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(a) 기판 상에 포토 레지스트 층을 형성하는 단계;(b) 상기 포토 레지스트 층을 미리 결정된 패턴에 따라 노광시키는 단계;(c) 미리 결정된 횟수에 따라 상기 (a) 및 (b) 단계를 반복 수행하여 상기 기판 상에 적층되며 각각 미리 결정된 패턴에 따라 노광이 이루어진 복수 개의 포토 레지스트 층을 형성하는 단계;(d) 상기 복수 개의 포토 레지스트 층 각각을 현상하여 상기 기판 상에 패턴 구조체를 형성하는 단계;(e) 상기 패턴 구조체 노출면 상에 투명성을 갖는 광학 부재를 도포한 후 상기 광학 부재를 경화하는 단계; 및(f) 상기 경화된 광학 부재와 상기 패턴 구조체를 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 기판은 ITO 글래스인 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 포토 레지스트 층은 DFR(Dry Film Resist) 소재로 형성되는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (d) 단계에 이어서,(d1) 상기 패턴 구조체의 노출면 상에 이형성 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 (e) 단계에서,상기 광학 부재는 투명 레진인 것을 특징으로 하는 시야각 제한 필름 제조 방법
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(a) 기판 상에 포토 레지스트 층을 형성하는 단계;(b) 상기 포토 레지스트 층을 미리 결정된 패턴에 따라 노광시키는 단계;(c) 미리 결정된 횟수에 따라 상기 (a) 및 (b) 단계를 반복 수행하여 상기 기판 상에 적층되며 각각 미리 결정된 패턴에 따라 노광이 이루어진 복수 개의 포토 레지스트 층을 형성하는 단계;(d) 상기 복수 개의 포토 레지스트 층 각각을 현상하여 상기 기판 상에 패턴 구조체를 형성하는 단계;(e) 상기 패턴 구조체 노출면 상에 투명성을 갖는 광학 부재를 도포한 후 상기 광학 부재를 경화하는 단계; (f) 상기 경화된 광학 부재와 상기 패턴 구조체를 분리하는 단계; 및(g) 상기 경화된 광학 부재 상에 복수 개의 무기 박막층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 시야각 필름 제조 방법
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제 6항에 있어서,상기 (g) 단계에서,상기 복수 개의 무기 박막층은 순차적으로 적층된 이산화 규소(SiO2)층, 알루미나(Al2O3)층, 및 이산화 타이타늄(TiO2)층을 포함하는 것을 특징으로 하는 시야각 필름 제조 방법
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