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수표면에서 플라즈마를 생성하는 액체 처리장치(THE LIQUID TREATMENT APPARATUS FOR GENERATING PLASMA AT THE WATER SURFACE)

  • 기술번호 : KST2017011234
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 액체 처리장치가 개시된다. 상기 액체 처리장치는 판상의 제1 전극; 상기 제1 전극과 접하여 있고, 아랫면이 피처리수의 수표면에 접하거나 인접하도록 설치되고, 상기 아랫면에 형성된 다수의 미세홈을 포함하는 유전체; 상기 피처리수의 하부에 위치하는 제2 전극; 및 상기 제1 전극 및 제2 전극에 전압을 인가하는 전원공급장치를 포함하며, 상기 미세홈은 상기 피처리수가 상기 미세홈의 내부로 유입되지 않을 수 있는 직경을 갖는다.
Int. CL C02F 1/467 (2016.01.30) C02F 1/46 (2016.01.30) C02F 1/461 (2016.01.30) H05H 1/46 (2016.01.30) C02F 1/48 (2016.01.30)
CPC C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/4672(2013.01)
출원번호/일자 1020150184993 (2015.12.23)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0075389 (2017.07.03) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.12.23)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전형원 대한민국 전라북도 군산시
2 유승민 대한민국 대전광역시 서구
3 유석재 대한민국 세종특별자치시 도움*로 ***,
4 김성봉 대한민국 전라북도 군산시
5 오재성 영국 경기도 용인시 기흥구
6 엄상흠 대한민국 전라북도 군산시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-1264032-19
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.05.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.07.11 수리 (Accepted) 9-1-2016-0030084-71
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.08.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0606509-76
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.10.24 수리 (Accepted) 1-1-2016-1029871-32
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.11.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-1145531-12
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2016-1145498-03
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.03.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0235753-32
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2017.05.31 수리 (Accepted) 1-1-2017-0521743-15
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2017.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2017-0632142-66
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.07.27 수리 (Accepted) 1-1-2017-0725406-73
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.07.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0725428-77
13 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2017.09.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0652151-82
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.11.16 수리 (Accepted) 1-1-2017-1140540-07
15 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.11.16 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2017-1140542-98
16 등록결정서
Decision to grant
2018.01.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0031550-87
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1 전극;상기 제1 전극의 일면에 적층되어 있고, 상기 제1 전극과 접한 면의 반대면에 형성된 음각 형태의 다수의 미세홈 및 상기 미세홈들 사이에 양각 형태로 구비되고 모두 동일 높이로 위치하는 다수의 양각평면을 포함하는 유전체;피처리수의 하부에 위치하는 제2 전극; 및 상기 제1 전극 및 제2 전극에 전원을 인가하는 전원공급장치를 포함하며,상기 피처리수의 수표면에서의 방전을 위해 상기 다수의 양각평면은 상기 수표면에 접하도록 배치되고,상기 각각의 미세홈 간의 간격, 상기 각각의 양각평면 간의 간격, 및 각각의 미세홈의 직경은 상기 미세홈의 내부로 피처리수가 유입되지 않을 수 있게 설정되는 것을 특징으로 하는,수표면에서 플라즈마를 생성하는 액체 처리장치
2 2
제1항에 있어서,상기 유전체는 상기 제1 전극을 감싸고 있고,상기 유전체는 상기 미세홈들과 유체 소통 가능하게 연결되어 상기 미세홈들에 기체를 주입하는 기체주입로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,수표면에서 플라즈마를 생성하는 액체 처리장치
3 3
제1항에 있어서,상기 제2 전극은 상기 피처리수를 저장하는 수조로 이루어지는 것을 특징으로 하는,수표면에서 플라즈마를 생성하는 액체 처리장치
4 4
제2항에 있어서,상기 기체는 산소(O2), 질소(N2), 아르곤(Ar), 헬륨(He), 공기(Air)로 이루어진 그룹 중 선택된 어느 하나의 기체 또는 둘 이상의 혼합기체인 것을 특징으로 하는,수표면에서 플라즈마를 생성하는 액체 처리장치
5 5
제1항에 있어서,상기 전원은 교류(AC), 직류(DC) 또는 펄스(Pulse) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는,수표면에서 플라즈마를 생성하는 액체 처리장치
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2017111534 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2017111534 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.