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플로로글루시놀의 하이드록시기와 하기 화학식 2로 표시되는 단량체의 아실 할라이드기가 중합반응으로 구형의 입자 형태를 가지는 고차가지구조 고분자 나노입자를 탄화시키는 것을 특징으로 하는 고차가지구조 고분자 다공성 나노입자:[화학식 2]상기 화학식 2에서, B는 벤젠 고리이며, X는 염소(Cl), 브롬(Br) 및 요오드(I)로 이루어진 할로겐 군에서 선택된 어느 하나임
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플로로글루시놀을 용매에 용해시킨 후, 염기 화합물을 넣고 교반하여 제 1 혼합물을 제조하는 제 1단계;하기 화학식 2로 표시되는 단량체를 용매에 용해하여 제 2 혼합물을 제조하는 제 2단계;상기 제 1 혼합물에 상기 제 2 혼합물을 적하하고 교반하는 제 3단계;교반이 끝난 후, 산 화합물을 첨가하여 반응을 종결하고 침전물을 여과한 후 세척하여 고차가지구조 고분자 나노입자를 획득하는 제 4단계; 및상기 고차가지구조 고분자 나노입자를 탄화시키는 제 5단계;를 포함하는 고차가지구조 고분자 다공성 나노입자의 제조방법:[화학식 2]상기 화학식 2에서, B는 벤젠 고리이며, X는 염소(Cl), 브롬(Br) 및 요오드(I)로 이루어진 할로겐 군에서 선택된 어느 하나임
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제 7항에 있어서, 상기 제 5단계는, 아르곤 또는 질소 환경 하에서 400 내지 800도의 온도로 3 내지 8시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 고차가지구조 고분자 다공성 나노입자의 제조방법
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플로로글루시놀의 하이드록시기와 하기 화학식 2로 표시되는 단량체의 아실 할라이드기가 중합반응으로 구형의 입자 형태를 가지는 고차가지구조 고분자 나노입자에 형광 염료를 부착한 것을 특징으로 하는 고차가지구조 고분자 형광 나노입자:[화학식 2]상기 화학식 2에서, B는 벤젠 고리이며, X는 염소(Cl), 브롬(Br) 및 요오드(I)로 이루어진 할로겐 군에서 선택된 어느 하나임
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플로로글루시놀을 용매에 용해시킨 후, 염기 화합물을 넣고 교반하여 제 1 혼합물을 제조하는 제 1단계;하기 화학식 2로 표시되는 단량체를 용매에 용해하여 제 2 혼합물을 제조하는 제 2단계;상기 제 1 혼합물에 상기 제 2 혼합물을 적하하고 교반하는 제 3단계;교반이 끝난 후, 산 화합물을 첨가하여 반응을 종결하고 침전물을 여과한 후 세척하여 고차가지구조 고분자 나노입자를 획득하는 제 4단계; 및질소 환경 하에서 염기 촉매 및 축합제를 첨가하여 상기 고차가지구조 고분자 나노입자에 형광 염료를 부착시키는 제 5단계; 를 포함하는 고차가지구조 고분자 형광 나노입자의 제조방법:[화학식 2]상기 화학식 2에서, B는 벤젠 고리이며, X는 염소(Cl), 브롬(Br) 및 요오드(I)로 이루어진 할로겐 군에서 선택된 어느 하나임
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제 10항에 있어서, 상기 제 5단계의 형광 염료는 로다민(rhodamine), 보디피(bodipy), 알렉사(Alexa), 하일라이트 플루오르(hylite fluor), 사아닌(cyanine), 폴리페닐(polyphenyl), 스틸벤(stilbene), 쿠마린(courmarin), 플로오레세인(fluorescein) 및 이들의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되며, 상기 형광 염료는 카르복실기(-COOH), 하이드록시기(-OH) 및 산 할로겐으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 치환된 것을 특징으로 하는 고차가지구조 고분자 형광 나노입자의 제조방법
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제 10항에 있어서, 상기 염기 촉매는 피리딘계 화합물인 것을 특징으로 하는 고차가지구조 고분자 형광 나노입자의 제조방법
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제 10항에 있어서, 상기 축합제는 N,N'-디사이클로헥실카르보디이미드(DCC), 1-에틸-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염(EDCI), N,N’-디이소프로필카르보이미드(DIC) 및 N,N-카르보닐 디이미다졸(CDI)로 이루어지는 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 고차가지구조 고분자 형광 나노입자의 제조방법
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제 10항에 있어서, 상기 제 1단계 및 제 2단계의 용매는 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran, THF), 메틸렌 클로라이드(methylene chloride, MC) 및 클로로포름(chloroform)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고차가지구조 고분자 형광 나노입자의 제조방법
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