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금속 전구체와 반응하는 반응성 화합물을 포함하는 용액이 채워진 반응조; 및 상기 반응조에서 일어나는 상기 금속 전구체 및 반응성 화합물의 반응 속도를 제어하는 반응 속도 제어부를 포함하며,상기 반응 속도 제어부는 금속 전구체를 포함하는 용액이 20 ml/hr 이하의 유속으로 분사되는 분사 장치이고,상기 금속 전구체와 반응성 화합물의 반응은 하기 일반식 1을 만족하는 반응기:[일반식 1]Rp≥ 1 ㎛/min상기 일반식 1에서, Rp는 Ts 시간 내에, 상기 금속 전구체와 반응성 화합물의 반응물인 입자 크기의 증가 속도를 나타내고,상기 Ts는 상기 입자 크기의 성장이 포화되는 시간을 나타낸다
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제 1 항에 있어서, 분사 장치는, 초음파 진동 분사 장치, 전기 분사 장치 또는 플라즈마 분사 장치인 반응기
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제 1 항에 있어서, 분사 장치는 금속 전구체를 포함하는 용액이 분사되는 노즐 및 상기 용액의 분사 속도를 제어하는 분사 제어부를 포함하는 반응기
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제 1 항에 있어서, 금속 전구체는 금속 나이트레이트, 금속 아세테이트, 및 금속 클로라이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 반응기
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제 1 항에 있어서, 금속은 갈륨, 알루미늄, 인듐, 탈륨, 아연, 구리, 철 및 주석으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 반응기
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제 1 항에 있어서, 반응성 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 반응기:[화학식 1]상기 화학식 1에서, M1은 1족의 금속이고,R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 12의 알킬을 나타낸다
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