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다양한 지지체 표면에 나노 구조 촉매 입자의 직접 합성 방법, 이에 의해 제조된 촉매 구조체(DIRECT SYNTHESIS METHOD OF NANOSTRUCTURED CATALYST ON VARIOUS SUBSTRATES AND CATALYST STRUCTURE PRODUCED BY THE SAME)

  • 기술번호 : KST2017013960
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다양한 지지체 표면에 나노 구조 촉매 입자의 직접 합성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 고온 고압 밀폐형 반응기를 이용한 단일 공정으로 지지체에 다수의 나노구조 촉매 입자가 분산된 촉매 구조체를 형성하는 방법으로, 상기 단일 공정은 상기 고온 고압 밀폐형 반응기에 지지체 및 촉매 소스를 공급하고, 상기 고온 고압 밀폐형 반응기를 완전 밀폐하고, 상기 반응기를 가열하여 상기 반응기 내에 자가 생성된 압력과 합성 온도 하에서 상기 지지체에 상기 다수의 나노구조 촉매 입자가 분산된 촉매 구조체를 형성하고, 상기 반응기 내부의 가스를 제거하여 고온 상압 상태로 만든 후 불활성 가스를 공급하여 상기 반응기 내에 잔존하는 미 반응물 및 부산물을 제거하고, 상기 불활성 가스를 공급하며 상기 반응기를 상온 상태로 냉각시켜 상기 촉매 구조체를 형성하는 것을 포함한다.
Int. CL B01J 37/02 (2006.01.01) B01J 35/02 (2006.01.01) B01J 35/00 (2006.01.01) B01J 19/00 (2018.01.01) B01J 37/16 (2006.01.01) B01J 32/00 (2006.01.01) B01J 23/38 (2006.01.01) B01J 31/12 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020170021649 (2017.02.17)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0097579 (2017.08.28) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020160018209   |   2016.02.17
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020190066249;
심사청구여부/일자 Y (2017.02.17)
심사청구항수 23

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정남조 대한민국 제주시
2 김찬수 대한민국 제주특별자치도 제주시 화삼로 *
3 좌은진 대한민국 제주특별자치도 제주시
4 최지연 대한민국 서울특별시 송파구
5 남주연 대한민국 제주특별자치도 제주시 구
6 박순철 대한민국 제주 제주시 구
7 장문석 대한민국 대전 서구
8 서용석 대한민국 대전광역시 유성구
9 황교식 대한민국 제주특별자치도 제주
10 김한기 대한민국 제주특별자치도 제주시 남광
11 한지형 대한민국 제주특별자치도 제주시 구
12 김태영 대한민국 전라북도 전주시 덕진구
13 윤영기 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김은구 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 **, *층(역삼동, 옥산빌딩)(특허법인(유한)유일하이스트)
2 특허법인(유한)유일하이스트 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 **, *층(역삼동, 옥산빌딩)
3 송해모 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 **, *층(역삼동, 옥산빌딩)(특허법인(유한)유일하이스트)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2017.02.17 수리 (Accepted) 1-1-2017-0166543-18
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2017.12.05 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2017-1211810-73
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2017.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2017-1227310-75
4 [반려요청]서류반려요청(반환신청)서
[Request for Return] Request for Return of Document		 2017.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2017-1227299-59
5 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document		 2017.12.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0177171-77
6 서류반려통지서
Notice for Return of Document		 2017.12.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0178879-51
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2018.05.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0341120-06
