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고세장비를 갖는 나노 구조물을 제조하는 방법에 있어서,기판상에 금속 나노 입자 도포액을 도포하는 금속 나노 입자 도포액 도포단계(S100);와 금속 나노 입자 도포액이 도포된 기판상에 선택적으로 레이저를 조사하여 Optical force에 의해 나노 시드(Nano seed)를 프린팅하는 나노 시드 프린팅단계(S200);와금속 나노 입자 도포액을 제거하는 금속 나노 입자 도포액 제거단계(S300);와 상기 나노 시드를 나노 와이어로 성장시키는 나노 와이어 형성단계(S400)를 포함하는 것을 특징으로 하는고세장비 나노 구조물의 제조 방법
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제 1항에 있어서, 상기 금속 나노 입자 도포액은금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe), 크롬(Cr), 파라듐(Pd), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 아연(Zn) 중 어느 하나를 포함하는 금속 나노 입자와 유기 용매를 혼합한 것을 특징으로 하며, 상기 금속 나노 입자 도포액의 점도는 1 내지 100 cp 인 것을 특징으로 하는고세장비 나노 구조물의 제조 방법
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제 1항에 있어서, 상기 기판은SiO2, TiO2, ZnO, 유리, 실리콘 웨이퍼, 유기 박막형 필름 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는고세장비 나노 구조물의 제조 방법
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제 1항에 있어서, 상기 레이저는펄스 레이저(Pulse Laser), CW 레이저(Continuous wave Laser), QCW 레이저(Quasi-Continuous wave Laser) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는고세장비 나노 구조물의 제조 방법
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제 1항에 있어서, 상기 나노 시드 프린팅단계(S200)는기판상에 나노 시드를 형성할 패턴영역을 설정하는 패턴영역 설정단계(S210)와;레이저의 초점을 나노 시드를 형성할 패턴영역에 맞추고, 레이저를 조사하는 레이저 조사단계(S220)를 포함하는 것을 특징으로 하며,상기 레이저 조사단계(S220)는기판은 고정하고 레이저를 이동조사하면서 나노 시드를 형성하거나 레이저를 고정하고 기판을 이동시키면서 나노 시드를 형성하는 것을 특징으로 하는고세장비 나노 구조물의 제조 방법
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제 1항 내지 제 5항 중 어느 하나의 항의 제조방법에 의해 제조되는 고세장비 나노구조물
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제 6항의 고세장비 나노 구조물을 포함하는 광결정(photonic crystal)소자
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