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(a) 기판에 마이크로 또는 나노 구조물을 형성하는 단계;(b) 기판 및 구조물 상부에 제1 절연막을 형성하는 단계;(c) 구조물에 도전성 재질을 코팅하고, 전극라인 패턴을 형성하는 단계;(d) 기판 및 구조물 상부에 제2 절연막을 형성하는 단계;(e) 구조물 상부에 제2 절연막을 식각하여 도전성 재질을 노출시키고 탐침부를 형성하는 단계; 및(f) 탐침부에 질병원을 탐지하고 투약 가능한 생화학 물질로 구성된 선택적 투약부를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (a) 단계는,기판에 적어도 두 개의 나노 탐침 구조물을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 2에 있어서,상기 (a) 단계는,기판에 3-아미노프로필트리에톡시실란(APTES)를 증착하고, 액체 금속(liquid metal)을 증착하는 단계; 및증착된 기판에 VLS(Vapor-Liquid-Solid) 기법으로 적어도 2개의 나노선을 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 2에 있어서,상기 (a) 단계는,기판 상부에 Cr을 코팅하는 단계;코팅된 기판에 집속 이온 빔(FIB: Focused Ion Beam) 기법을 이용하여 100 nm 내지 200 nm의 홀을 적어도 2개 형성하는 단계; 및상기 홀에 VLS 법 또는 FIB 법을 이용하여 나노선을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (a) 단계는,기판에 일부를 식각하여 적어도 2개의 마이크로 구조물을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 5에 있어서,상기 (a) 단계는,기판에 Al 및 Si의 그룹에 속하는 재질 중 어느 하나를 증착하고, 고종횡비 반응성 이온 식각(DIRE) 공정을 통해 선택적으로 식각하여 적어도 두 개의 마이크로 기둥을 형성하는 단계; 및마이크로 기둥 상단을 습식식각 공정 또는 이방성-등방성 다중 루프 식각 공정으로 마이크로 니들 구조로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (b) 단계에서,구조물이 형성된 기판에 화학기상증착법으로 SiO2 또는 Al2O3를 재질로 하는 제1 절연막을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (c) 단계는,스퍼터링법으로 구조물을 Au, Ag, Cu 및 Pt의 그룹에 속하는 재질 중 어느 하나를 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (d) 단계는,상기 기판 및 구조물 상부에 화학기상증착법으로 SiO2 또는 Al2O3를 재질로 하는 제2 절연막을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (a) 단계는,지름이 100 nm 내지 300 nm 이고, 높이가 3 ㎛ 내지 10 ㎛ 인 나노 구조물을 기판에 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (a) 단계는,지름이 20 ㎛ 내지 400 ㎛ 이고, 높이가 50 ㎛ 내지 1,000 ㎛ 인 마이크로 구조물을 기판에 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 (f) 단계에서,상기 선택적 투약부는,마이크로 구조물 최상단 또는 나노 구조물 측면에 결합되는 것으로,질병원을 탐지하기 위한 스페이서와 표적 잔기(targeting residue)로 구성된 탐침부; 및생분해성 고분자 스페이서와 약물로 구성된 약물 전달부를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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(a) 기판을 식각하여 마이크로 기둥을 형성하는 단계;(b) 상기 마이크로 기둥 상단에 나노 구조물을 형성하는 단계;(c) 기판, 마이크로 기둥 및 나노 구조물 상부에 제1 절연막을 형성하는 단계;(d) 마이크로 기둥 및 나노 구조물에 도전성 재질을 코팅하고, 전극라인 패턴을 형성하는 단계;(e) 기판, 마이크로 기둥 및 나노 구조물 상부에 제2 절연막을 형성하는 단계;(f) 구조물 상부에 제2 절연막을 식각하여 도전성 재질을 노출시키고 탐침부를 형성하는 단계; 및(g) 탐침부에 질병원을 탐지하고 투약 가능한 생화학 물질로 구성된 선택적 투약부를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 14에 있어서,상기 (a) 단계는,기판에 Al 및 Si의 그룹에 속하는 재질 중 어느 하나를 증착하고, 고종횡비 반응성 이온 식각(DIRE) 공정을 통해 선택적으로 식각하여 적어도 두 개의 마이크로 기둥을 형성하는 단계; 및마이크로 기둥 상단을 습식식각 공정 또는 이방성-등방성 다중 루프 식각 고정으로 마이크로 니들 구조로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 14에 있어서,상기 (b) 단계는,기판에 3-아미노프로필트리에톡시실란(APTES)를 증착하고, 액체 금속(liquid metal)을 증착하는 단계; 및증착된 기판에 VLS(Vapor-Liquid-Solid) 기법으로 적어도 2개의 나노선을 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 14에 있어서상기 (b) 단계는,기판 상부에 Cr을 코팅하는 단계;코팅된 기판에 집속 이온 빔(FIB: Focused Ion Beam) 기법을 이용하여 100 nm 내지 200 nm의 홀을 적어도 2개 형성하는 단계; 및상기 홀에 VLS 법 또는 FIB 법을 이용하여 나노선을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 14에 있어서,상기 (a) 단계는,지름이 20 ㎛ 내지 400 ㎛ 이고, 높이가 50 ㎛ 내지 1,000 ㎛ 인 마이크로 기둥을 기판에 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 14에 있어서,상기 (b) 단계는,지름이 100 nm 내지 300 nm 이고, 높이가 3 ㎛ 내지 10 ㎛ 인 나노 구조물을 기판에 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 14에 있어서,상기 선택적 투약부는,마이크로 기둥 또는 나노 구조물 측면에 결합되는 것으로,질병원을 탐지하기 위한 스페이서와 표적 잔기(targeting residue)로 구성된 탐침부; 및생분해성 고분자 스페이서와 약물로 구성된 약물 전달부를 포함하는 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자 제조방법
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청구항 1 또는 청구항 14의 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 진단 및 치료 탐침을 위한 침습형 생체소자
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