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2018.07.18 수리 (Accepted) 1-1-2018-0707514-18
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2018.08.20 수리 (Accepted) 1-1-2018-0818798-37
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2018.09.19 수리 (Accepted) 1-1-2018-0934675-18
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2018-0955805-05
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2018.09.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0955832-27
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
14 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2019.02.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0151368-99
15 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
 2019.03.29 수리 (Accepted) 1-1-2019-0322368-19
16 법정기간연장승인서
 2019.04.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2019-0058219-36
17 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2019.04.05 보정각하 (Rejection of amendment) 1-1-2019-0351110-16
18 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.04.05 수리 (Accepted) 1-1-2019-0351079-98
19 보정각하결정서
Decision of Rejection for Amendment		 2019.05.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0326872-48
20 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2019.05.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0326873-94
21 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2019.06.04 수리 (Accepted) 1-1-2019-0575448-29
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
24 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
고온 고압 밀폐형 반응기를 이용한 단일 공정으로 지지체에 다수의 나노구조 촉매 입자가 분산된 촉매 구조체를 형성하는 방법으로, 상기 단일 공정은 상기 고온 고압 밀폐형 반응기에 지지체 및 촉매 소스를 공급하고, 상기 고온 고압 밀폐형 반응기를 완전 밀폐하고, 상기 반응기를 가열하여 상기 반응기 내에 자가 생성된 압력과 합성 온도 하에서 상기 지지체에 상기 다수의 나노구조 촉매 입자가 분산된 촉매 구조체를 형성하고, 상기 반응기 내부의 가스를 제거하여 고온 상압 상태로 만든 후 불활성 가스를 공급하여 상기 반응기 내에 잔존하는 미 반응물 및 부산물을 제거하고,상기 불활성 가스를 공급하며 상기 반응기를 상온 상태로 냉각시켜 상기 촉매 구조체를 형성하는 것을 포함하는 촉매 구조체 형성 방법
2 2
제1 항에 있어서, 상기 고온 고압 밀폐형 반응기를 완전 밀폐하기 전에 상기 반응기 내의 분위기 형성 가스를 상기 반응기 내에 공급하는 것을 더 포함하는 촉매 구조체 형성 방법
3 3
제1 항에 있어서, 상기 불활성 가스를 공급하며 상기 반응기를 상온 상태로 냉각시키기 전에 산화처리, 환원처리, 도핑처리 또는 이들의 조합을 실시하는 것을 더 포함하는 촉매 구조체 형성 방법
4 4
제3 항에 있어서,상기 산화처리는 불활성 가스와 산소를 포함하는 혼합가스를 공급하고, 상기 환원처리는 불활성 가스와 수소를 포함하는 혼합가스를 공급하고, 상기 도핑처리는 불활성 가스와 암모늄 가스를 포함하는 혼합가스를 공급하는 것인 촉매 구조체 형성 방법
5 5
제2 항에 있어서,상기 반응기 내의 분위기 형성 가스를 상기 반응기 내에 공급하기 전에 상기 반응기내로 불활성 가스를 공급하면서 수분의 기화에 필요한 온도로 승온시키는 단계를 더 포함하고, 상기 불활성 가스의 공급을 중단하고, 상기 고온 고압 밀폐형 반응기를 완전 밀폐하는 것을 포함하는 촉매 구조체 형성 방법
6 6
제1 항에 있어서, 상기 수득된 촉매 구조체에 대해서 산화/환원 처리, 열처리 또는 코팅/도핑 처리를 추가로 더 진행하는 촉매 구조체를 형성하는 방법
7 7
제6 항에 있어서, 상기 수득된 촉매 구조체에 대해서 상기 산화/환원 처리, 열처리 또는 코팅/도핑 처리를 추가로 더 진행하는 것은 상기 밀폐형 반응기를 이용하는 촉매 구조체를 형성하는 방법
8 8
제1 항에 있어서, 상기 다수의 나노구조 촉매 입자의 적어도 일부는 탄소 쉘 또는 도핑된 탄소 쉘에 의해 코팅되어 있는 촉매 구조체를 형성하는 방법
9 9
제8 항에 있어서, 상기 다수의 나노구조 촉매 입자는 적층 구조를 형성하되 인접하는 상기 나노구조 촉매 입자는 서로 상기 탄소 쉘 또는 도핑된 탄소 쉘에 의해 분리되어 상기 나노구조 촉매 입자가 뭉치지 않는 촉매 구조체를 형성하는 방법
