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제1관통홀이 형성된 폴리머 필름을 나노박막에 밀착시켜, 너비 방향으로 상기 제1관통홀이 나노박막의 내측 부분에 배치되도록 폴리머 필름에 나노박막을 부착시키는 단계(S10); 및 상기 나노박막이 부착된 폴리머 필름을 관통공이 형성된 타겟 기판에 밀착시키되 나노박막이 타겟기판에 밀착되도록 하며, 너비 방향으로 상기 관통공이 제1관통홀의 내측 부분에 배치되도록 하여, 상기 관통공이 형성된 타겟 기판에 나노박막이 자유지지되도록 전사하는 단계(S20); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 불순물이 없는 자유지지 나노박막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 S10단계는, 구멍이 형성된 제1임시 기판에 폴리머 전구체 용액을 도포한 후 경화시켜, 상기 제1임시 기판에 형성된 구멍에 대응되도록 제1관통홀이 형성된 폴리머 필름을 형성하는 단계(S11); 및 상기 제1임시 기판에서 경화된 폴리머 필름을 떼어내는 단계(S13); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 불순물이 없는 자유지지 나노박막 제조 방법
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제2항에 있어서,상기 S11단계에서,구멍이 형성된 제1임시 기판에 상에 폴리머 전구체 용액을 떨어뜨린 후 스핀코팅하여, 상기 제1임시 기판에 형성된 구멍에 대응되도록 제1관통홀이 형성된 폴리머 필름을 형성하는 것을 특징으로 하는 고분자 불순물이 없는 자유지지 나노박막 제조 방법
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제2항에 있어서,상기 S11단계와 S13단계 사이에,상기 제1관통홀이 형성된 폴리머 필름에 제2관통홀이 형성된 써멀 릴리즈 테잎(TRT; Thermal release tape)을 부착시키되, 너비 방향으로 제2관통홀의 내측 부분에 제1관통홀이 배치되도록 하는 단계(S12); 를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 불순물이 없는 자유지지 나노박막 제조 방법
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제2항에 있어서,상기 S13단계에서는, 상기 제1임시 기판과 폴리머 필름의 사이에 용매가 침투되도록 하여, 상기 제1임시 기판으로부터 폴리머 필름이 분리되도록 하는 것을 특징으로 하는 고분자 불순물이 없는 자유지지 나노박막 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 S10단계에서는,제2임시 기판상에 나노박막이 형성된 상태에서 상기 제1관통홀이 형성된 폴리머 필름을 나노박막에 밀착시키되 너비 방향으로 상기 제1관통홀이 나노박막의 내측 부분에 배치되도록 한 후, 상기 나노박막과 제2임시 기판 사이에 용매를 침투시켜 제2임시 기판으로부터 나노박막이 분리되도록 하는 것을 특징으로 하는 고분자 불순물이 없는 자유지지 나노박막 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 S20단계 이후,상기 써멀 릴리즈 테잎에 열을 가한 후 폴리머 필름으로부터 써멀 릴리즈 테잎을 떼어내 제거하는 단계(S30); 를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 불순물이 없는 자유지지 나노박막 제조 방법
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제7항에 있어서,상기 S20단계 또는 S30단계 이후,상기 타겟 기판으로부터 폴리머 필름을 제거하는 단계(S40); 를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 불순물이 없는 자유지지 나노박막 제조 방법
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