 알루미늄을 포함하는 음극; 및상기 전해조 본체의 외부 벽면 중 적어도 일면에 배치된 전자기력 발생장치를 포함하는 전해조
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제1항에 있어서,상기 전자기력 발생장치는 일부 또는 전부가 상기 전해질이 채워진 높이 내에 배치되는 전해조
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제1항에 있어서,상기 양극은 탄소(C), 철(Fe) 및 니켈(Ni)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 전해조
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제1항에 있어서,상기 전해질은 불화물, 염화물 또는 이들의 혼합물인 전해조
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제4항에 있어서,상기 불화물은 헥사플루오로알루민산나트륨(Na3AlF6), 헥사플루오로알루민산칼륨(K3AlF6), 플루오린화알루미늄(AlF3), 플루오린화칼슘(CaF2), 플루오린화나트륨(NaF), 플루오린화칼륨(KF), 플루오린화브로민칼륨(KBrF4), 플루오린화수소칼륨(KHF2), 헥사플루오로인산칼슘(KPF6), 헥사플루오로규산칼륨(K2SiF6), 헥사플루오로알루민산리튬(Li3AlF6), 헥사플루오로알루민산암모늄((NH4)3AlF6) 및 플루오로인산칼륨(KPO2F2)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 전해조
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제4항에 있어서,상기 염화물은 염화리튬(LiCl), 염화칼륨(KCl), 염화크롬(CrCl2), 염화칼슘(CaCl2) 및 염화브롬(BrCl)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 전해조
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제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 전해조를 이용하여 알루미늄-스칸듐 합금을 전해하는 전해 방법
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제7항에 있어서,상기 전해 방법은,상기 전해조 본체에 산화 스칸듐 및 전해질을 공급하는 단계;상기 산화 스칸듐 및 전해질을 가열하는 단계;상기 음극 및 양극에 전류를 인가하여 전해 공정을 실시하는 단계; 및상기 전자기력 발생장치에 자속 밀도를 인가하여 전자기력을 발생시키는 단계를 포함하는 전해 방법
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제8항에 있어서,상기 가열은 900 내지 1300℃의 온도 범위에서 수행되는 전해 방법
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제8항에 있어서,상기 음극 및 양극은 -1
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제8항에 있어서,상기 전자기력 발생장치는 10 내지 30mT의 자속 밀도가 인가되는 전해 방법
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