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기재의 표면에 폴리아닐린 나노섬유층을 형성하는 제1 단계;상기 폴리아닐린 나노섬유층을 완전 산화된 퍼니그라닐린(pernigraniline) 상태로 변화시키는 제2 단계;상기 폴리아닐린 나노섬유층의 표면에 고분자 중합개시 작용기를 갖는 자기조립 단분자막을 형성하는 제3 단계; 및상기 자기조립 단분자막의 표면에 실리카층을 형성하는 제4 단계를 포함하는 극친수성 표면체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 단계에서, 상기 기재는 아닐린 단량체 용액에 침지되고, 상기 폴리아닐린 나노섬유층은 0℃ 내지 5℃에서 산화 중합(oxidative polymerization)에 의해 에머랄딘 염(emeraldine salt) 상태로 형성되는 극친수성 표면체의 제조 방법
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제2항에 있어서,상기 아닐린 단량체 용액은 과황산암모늄, 과황산칼륨, 및 과황산나트륨 중 적어도 하나와, 과염소산, 염산, 캠퍼설폰산, 파라톨루엔설폰산, 및 도데실벤젠설폰산 중 적어도 하나를 포함하는 극친수성 표면체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 단계 이전에, 상기 기재에 샌드 블라스팅, 건식 식각, 습식 식각, 플라즈마 처리, 및 자외선 처리 중 어느 하나의 전처리 과정이 수행되는 극친수성 표면체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제2 단계에서, 상기 폴리아닐린 나노섬유층은 탈이온수로 초음파 세척 후 오븐에서 건조되는 극친수성 표면체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제3 단계에서, 상기 자기조립 단분자막은 2-디메틸아미노에탄티올(DMAET), 및 2-(디메틸아미노)에틸 메타크릴레이트(DMAEMA) 중 어느 하나를 포함하며, 침지법으로 형성되는 극친수성 표면체의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 제3 단계에서, 상기 폴리아닐린 나노섬유층은 루코에머랄딘(leucoemeraldine) 상태로 환원되는 극친수성 표면체의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 제4 단계에서, 상기 실리카층은 상기 제3 단계를 거친 상기 기재를 단순 규산(monosilicic acid) 용액에 침지하는 방법으로 형성되는 극친수성 표면체의 제조 방법
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기재의 표면에 형성된 루코에머랄딘(leucoemeraldine) 상태의 폴리아닐린 나노섬유층;상기 폴리아닐린 나노섬유층의 표면에 형성된 자기조립 단분자막; 및상기 자기조립 단분자막의 표면에 형성된 실리카층을 포함하는 극친수성 표면체
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제9항에 있어서,상기 자기조립 단분자막은 2-디메틸아미노에탄티올(DMAET), 및 2-(디메틸아미노)에틸 메타크릴레이트(DMAEMA) 중 어느 하나를 포함하는 극친수성 표면체
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다공성 필름; 및상기 다공성 필름의 표면에 형성된 극친수성 표면체를 포함하며,상기 극친수성 표면체는,상기 다공성 필름의 표면에 형성된 루코에머랄딘(leucoemeraldine) 상태의 폴리아닐린 나노섬유층;상기 폴리아닐린 나노섬유층의 표면에 형성된 자기조립 단분자막; 및상기 자기조립 단분자막의 표면에 형성된 실리카층을 포함하는 유수 분리용 필터
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제11항에 있어서,상기 자기조립 단분자막은 2-디메틸아미노에탄티올(DMAET), 및 2-(디메틸아미노)에틸 메타크릴레이트(DMAEMA) 중 어느 하나를 포함하는 유수 분리용 필터
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