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광에 대하여 투과성을 가지고 제1 굴절률을 가지고 신축성을 가지는 투명 신축 필름; 및외부로 돌출되지 않도록 상기 투명 신축 필름 내부에 완전히 매몰되고 비신축성을 가지고 상기 제1 굴절률보다 높은 제2 굴절률을 가지는 주기 패턴을 포함하고,상기 투명 신축 필름은 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane; PDMS), PFPE(perfluoropolyether), 에폭시(epoxy) 수지, 라텍스(latex) 고무 중에서 적어도 하나를 포함하고,상기 주기 패턴은 타이타늄산화물(TiO2), 지르코늄산화물(ZrO2), 아연산화물(ZnO), 실리콘(Si), 그리고 제마늄(Ge) 중에서 하나를 포함하고,1110nm 내지 1600nm 범위에서 단일 피크의 반사율 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 가변 칼라 필터
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제1 항에 있어서,상기 주기 패턴은 나란히 연장되는 직선이고, 상기 주기 패턴의 주기는 입사하는 파장보다 작고, 상기 주기 패턴의 두께는 반파장 내지 파장의 정수배의 범위인 것을 특징으로 하는 가변 칼라 필터
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제1 항에 있어서,상기 주기 패턴은 제1 방향의 제1 주기를 가지고 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향으로 제1 주기와 다른 제2 주기를 가지고 배치되고,상기 제1 주기 및 상기 제2 주기는 입사하는 파장보다 작고, 상기 주기 패턴의 두께는 반파장 내지 파장의 정수배의 범위인 것을 특징으로 하는 가변 칼라 필터
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외력에 의하여 변형되고 측정 대상에 부착된 가변 칼라 필터;상기 가변 칼라 필터에 광대역의 입사광을 조사하는 광대역 광원;상기 가변 칼라 필터에서 반사된 반사광 또는 상기 가변 칼라 필터을 투과한 광을 제공받아 파장에 따라 스펙트럼을 측정하는 분광기; 및상기 분광기에 측정된 반사 스펙트럼의 최대 세기의 파장 또는 투과 스펙트럼의 최소 세기의 파장으로부터 상기 가변 칼라 필터의 변형률을 산출하는 처리부를 포함하고,상기 가변 칼라 필터는:광에 대하여 투과성을 가지고 제1 굴절률 가지고 신축성을 가지는 투명 신축 필름; 및외부로 돌출되지 않도록 상기 투명 신축 필름 내부에 완전히 매몰되고 상기 제1 굴절률보다 높은 제2 굴절률을 가지는 주기 패턴을 포함하고,상기 가변 칼라 필터는 1110nm 내지 1600nm 범위에서 단일 피크의 반사율 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 변형률 측정 장치
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제4 항에 있어서,상기 가변 칼라 필터는 상기 투명 신축 필름의 일면에 배치된 접착층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 변형률 측정 장치
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제4 항에 있어서,상기 투명 신축 필름은 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane; PDMS), PFPE(perfluoropolyether), 에폭시(epoxy) 수지, 라텍스(latex) 고무 중에서 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 변형률 측정 장치
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제4 항에 있어서,상기 주기 패턴은 타이타늄산화물(TiO2), 지르코늄산화물(ZrO2), 아연산화물(ZnO), 실리콘(Si), 그리고 제마늄(Ge) 중에서 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 변형률 측정 장치
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