10 10
제9 항에 있어서, 상기 적층 구조는 단일 성분의 적층구조, 이원이상 성분의 적층구조, 또는 상기 촉매들의 조합에 의해 형성된 적층 구조인 촉매구조체를 형성하는 방법
11 11
제1 항에 있어서, 상기 지지체는 분말, 박막, 포일, 폼, 메쉬 또는 와이어 형태인 촉매구조체를 형성하는 방법
12 12
제11 항에 있어서, 상기 지지체는 금속이고, 촉매구조체는 Pt나노입자/Si나노입자 지지체, Pt 합금 나노입자/Si 나노입자 지지체, Co나노입자/Si나노입자 지지체, Co나노구조/Si나노입자 지지체, Co나노플라워/Si나노입자 지지체, Pt나노입자/Ti나노입자 지지체, Pt 합금 나노입자/Ti 나노입자 지지체, Pt 합금 나노입자/Zn나노입자 지지체, 또는 MoS2나노구조 /Ti 지지체인 촉매구조체를 형성하는 방법
13 13
제11 항에 있어서, 상기 지지체는 탄소블랙, 그라핀, 도핑된 그라핀, 탄소나노튜브, 탄소나노파이버, 그라파이트, 및 탄소구로 이루어진 그룹에서 선택된 탄소지지체이고, 상기 촉매 구조체는 MoS2나노구조 /상기 탄소 지지체인 촉매구조체를 형성하는 방법
14 14
제1 항에 있어서, 상기 합성되는 상기 나노구조 촉매 입자가 금속-비금속 복합 나노구조 촉매인 촉매구조체를 형성하는 방법
15 15
제14 항에 있어서, 상기 금속-비금속 복합 나노구조 촉매는 MoS2-Pt 나노구조/상기 지지체, MoS2-Pt합금 나노구조/상기 지지체 또는 MoS2쉘-Pt코어 나노구조/상기 지지체, MoS2쉘-Pt합금 코어 나노구조/상기 지지체 구조인 촉매구조체를 형성하는 방법
16 16
제1 항에 있어서,상기 지지체는 육방형 질화 붕소인 촉매구조체를 형성하는 방법
17 17
제1 항에 있어서, 상기 나노구조 촉매 입자는 10 입자/100 nm2 이상의 분산밀도로 상기 지지체 표면에 분산되는 촉매 구조체를 형성하는 방법
18 18
제1 항에 있어서, 상기 나노구조 촉매 입자의 코팅 면적은 상기 지지체 면적의 10% 이상으로 코팅되는 촉매 구조체를 형성하는 방법
19 19
제1 항에 있어서, 상기 나노구조 촉매 입자의 크기는 2nm 이하로 제어가 가능한 촉매 구조체를 형성하는 방법
20 20
제1 항에 있어서, 상기 촉매 소스는 손실 없이 상기 지지체에 상기 다수의 나노구조 촉매 입자가 분산되는데 사용되는 촉매 구조체를 형성하는 방법
21 21
제1 항에 있어서, 상기 촉매 구조체를 형성하는 합성 온도는 20℃ 초과 600℃ 미만이 되도록 하는 촉매 구조체를 형성하는 방법
22 22
제 17항에 있어서, 상기 분산밀도는 상기 촉매소스의 금속 함량, 상기 합성 온도의 제어, 또는 상기 분위기 형성 가스의 제어를 통해 변화시키는 촉매 구조체를 형성하는 방법
23 23
제 18항에 있어서, 상기 코팅 면적은 상기 촉매소스의 금속 함량 또는 상기 합성 온도의 제어를 통해 변화시키는 촉매 구조체를 형성하는 방법
24 24
제 19항에 있어서, 상기 나노구조 촉매 입자의 크기는 상기 합성 온도의 제어, 상기 분위기 형성 가스의 제어, 또는 열처리 조건을 통해 변화시키는 촉매 구조체를 형성하는 방법
25 25
고온 고압 밀폐형 반응기를 이용한 단일 공정으로 지지체에 다수의 나노구조 촉매 입자가 분산된 촉매 구조체를 형성하는 방법으로, 상기 단일 공정은 상기 고온 고압 밀폐형 반응기에 지지체 및 촉매 소스를 공급하고, 상기 고온 고압 밀폐형 반응기를 완전 밀폐하고, 상기 반응기를 가열하여 상기 반응기 내에 자가 생성된 압력과 200 내지 500도의 합성 온도 하에서 상기 지지체에 상기 다수의 나노구조 촉매 입자가 분산된 촉매 구조체를 형성하는 것을 포함하는 촉매 구조체 형성 방법
26 26
제 1항에 의하여 합성되고, Pt나노입자/Si나노입자 지지체, Pt 합금 나노입자/Si 나노입자 지지체, Co나노입자/Si나노입자 지지체, Co나노플라워/Si나노입자 지지체, Pt나노입자/Ti나노입자 지지체, Pt 합금 나노입자/Ti 나노입자 지지체, Pt 합금 나노입자/Zn 나노입자 지지체, MoS2나노구조 /Ti 지지체 형태의 촉매구조체
27 27
제 1항에 의하여 합성되고, 상기 지지체는 탄소블랙, 그라핀, 도핑된 그라핀, 탄소나노튜브, 탄소나노파이버, 그라파이트, 및 탄소구로 이루어진 그룹에서 선택된 탄소지지체이고, MoS2나노구조 /상기 탄소 지지체인 촉매구조체
28 28
제 1항에 의하여 합성되고, 상기 지지체가 육방형 질화 붕소인 촉매 구조체
29 29
제1 항에 의하여 합성되고, 상기 지지체에 금속-비금속 복합 나노구조 촉매가 분산된 촉매구조체
30 30
제29 항에 있어서, 상기 촉매구조체는 MoS2-Pt 나노구조/상기 지지체, MoS2-Pt합금 나노구조/상기 지지체, MoS2쉘-Pt코어 나노구조/상기 지지체, 또는 MoS2쉘-Pt합금 코어 나노구조/상기 지지체인 촉매구조체
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2 EP03207991 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
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6 US20170232431 US 미국 FAMILY

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5 KR20190065997 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
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1 미래창조과학부 한국에너지기술연구원 주요사업(구. 기본사업) 염분차발전 핵심원천기술 개발