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탄탈륨을 포함하는 스크랩을 준비하는 단계;상기 스크랩을 세척하는 단계;상기 스크랩을 분쇄하는 단계; 상기 스크랩을 열처리하여 금속 불순물을 기화시키고, 탄탈륨 잉곳을 수득하는 단계;상기 탄탈륨 잉곳 표면에 기체 상태의 염화수소(HCl)를 접촉시켜, 기체 상태의 염화탄탈륨을 생성하는 단계; 및상기 기체 상태의 염화탄탈륨을 응축; 또는 응축 및 응고;시켜 염화탄탈륨을 수득하는 단계;를 포함하는염화탄탈륨 제조 방법
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제 1항에서,상기 탄탈륨을 포함하는 스크랩은,Cr, Fe, 및 Ti 중 1종 이상을 금속 불순물로서 포함하는 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 2항에서,상기 탄탈륨을 포함하는 스크랩은,Cr 0
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제 1항에서,상기 탄탈륨을 포함하는 스크랩은,탄탈륨을 선삭 가공하는 과정에서 발생하는 스크랩인 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 1항에서,상기 스크랩을 열처리하여 금속 불순물을 기화시키고, 탄탈륨 잉곳을 수득하는 단계;의열처리 온도는,3200℃ 이상, 및 3500℃ 이하인 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 1항에서,상기 스크랩을 열처리하여 금속 불순물을 기화시키고, 탄탈륨 잉곳을 수득하는 단계;는,10-5torr 이상, 및 10-3torr의 진공도에서 수행되는 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 1항에서,상기 스크랩을 열처리하여 금속 불순물을 기화시키고, 탄탈륨 잉곳을 수득하는 단계;는,3회 이상, 및 5회 이하로 반복하여 수행되는 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 1항에서,상기 스크랩을 세척하는 단계;는,상기 스크랩을 휘발성 유기 용매에 침지시켜 초음파 처리함으로써 수행되는 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 8항에서,상기 휘발성 유기 용매는,메탄올(Methanol), 에탄올(Ethanol), 에틸 에테르(Ethyl Ether), 아세톤(Acetone), 또는 이들의 조합을 포함하는 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 1항에서,상기 스크랩을 세척하는 단계; 이후에, 상기 스크랩을 산을 이용하여 세척하는 단계;를 더 포함하는 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 1항에서,상기 스크랩을 분쇄하는 단계;에서, 상기 스크랩을 입경이 1cm 이상, 및 5cm 이하로 분쇄하는 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 1항에서,상기 탄탈륨 잉곳 표면에 기체 상태의 염화수소(HCl)를 접촉시켜, 기체 상태의 염화탄탈륨을 생성하는 단계;는,하기 반응식 1의 반응에 의해 수행되는 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 1항에서,상기 탄탈륨 잉곳 표면에 기체 상태의 염화수소(HCl)를 접촉시켜, 기체 상태의 염화탄탈륨을 생성하는 단계;는,239
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제 1항에서,상기 기체 상태의 염화탄탈륨을 응축; 또는 응축 및 응고;시켜 염화탄탈륨을 수득하는 단계;는65℃ 이상, 및 239
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제 1항에서,상기 탄탈륨 잉곳 표면에 기체 상태의 염화수소(HCl)를 접촉시켜, 기체 상태의 염화탄탈륨을 생성하는 단계; 이전에,염화수소(HCl) 수용액을 기화시키는 단계;를 더 포함하는 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 15항에서,상기 염화수소(HCl) 수용액을 기화시키는 단계;에서,상기 염화수소 수용액 전체 중량 100중량% 에 대한 염화수소의 함량은,20중량% 이상, 및 35중량% 이하인 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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제 15항에서,상기 염화수소(HCl) 수용액을 기화시키는 단계;는,239
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제 1항에서,미반응 염화수소(HCl)을 회수하는 단계;를 더 포함하는 것인,염화탄탈륨 제조 방법
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