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직물;상기 직물의 표면에 코팅된 나노선 구조체; 및상기 나노선 구조체가 코팅된 직물 상에 코팅된 보호층을 포함하는 전자 직물
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제1항에 있어서,상기 전자 직물은 코어-쉘 구조인 것을 특징으로 하는 전자 직물
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제1항에 있어서,상기 직물은 셀룰로스계 섬유, 폴리아미드계 섬유, 아크릴계 섬유, 아라미드계 섬유, 폴리에스테르계 섬유, 나일론 섬유, 면 섬유, 양모 섬유 및 실크 섬유로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 포함하는 전자 직물
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제1항에 있어서,상기 나노선 구조체는 금속 나노선 또는 반도체 나노선을 포함하는 전자 직물
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제4항에 있어서,상기 금속 나노선은 Ag, Cr, Cu, Au, Fe, Co, Al, Ni, Pt, Ti, Ga, Pd, Sn, Mo 및 W로 구성된 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 전자 직물
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제4항에 있어서,상기 반도체 나노선은 Si, Ge, SiGe, GaAs, InP, InAs, InSb, GaSb, CdTe, CdS, ZnS 및 ZnO로 구성된 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 전자 직물
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제1항에 있어서,상기 보호층은 그래핀 또는 탄소나노튜브를 포함하는 전자 직물
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섬유;상기 섬유의 표면에 코팅된 나노선 구조체; 및상기 나노선 구조체가 코팅된 섬유 상에 코팅된 보호층을 포함하는 전자 섬유로 제조된 전자 직물
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직물;상기 직물의 표면에 코팅된 나노선 구조체;상기 나노선 구조체가 코팅된 직물 상에 코팅된 보호층을 포함하는 전자 직물;상기 전자 직물 상에 형성된 양극 버퍼층;상기 양극 버퍼층 상에 형성된 활성층; 및상기 활성층 상에 형성된 음극을 포함하고,상기 전자 직물은 기판 및 양극으로 사용되는 것을 특징으로 하는 광전자 소자
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제9항에 있어서,상기 양극 버퍼층은 PEDOT:PSS(poly(3,4-ethylenedioxythiophene):poly(stylensulfoonate)), 그래핀 산화물(graphene oxide), MoOx, NiOx, WOx 및 LiO 로 구성된 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광전자 소자
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제9항에 있어서,상기 활성층은 고분자 기반의 벌크 이종접합 물질 또는 다층접합 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 광전자 소자
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제9항에 있어서,상기 음극은 Ag, Al, Au, Mg, 탄소나노튜브 또는 그들의 나노 복합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 광전자 소자
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제1 전자 직물 및 상기 제1 전자 직물 상에 위치하는 마찰대전 과정에서 전자를 잃는 경향을 가진 제1 유기절연체를 포함하는 양의 기능성 직물; 및제2 전자 직물 및 상기 제2 전자 직물 상에 위치하는 마찰대전 과정에서 전자를 얻는 경향을 가진 제2 유기절연체를 포함하는 음의 기능성 직물을 포함하고,상기 양의 기능성 직물 및 상기 음의 기능성 직물의 접촉 및 분리 과정을 통해 마찰전기를 발생시키는 것을 특징으로 하고,상기 제1 전자 직물 또는 상기 제2 전자 직물은 제1항 또는 제8항의 전자 직물인 것을 특징으로 하는 웨어러블 전기발전기
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제13항에 있어서,상기 제1 유기절연체는 폴리포름알데하이드(polyformaldehyde), 폴리아마이드(polyamide), 멜라닌 포르몰(melanine formol), 울(wool), 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate) 또는 폴리비닐 알코올(polyvinyl alcohol)을 포함하는 웨어러블 전기발전기
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제13항에 있어서,상기 제2 유기절연체는 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene), 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane), 폴리비닐 클로라이드(polyvinyl chloride), 폴리이미드(polyimide) 또는 폴리프로필렌(polypropylene)을 포함하는 웨어러블 전기발전기
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제13항에 있어서,상기 제1 유기절연체 또는 상기 제2 유기절연체 상에 위치하는 요철 구조 패턴을 더 포함하는 웨어러블 전기발전기
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제16항에 있어서,상기 요철 구조 패턴은 피라미드 패턴 또는 사각 패턴을 포함하는 웨어러블 전기발전기
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제1항 또는 제8항의 전자 직물을 포함하는 전자소자용 플렉서블 전극
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직물을 준비하는 단계;상기 직물의 표면에 나노선 구조체를 형성하는 단계; 및상기 나노선 구조체가 형성된 직물 상에 보호층을 형성하는 단계를 포함하는 전자 직물 제조방법
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제19항에 있어서,상기 나노선 구조체를 형성하는 단계는 블레이드 코팅법, 스프레이 코팅법 또는 스핀 코팅법을 수행하여 형성하는 것을 특징으로 하는 전자 직물 제조방법
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제19항에 있어서,상기 보호층을 형성하는 단계는 블레이드 코팅법, 스프레이 코팅법 또는 스핀 코팅법을 수행하여 형성하는 것을 특징으로 하는 전자 직물 제조방법
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직물을 준비하는 단계;상기 직물의 표면에 나노선 구조체를 형성하는 단계;상기 나노선 구조체가 형성된 직물 상에 보호층을 형성하여 전자 직물을 형성하는 단계;상기 전자 직물 상에 양극 버퍼층을 형성하는 단계;상기 양극 버퍼층 상에 활성층을 형성하는 단계; 및상기 활성층 상에 음극을 형성하는 단계를 포함하고,상기 전자 직물은 기판 및 양극으로 사용되는 것을 특징으로 하는 광전자 소자 제조 방법
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