1 |
1
그 표면이 수소를 포함하는 반응가스를 이용하여 플라즈마 처리되어 비정질 탄소가 제거되고, 상용 다이아몬드 상태에서 분쇄되고, 그 표면에 기능기가 부착된 나노다이아몬드 분말; 및상기 나노다이아몬드 분말을 분산시키는 폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene;PTFE) 용액을 포함하고,상기 상용 다이아몬드 분말의 크기는 4 마이크로미터 수준이고, 플라즈마 처리된 나노다이아몬드의 입자 크기는 폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene;PTFE) 용액에서 분산된 상태에서 190 내지 220 nm이고,상기 기능기는 아미노기(-NH2) 인 것을 특징으로 하는 폴리테트라플루오로에틸렌 코팅제
|
2 |
2
삭제
|
3 |
3
삭제
|
4 |
4
상용 다이아몬드 분말을 수소를 포함하는 반응 가스를 이용하여 플라즈마 처리하여 나노다이아몬드 분말로 분쇄하고, 그 표면에서 비정질 탄소를 제거하고, 기능기를 부착하는 단계; 및폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene;PTFE) 용액에 플라즈마 처리된 나노다이아몬드 분말을 혼합하는 단계;를 포함하고, 상기 플라즈마 처리 시 상기 나노다이아몬드의 반응온도는 섭씨 300 이상 섭씨 700 미만이고,폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene;PTFE) 용액에서 분산된 상태에서 상기 나노다이아몬드의 입자 크기는 190 내지 220 nm이고,상기 상용 다이아몬드 분말의 크기는 4 마이크로미터 수준이고, 상기 반응가스는 수소(H2)/질소의 혼합 가스(N2), 또는 암모니아 가스 (NH3)인 것을 특징으로 하는 폴리테트라플루오로에틸렌 코팅제의 제조방법
|
5 |
5
삭제
|
6 |
6
삭제
|
7 |
7
삭제
|
8 |
8
제4 항에 있어서,상기 플라즈마 처리는, 진공 용기의 내부에 배치되고 서로 마주보는 상부 전극과 하부 전극을 구비한 플라즈마 장치에서, 상기 하부 전극에 상용 다이아몬드 분말을 배치하고, 상기 하부 전극을 가열하고, 수소 가스를 제공받아 상기 상부 전극에 공급되는 RF 전력에 의하여 형성된 축전 결합 수소 플라즈마에 의하여 수행되는 것을 특징으로 하는 폴리테트라플루오로에틸렌 코팅제의 제조방법
|
9 |
9
제8 항에 있어서,상기 진공 용기의 공정 압력은 50 밀리토르 내지 1000 밀리토르이고,상기 RF 전력은 200 와트 내지 1000 와트이고,상기 하부 전극의 반응 온도는 섭씨 300 도 이상 섭씨 700 도 미만인 것을 특징으로 하는 폴리테트라플루오로에틸렌 코팅제의 제조방법
|
10 |
10
삭제
|