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전자석의 위치 오프셋을 측정하는 전자석의 오프셋 측정 장치에 있어서,로드셀이 설치된 검측기;상기 로드셀에서 측정된 신호를 전달받아 부상 전자석의 하단 위치를 연산하는 연산부;를 포함하며,상기 연산부는 하기의 수학식 1에 따라 전자석의 오프셋을 측정하는 전자석의 오프셋 측정 장치[수학식 1] 여기서, dm은 부상 전자석 하단의 기준위치와 실제위치의 차이, gm0는 검측기의 상단과 기준 위치 사이의 간격, mg는 부상전자석에 인가된 전류가 0일 때의 로드셀에서 측정된 무게, i는 부상 전자석에 인가된 전류, FO는 부상 전자석에 전류가 인가되었을 때 로드셀에서 측정된 무게, K는 전자석의 비례 상수이다
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제1 항에 있어서,상기 검측기는 바퀴를 갖고 이동 가능하게 설치된 전자석의 오프셋 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 전자석에 전류를 인가하는 전류 제어기를 더 포함하는 전자석의 오프셋 측정 장치
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제1 항에 있어서,갭 센서의 기준 위치와 실제 위치의 차이인 갭 센서의 오프셋과 상기 전자석의 오프셋을 비교하여 차이를 연산하는 보정부를 더 포함하는 전자석의 오프셋 측정 장치
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전자석의 위치 오프셋을 측정하는 전자석의 오프셋 측정 방법에 있어서,부상 전자석에 전류를 인가하여 부상력을 형성하면서 로드셀이 설치된 검측기를 이용하여 로드셀에 작용하는 무게를 측정하는 단계;로드셀에서 수신된 신호를 바탕으로 검측기와 부상 전자석 사이의 간격을 연산하는 단계; 및부상 전자석 하단의 기준위치와 실제위치의 차이인 오프셋을 연산하는 단계;를 포함하며,상기 간격을 연산하는 단계에서 상기 검측기와 상기 부상 전자석 사이의 간격은 하기의 수학식 2에 따라 연산되는 전자석의 오프셋 측정 방법[수학식 2] 여기서, gm1은 검측기와 부상 전자석 사이의 간격, mg는 부상전자석에 인가된 전류가 0일 때의 로드셀에서 측정된 무게, i는 부상 전자석에 인가된 전류, FO는 부상 전자석에 전류가 인가되었을 때 로드셀에서 측정된 무게, K는 전자석의 비례 상수이다
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제6 항에 있어서,상기 오프셋을 연산하는 단계에서 기준위치와 부상 전자석 하단의 실제위치의 차이(dm)는 하기의 수학식 3에 따라 연산되는 전자석의 오프셋 측정 방법[수학식 3]dm = gm0 - gm1여기서, gm0는 검측기의 상단과 기준 위치 사이의 간격, gm1은 검측기와 부상 전자석 사이의 간격이다
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제8 항에 있어서,상기 무게를 측정하는 단계는 전류를 증가시키면서 이에 따른 무게의 변화를 측정하는 전자석의 오프셋 측정 방법
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제8 항에 있어서,상기 무게를 측정하는 단계와 동시에 실시되며 갭 센서의 하단과 검측기 사이의 간격을 측정하여 갭 센서의 오프 셋을 측정하는 단계를 더 포함하는 전자석의 오프셋 측정 방법
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제10 항에 있어서,상기 갭 센서의 오프셋과 상기 전자석의 오프셋을 비교하여 차이를 연산하는 보정량 연산 단계를 더 포함하는 전자석의 오프셋 측정 방법
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