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펄스 마이크로파를 이용한 저온 플라즈마 발생 장치 및 방법(Low temperature plasma source by using pulse microwave)

  • 기술번호 : KST2017013980
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 펄스 마이크로파를 이용한 저온 플라즈마 발생 장치는 신호 발생기, 펄스 모드 전력 증폭기 및 플라즈마 발생기를 포함하며, 전력 발진기 또는 신호 발생기의 출력단에 펄스 모드로 동작하는 전력 증폭기를 연결되고, 펄스 모드 전력 증폭기의 출력단에는 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생기를 연결된다. 펄스 모드 전력 증폭기는 마이크로파 대역의 전력 증폭기를 펄스 모드로 동작시 소자의 게이트 단에 상기 신호 발생기로부터 사각파, 톱니파, 사인파 중 어느 하나의 펄스파 전압을 공급한다. 신호 발생기는 펄스 슬립 시간 동안 마이크로파 전력(PB)을 만들기 위해 상기 펄스 모드 전력 증폭기의 게이트 단에 펄스파 전압을 공급 시 펄스 슬립 시간 동안에 전압(VB)이 존재하도록 한다. 신호 발생기는 상기 펄스 모드 전력 증폭기의 게이트 단에 입력하는 펄스 신호의 펄스 반복 주파수를 변화시켜, 플라즈마의 온도 및 특성을 조절한다. 펄스 모드 전력 증폭기는 300MHz~40GHz 대역의 고출력 고주파에서 50W의 높은 펄스 피크 전력에서도 섭씨 40℃ 이하의 저온의 특성을 갖는 플라즈마를 발생시키며, 이 펄스 모드 전력 증폭기를 이용한 플라즈마를 통해 치과 치료용 치아세균을 살균하거나 또는 의료용 마이크로파 플라즈마로 사용된다.
Int. CL H05H 1/46 (2017.08.25)
CPC
출원번호/일자 1020170101954 (2017.08.10)
출원인 광운대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0098740 (2017.08.30) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2015-0149035 (2015.10.26)
관련 출원번호 1020150149035
심사청구여부/일자 Y (2017.08.10)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광운대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 노원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최진주 대한민국 서울특별시 노원구
2 이한슬 대한민국 서울특별시 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이여송 대한민국 서울시 강남구 테헤란로 *** 포스코P&S타워 **층(아이피드림)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2017.08.10 수리 (Accepted) 1-1-2017-0774450-10
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2017.08.22 수리 (Accepted) 1-1-2017-0811613-68
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.08.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0813009-47
4 보정요구서
Request for Amendment
2017.08.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0116732-17
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.11.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0778762-89
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.01.04 수리 (Accepted) 1-1-2018-0013814-77
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.01.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0013815-12
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.05.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0323507-49
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2018.06.04 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-0547746-95
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.06.04 수리 (Accepted) 1-1-2018-0547664-49
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.07.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0460713-73
