| 1 |
1
홀로그램으로 재현하고자 하는 3차원 형태의 대상 객체를 구성하는 데이터 정보를 수신하는 단계;상기 데이터 정보에 기초하여 상기 대상 객체의 실루엣 마스크를 생성하는 단계;상기 데이터 정보를 이용하여 상기 대상 객체에 대한 복소값 또는 실수값을 갖는 홀로그램을 생성하는 단계; 및상기 대상 객체의 실루엣 마스크를 이용하여 복소값 또는 실수값을 갖는 홀로그램을 이진화하는 단계를 포함하고,상기 이진화하는 단계는,상기 홀로그램의 평면을 구성하는 각 픽셀에 '0' 또는 '1'을 할당하는 제1 양자화를 수행하는 단계;상기 '0' 또는 '1'로 양자화된 홀로그램에 실루엣 마스크를 적용하는 단계; 및상기 양자화된 홀로그램에 적용된 실루엣 마스크로부터 상기 평면의 각 픽셀 간의 거리를 이용하여 제2 양자화를 수행하는 단계를 포함하는 이진 홀로그램 생성 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 데이터 정보는,일대일(1:1) 매핑(mapping) 관계를 갖는 상기 대상 객체의 색상 정보 및 깊이 정보를 포함하고,상기 깊이 정보는,256 레벨(8-bit)로 양자화된 상태인 이진 홀로그램 생성 방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 홀로그램은,공간광변조기(SLM)의 공간 해상도를 만족하는 M x N 해상도를 가지며, 256 레벨(8-bit)로 표현된 영상으로 시각화되는 이진 홀로그램 생성 방법
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 제1 양자화를 수행하는 단계는,상기 평면을 구성하는 각 픽셀에 대한 임계값을 기준으로 상기 각 픽셀에 '0' 또는 '1'을 할당하는 이진 홀로그램 생성 방법
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 임계값은,상기 복소값의 크기 또는 상기 실수값을 이용한 평균값, 중앙값, 중간값, '0'을 이용해 계산된 적어도 하나의 값을 포함하는 이진 홀로그램 생성 방법
|
| 7 |
7
제5항에 있어서,상기 제1 양자화를 수행하는 단계는,상기 홀로그램의 평면을 구성하는 각 픽셀 값이 상기 임계값 미만인 경우, '0' 을 할당하고,상기 홀로그램의 평면을 구성하는 각 픽셀 값이 상기 임계값 이상인 경우, '1' 을 할당하는 이진 홀로그램 생성 방법
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 제2 양자화를 수행하는 단계는,상기 실루엣 마스크로부터 상기 평면의 각 픽셀 간의 거리의 역수값을 결정하는 단계; 및상기 결정된 거리의 역수값을 이용하여 제2 양자화를 수행하는 단계를 포함하는 이진 홀로그램 생성 방법
|
| 9 |
9
제8항에 있어서,상기 실루엣 마스크로부터 상기 평면의 각 픽셀 간의 거리는,상기 실루엣 마스크로부터 수평 방향의 거리 및 수직 방향의 거리 중 적어도 하나의 방향을 고려하는 이진 홀로그램 생성 방법
|
| 10 |
10
홀로그램으로 재현하고자 하는 3차원 형태의 대상 객체를 구성하는 데이터 정보를 수신하는 단계;상기 데이터 정보에 기초하여 상기 대상 객체의 실루엣 마스크를 생성하는 단계;상기 데이터 정보를 이용하여 상기 대상 객체에 대한 복소값 또는 실수값을 갖는 홀로그램을 생성하는 단계;상기 복소값 또는 실수값을 갖는 홀로그램에 상기 대상 객체의 실루엣 마스크를 적용하는 단계;상기 홀로그램에 적용된 실루엣 마스크로부터 상기 홀로그램의 평면을 구성하는 각 픽셀 간의 거리를 결정하는 단계;상기 홀로그램에 설정된 임계값에 상기 결정된 거리를 가중하여 상기 홀로그램의 평면을 구성하는 픽셀들 각각에 서로 다른 임계값을 설정하는 단계; 및상기 서로 다른 임계값이 설정된 홀로그램을 이진화하는 단계를 포함하는 이진 홀로그램 생성 방법
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 이진화하는 단계는,상기 홀로그램의 평면을 구성하는 픽셀들 각각에 설정된 서로 다른 임계값에 기초하여 각 픽셀 값에 '0' 또는 '1'을 할당하는 이진 홀로그램 생성 방법
|
| 12 |
12
홀로그램으로 재현하고자 하는 3차원 형태의 대상 객체를 구성하는 데이터 정보를 수신하는 정보 수신부;상기 데이터 정보에 기초하여 상기 대상 객체의 실루엣 마스크를 생성하는 실루엣 마스크 생성부;상기 데이터 정보를 이용하여 상기 대상 객체에 대한 복소값 또는 실수값을 갖는 홀로그램을 생성하는 홀로그램 생성부; 및상기 대상 객체의 실루엣 마스크를 이용하여 홀로그램을 이진화하는 이진화부를 포함하고,상기 이진화부는,상기 홀로그램의 평면을 구성하는 각 픽셀에 '0' 또는 '1'을 할당하는 제1 양자화부;상기 '0' 또는 '1'로 양자화된 홀로그램에 실루엣 마스크를 적용하는 실루엣 마스크 적용부; 및상기 양자화된 홀로그램에 적용된 실루엣 마스크로부터 상기 평면의 각 픽셀 간의 거리를 이용하여 제2 양자화를 수행하는 제 2양자화부를 포함하는 이진 홀로그램 생성 장치
|
| 13 |
13
삭제
|
| 14 |
14
제12항에 있어서,상기 제1 양자화부는,상기 평면을 구성하는 각 픽셀 값에 대한 임계값을 기준으로 상기 각 픽셀에 '0' 또는 '1'을 할당하는 이진 홀로그램 생성 장치
|
| 15 |
15
제14항에 있어서,상기 제1 양자화부는,상기 홀로그램의 평면을 구성하는 각 픽셀 값이 상기 임계값 미만인 경우, '0' 을 할당하고,상기 홀로그램의 평면을 구성하는 각 픽셀 값이 상기 임계값 이상인 경우, '1' 을 할당하는 이진 홀로그램 생성 장치
|
| 16 |
16
제12항에 있어서,상기 제2 양자화부는,상기 실루엣 마스크로부터 상기 평면의 각 픽셀 간의 거리의 역수값을 이용하여 제2 양자화를 수행하는 이진 홀로그램 생성 장치
|
