| 1 |
1
폭발성 배기가스가 유입 및 배출되도록 마련되는 하전용 챔버;상기 하전용 챔버 내부에 설치되는 단극의 고전압이 인가되는 하전용 고전압 인가판과, 상기 폭발성 배기가스의 흐름 방향과 교차하는 방향으로 상기 하전용 고전압 인가판으로부터 이격설치되어 접지되는 이온포집판을 포함하는 하전부;상기 하전용 챔버 내부와 연통되도록 설치되는 연통배관과, 상기 연통배관의 외측 단부에 설치되어 상기 하전용 챔버의 외측에 형성되며 상기 하전부에 인가되는 고전압의 극성과 동일한 극성의 이온을 생성하는 방전부를 포함하여 생성한 이온을 상기 연통배관을 통해 상기 하전용 챔버 내부로 이송하도록 마련되어 상기 하전용 챔버 내부로 유입되는 폭발성 배기가스가 상기 방전부의 방전에 의해 폭발하는 것을 방지하는 적어도 하나의 이온주입부;상기 하전용 챔버로부터 배출되는 단극 하전된 폭발성 배기가스가 유입되는 집진용 챔버; 및,상기 집진용 챔버 내부에 설치되며, 집진용 고전압 인가판과 상기 집진용 고전압 인가판과 이격되어 설치되어 접지되는 포집판과, 상기 포집판의 판면에 수막을 형성하는 수막형성부를 포함하는 정전집진부;를 포함하고,상기 이온주입부는 상기 폭발성 배기가스의 흐름 방향을 따라 다수 개가 이격배열되고,상기 이온주입부가 배열되는 배열간격은 상기 하전용 고전압 인가판과 상기 이온포집판 간의 거리보다 크게 형성되는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 집진용 고전압 인가판과 상기 포집판은 세로방향으로 배치되는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 포집판은 친수성 표면처리되어 마련되는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 친수성 표면처리는 볼 블라스팅(ball blasting) 공법에 의한 것인 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
| 5 |
5
제2항에 있어서,상기 수막형성부는 상기 포집판의 가로방향을 따라 배치되어 상기 포집판의 표면을 따라 세정액이 낙하하도록 상기 포집판의 상단에 세정액을 분사하는 분사부재와, 상기 분사부재에 세정액을 공급하는 세정액 공급부를 포함하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 분사부재는 상기 포집판의 가로 방향으로 배열되는 다수 개의 분무기 또는 상기 포집판의 가로 방향으로 다수의 분사노즐이 배열형성된 파이프인 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 하전용 고전압 인가판은 상기 하전용 챔버의 내부 상측에 판면이 상하면으로 위치하도록 설치되며, 상기 이온포집판은 상기 하전용 챔버의 내부 하측에 판면이 상기 하전용 고전압 인가판의 판면과 마주보도록 설치되며,상기 연통배관은 생성한 이온이 상기 고전압 인가판과 상기 이온포집판의 사이로 유입되도록 상기 하전용 챔버에 결합되는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
| 8 |
8
삭제
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 이온주입부가 배열되는 배열간격은 일정하게 형성되는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 이온주입부는 외부유체를 유입하여 상기 연통배관 내부를 따라 상기 하전용 챔버 측으로 유체 흐름을 형성하도록 설치되는 유체유입부를 더 포함하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
| 11 |
11
폭발성 배기가스가 유입 및 배출되도록 마련되는 하전용 챔버;상기 하전용 챔버 내부에 설치되는 단극의 고전압이 인가되는 하전용 고전압 인가판과, 상기 폭발성 배기가스의 흐름 방향과 교차하는 방향으로 상기 하전용 고전압 인가판으로부터 이격설치되어 접지되는 이온포집판을 포함하는 하전부;상기 하전용 챔버 내부와 연통되도록 설치되는 연통배관과, 상기 연통배관의 외측 단부에 설치되어 상기 하전용 챔버의 외측에 형성되며 상기 하전부에 인가되는 고전압의 극성과 동일한 극성의 이온을 생성하는 방전부를 포함하여 생성한 이온을 상기 연통배관을 통해 상기 하전용 챔버 내부로 이송하도록 마련되어 상기 하전용 챔버 내부로 유입되는 폭발성 배기가스가 상기 방전부의 방전에 의해 폭발하는 것을 방지하는 적어도 하나의 이온주입부;상기 하전용 챔버로부터 배출되는 단극 하전된 폭발성 배기가스가 유입되는 집진용 챔버; 및,상기 집진용 챔버 내부에 설치되며, 집진용 고전압 인가판과 상기 집진용 고전압 인가판과 이격되어 설치되어 접지되는 포집판과, 상기 포집판의 판면에 수막을 형성하는 수막형성부를 포함하는 정전집진부;를 포함하고,상기 이온주입부는 다수의 관통홀이 형성되어 상기 연통배관의 유체 흐름 방향과 교차하는 방향으로 설치되는 유속증가부를 더 포함하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
| 12 |
12
제11항에 있어서,상기 관통홀은 원형, 타원형 또는 슬릿 형상 중 어느 하나인 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