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번호 청구항
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연속파(Continuous Wave)를 갖는 마이크로파를 생성하는 전력 발진기; 펄스 모드 전력 증폭기의 게이트(Gate)에 연결되며, 펄스 모드로 전력 증폭기를 동작시키기 위해 사각파, 톱니파, 사인파 중 어느 하나의 펄스 전압을 인가하는 신호 발생기; 상기 전력 발진기로부터 연속파(Continuous Wave)를 입력받고, 펄스 신호의 펄스 반복 주파수(Pulse Repetition Frequency)를 조절하여 상기 신호 발생기로부터 사각파, 톱니파, 사인파의 전압을 게이트(Gate)로부터 입력받아 증폭하며 증폭된 피크 펄스 전력(PA)을 갖는 펄스파(Pulse Wave)를 생성하는 펄스 모드 전력 증폭기; 및 상기 펄스 모드 전력 증폭기로부터 사각파, 톱니파, 사인파를 갖는 펄스 신호의 펄스 반복 주파수(Pulse Repetition Frequency)가 조절된 펄스파(Pulse Wave)를 인가 받아 플라즈마의 온도를 조절하도록 300MHz~40GHz 대역의 고출력 고주파에서 50W의 높은 펄스 피크 전력에서도 섭씨 40℃ 이하의 저온의 특성을 갖는 펄스파 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 생성기를 포함하며, 상기 신호 발생기는 펄스 슬립 시간 동안 마이크로파 전력(PB)을 만들기 위해 상기 펄스 모드 전력 증폭기의 게이트 단에 펄스파 전압을 공급 시 펄스 슬립 시간 동안에 전압(VB)이 존재하도록 하며, 상기 펄스 모드 전력 증폭기는 상기 펄스파 플라즈마를 유지하기 위하여 펄스 슬립 시간에 마이크로파 전력(PB)이 존재하도록 하며, 상기 신호 발생기는 상기 펄스 모드 전력 증폭기의 게이트 단에 입력하는 펄스 신호의 펄스 반복 주파수를 변화시켜, 플라즈마의 온도 및 특성을 조절하며, 펄스파의 펄스폭이 낮아지면 펄스폭 시간에 따른 평균 전력이 낮아지며 이에 따라 플라즈마 온도가 낮아지며, 펄스 마이크로파를 이용한 저온 플라즈마 발생 장치는 50W 정도의 높은 펄스 피크 전력에서도 섭씨 40℃ 이하의 낮은 온도를 갖는 펄스파 플라즈마를 만드는 것을 특징으로 하는 펄스 마이크로파를 이용한 저온 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서, 상기 펄스 모드 전력 증폭기는 마이크로파 대역의 전력 증폭기를 펄스 모드로 동작시 소자의 게이트 단에 상기 신호 발생기로부터 사각파, 톱니파, 사인파 중 어느 하나의 펄스파 전압을 공급하는 것을 특징으로 하는 펄스 마이크로파를 이용한 저온 플라즈마 발생 장치
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전력 발진기에 의해 연속파(Continuous Wave)를 갖는 마이크로파를 생성하는 단계; 신호 발생기에 의해 사각파, 톱니파, 사인파 중 어느 하나의 펄스 전압을 펄스 모드 전력 증폭기의 게이트(Gate)로 인가하는 단계; 상기 전력 발진기로부터 연속파(Continuous Wave)를 입력받고, 펄스 신호의 펄스 반복 주파수(Pulse Repetition Frequency)를 조절하여 상기 신호 발생기로부터 사각파, 톱니파, 사인파의 전압을 게이트(Gate)로부터 입력받아 펄스 모드 전력 증폭기에 의해 증폭하며 증폭된 피크 펄스 전력(PA)을 갖는 펄스파(Pulse Wave)를 생성하는 단계; 및 상기 펄스 모드 전력 증폭기로부터 사각파, 톱니파, 사인파를 갖는 펄스 신호의 펄스 반복 주파수(Pulse Repetition Frequency)가 조절된 펄스파(Pulse Wave)를 입력받아 플라즈마의 온도를 조절하도록 플라즈마 발생기에 의해 300MHz~40GHz 대역의 고출력 고주파에서 50W의 높은 펄스 피크 전력에서도 섭씨 40℃ 이하의 저온의 특성을 갖는 펄스파 플라즈마를 발생시키는 단계를 포함하며, 상기 신호 발생기는 펄스 슬립 시간 동안 마이크로파 전력(PB)을 만들기 위해 상기 펄스 모드 전력 증폭기의 게이트 단에 펄스파 전압을 공급 시 펄스 슬립 시간 동안에 전압(VB)이 존재하도록 하며, 상기 펄스 모드 전력 증폭기에서 상기 펄스파 플라즈마를 유지하기 위하여 펄스 슬립 시간에 마이크로파 전력(PB)이 존재하도록 하며, 상기 신호 발생기에 의해 상기 펄스 모드 전력 증폭기의 게이트 단에 입력하는 펄스 신호의 펄스 반복 주파수를 변화시켜, 플라즈마의 온도 및 특성을 조절하는 것을 특징으로 하는 펄스 마이크로파를 이용한 저온 플라즈마 발생 방법
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제3항에 있어서, 상기 펄스 모드 전력 증폭기는 마이크로파 대역의 전력 증폭기를 펄스 모드로 동작시 소자의 게이트 단에 상기 신호 발생기로부터 사각파, 톱니파, 사인파 중 어느 하나의 펄스파 전압을 공급하는 것을 특징으로 하는 펄스 마이크로파를 이용한 저온 플라즈마 발생 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR1020170048099 KR 대한민국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
DOCDB 패밀리 정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.