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하전 입자에 자기장을 인가하는 자기장 인가부;상기 하전 입자에 마이크로파를 주입하는 마이크로파 주입부; 및상기 마이크로파의 주파수에 기초하여 상기 자기장을 제어하는 제어부;를 포함하며,상기 제어부는, 상기 마이크로파 주입부의 출력전압 또는 출력전류를 실시간으로 감지하고, 감지한 상기 출력전압 또는 출력전류를 푸리에 변환하여 상기 마이크로파의 주파수를 분석하는 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 제어부는 상기 주파수에 기초한 목표 자기장을 분석하여 상기 자기장 인가부에 송신하고,상기 자기장 인가부는 상기 목표 자기장을 수신하고 상기 목표 자기장과 상기 자기장간의 차이에 따라 상기 자기장의 크기를 변경하는 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 자기장 인가부는 상기 자기장을 형성하는 솔레노이드를 포함하고,상기 제어부는 상기 솔레노이드에 전류를 인가하는 플라즈마 발생 장치
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제4항에 있어서,상기 제어부는 하기의 수학식:에 따른 전류(i)를 상기 솔레노이드에 인가하며,여기서, f는 상기 마이크로파의 주파수이고, a는 상수인 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 마이크로파 주입부는 상기 자기장에 의한 상기 하전 입자의 사이클로트론(cyclotron) 운동 진동수와 동일한 주파수의 마이크로파를 상기 하전 입자에 주입하는 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 하전 입자를 수용하고 상기 하전 입자로부터 발생하는 플라즈마를 제1 방향으로 분출하는 용기를 더 포함하고,상기 자기장 인가부는, 상기 용기를 기준으로 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 이격된 위치에 배치되고,상기 마이크로파 주입부는, 상기 용기를 기준으로 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 다른 제3 방향으로 이격된 위치에 배치되는 플라즈마 발생 장치
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